「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

At this time, vapor-deposition conditions are preferably that transmissivity is 70% and reflectivity is 30%.例文帳に追加

この際の蒸着条件としては透過率７０％、反射率３０％が好ましい。 - 特許庁

AUSTENITIC STAINLESS STEEL FOIL FOR VAPOR DEPOSITION SUBSTRATE OF HIGH-TEMPERATURE SUPERCONDUCTING MATERIAL AND ITS PRODUCTION METHOD例文帳に追加

高温超伝導材料の蒸着基板用オーステナイト系ステンレス鋼箔とその製造方法 - 特許庁

HIGH DENSITY PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT USING IT例文帳に追加

高密度プラズマ化学気相蒸着装置及びそれを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁

The metal layer 2 is formed by vacuum vapor-deposition and comprises a plurality of copper particles.例文帳に追加

金属層２は、真空蒸着によって形成され、複数の銅粒子により構成される。 - 特許庁

The vapor deposition film is formed by laminating, for example, an Al_2O_3 layer, a ZrO_2 layer, and an SiO_2 layer.例文帳に追加

蒸着膜は、例えばＡｌ_2Ｏ_3層、ＺｒＯ_2層、ＳｉＯ_2層が積層されたものである。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION METHOD OF NITRIDE SEMICONDUCTOR, EPITAXIAL SUBSTRATE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

窒化物系半導体の気相成長方法、及び、エピタキシャル基板とそれを用いた半導体装置 - 特許庁

METHOD OF FORMING COPPER INTERCONNECTION AND THIN FILM USING CATALYST AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加

触媒及び化学気相蒸着法を用いて銅配線及び薄膜を形成する方法 - 特許庁

The plasma for vapor deposition 10 is generated and maintained with the irradiation of the ion beam 9.例文帳に追加

イオンビーム９の照射によって蒸着用プラズマ１０の生成および維持が行われる。 - 特許庁

To provide an apparatus by which lithium thin film deposition can be performed safely by a vapor-phase process.例文帳に追加

気相法により安全にリチウム薄膜形成を行うことのできる装置を提供する。 - 特許庁

By using such chemical vapor deposition system, carbon nanotubes can be synthesized in a large amount.例文帳に追加

このような化学気相蒸着装置を用いてカーボンナノチューブを大量に合成することができる。 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD OF GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR LAYER AND GROUP III NITRIDE SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

ＩＩＩ族窒化物半導体層の気相成長方法及びＩＩＩ族窒化物半導体素子 - 特許庁

Hard mask fabrication for magnetic random access memory elements using focused ion beam assisted selective chemical vapor deposition. 例文帳に追加

集中イオンビーム補助選択的化学蒸着を利用した磁気RAM素子のためのハードマスク製造。 - コンピューター用語辞典

To provide a vapor deposition apparatus which can suppress the leakage of gas from a supply pipe.例文帳に追加

供給管からのガスの漏れを抑制することのできる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To uniformize the distribution of film thickness at the time of forming a thin film by a vacuum vapor deposition device.例文帳に追加

真空蒸着装置により薄膜を形成するに際して膜厚分布を均一する。 - 特許庁

To provide sufficient electric discharge preventing effect by a vapor deposition film formed on the inside wall of a neck part.例文帳に追加

ネック部の内壁に形成された蒸着膜によって充分な放電防止効果を得ること。 - 特許庁

The coloring matter has a high decomposition temperature, which is advantageous in various kinds of baking processes and vapor deposition processes.例文帳に追加

また分解温度が高いため、各種ベークプロセスや真空蒸着プロセスにおいて有利である。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus 10 has a first treatment container 100 and a second treatment container 200.例文帳に追加

蒸着装置１０は、第１の処理容器１００と第２の処理容器２００とを有している。 - 特許庁

A strip-shaped conductor 2 is formed by applying metal vapor deposition to a strip-shaped insulator 1.例文帳に追加

帯状の絶縁体１に金属蒸着を施し、帯状の導電体２を形成する。 - 特許庁

To provide a scientific method for producing boron carbonitride having excellent productivity in place of CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

ＣＶＤ法に代わる生産性に優れた炭窒化硼素の科学的製造方法を提供する。 - 特許庁

FORMATION METHOD OF VAPOR-DEPOSITED FILM AND DEPOSITION APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF ORGANIC LUMINESCENT DISPLAY例文帳に追加

蒸着膜の形成方法および蒸着装置、並びに有機発光ディスプレイの製造方法 - 特許庁

To provide an organic EL device manufacturing apparatus which can convey a substrate in a vacuum environment by setting its vapor-deposition surface as an upper surface in a simple mechanism and perform vapor-deposition during upper surface conveyance in high accuracy, a method for manufacturing an organic EL device, a film deposition device, or a film deposition method.例文帳に追加

真空内を機構が簡単で基板の蒸着面を上面にして搬送ができ、前記上面搬送においても高精彩に蒸着可能な有機ＥＬデバイス製造装または同製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a film deposition device capable of depositing a vapor deposition film with a uniform film thickness on the inner surface of a hollow vessel by a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) method without depending on its shape and size, and to provide a thin film deposition method to the inner face of a hollow vessel.例文帳に追加

本発明は、中空容器の形状や大きさにかかわらず、その内表面に均一な膜厚の蒸着被膜をプラズマＣＶＤ法により成膜することを可能とする成膜装置および中空容器内面への薄膜成膜方法の提供を目的とする。 - 特許庁

The vacuum film deposition apparatus 10 is provided with a vacuum chamber 12 with an object 13 for film deposition being arranged therein, a crucible 19 for storing a vapor deposition material 20, and a pressure gradient type plasma gun 11 for applying plasma beam 22 toward the vapor deposition material 20 in the crucible 19.例文帳に追加

真空成膜装置１０は、被成膜体１３が配置された真空チャンバー１２と、蒸着性材料２０を収納するるつぼ１９と、プラズマビーム２２をるつぼ１９内の蒸着性材料２０に向けて照射する圧力勾配型プラズマガン１１とを備えている。 - 特許庁

In a vacuum deposition device in which an element substrate is arranged on a vapor deposition mask, and evaporation sources 41, 42 are arranged at a lower part of the vapor deposition mask, a sheet shutter 60 is arranged to cover the evaporation source 41, 42, and vacuum deposition is carried out to the element substrate through an opening 61 of the sheet shutter 60.例文帳に追加

蒸着マスクの上に素子基板が配置され、蒸着マスクの下方に蒸発源４１、４２が配置された真空蒸着装置において、蒸発源４１、４２を覆って、シートシャッター６０を配置し、シートシャッター６０の開口部６１を通して素子基板に真空蒸着する。 - 特許庁

A ZnO sintered compact containing 0.1 to 15 mass% rare earth elements is used for a vapor deposition material, and film deposition is performed by a reactive vapor deposition process in an oxygen gas flow rate of 0 to 500 sccm and at a film deposition rate of 0.5 to 5.0 nm/s, so as to deposit a ZnO film having high moisture resistance.例文帳に追加

希土類元素を０．１〜１５質量％含むＺｎＯ焼結体を蒸着材に用い、反応性プラズマ蒸着法により酸素ガス流量０〜５００ｓｃｃｍ、成膜速度０．５〜５．０ｎｍ／秒で成膜を行い、高耐湿性のＺｎＯ膜を成膜する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition source which ensures uniform thickness of a film to be deposited, and high film deposition efficiency, and for which various kinds of film deposition material can be applied, and its film deposition method.例文帳に追加

本発明は、形成される膜厚が均一であり、成膜効率が高く、さらに種々の成膜材料を適用することが可能な蒸着源、およびその成膜方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thus, the plasma 1301 is generated in the deposition chamber 1303; the deposit that has adhered to a deposition chamber inner wall; and an adhesion preventing shielding 1305 or the vapor deposition mask 1302a is evaporated and exhausted to the outside of the deposition chamber.例文帳に追加

こうして、成膜室１３０３内にプラズマ１３０１を発生させ、成膜室内壁、防着シールド１３０５、または蒸着マスク１３０２ａに付着した蒸着物を気化させて成膜室外に排気する。 - 特許庁

In a vacuum vapor deposition apparatus, a vapor-deposited film is formed on a metal substrate 3, and at the same time, a vapor-deposited film is formed on a first transparent film substrate 6 and a second transparent film substrate 9, respectively.例文帳に追加

真空蒸着装置において、金属基板３に蒸着膜を形成すると同時に、第１の透明フィルム基板６と第２の透明フィルム基板９に蒸着膜を形成する。 - 特許庁

Inner peripheral surfaces of the front end lens frame 33 and the lens holder 37 are disposed with thin film sections 10 made of a vapor deposition material such as nickel or copper which is vapor-deposited by physical vapor-phase growth method.例文帳に追加

先端レンズ枠３３及びレンズホルダ３７の内周面にはニッケルや銅による蒸着物質を物理気相成長法により蒸着した薄膜部１０を設けている。 - 特許庁

The apparatus for collecting condensed vapor during physical vapor deposition, includes a case configured to be disposed adjacent to one or more vapor sources in a vacuum chamber.例文帳に追加

物理蒸着中に、凝縮した蒸気を収集するための装置は、真空チャンバ内の１つ以上の蒸気源に隣接して配置されるように構成された筐体を備える。 - 特許庁

To provide an apparatus for forming fine particles, wherein a vapor deposition material is deposited without forming a lump on the surface of the body to be vapor-deposited.例文帳に追加

被蒸着体の表面に塊（ダマ）を形成させずに、蒸着材を付着することができる微粒子形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus, which highly accurately controls the temperature of a base material to have a desired diameter of fine particles to be vapor-depositioned.例文帳に追加

蒸着する微粒子の粒径を所望の大きさにコントロールするため、基材の高精度温度制御可能な蒸着装置を提供する。 - 特許庁

A vapor produced by vaporizing or subliming a vapor deposition material by heating is discharged so as to be a belt shape from a long-length nozzle opening 2.例文帳に追加

蒸着材料を加熱により気化または昇華させることで生成された蒸気が長尺のノズル開口２より帯状に吐出される。 - 特許庁

In the method where, using a hollow cathode type plasma gun 3, plasma-assisted vapor deposition is performed to a film substrate 9 conveyed on a vapor deposition drum 5, at a preliminary stage before a vapor deposition material is vapor-deposited on the film substrate 9, electrons are taken out from the plasma by an electron acceleration electrode 2, and the substrate 9 is electrified with the electrons.例文帳に追加

ホローカソード型プラズマガン３を使用して、蒸着ドラム５上を搬送させているフィルム基板９にプラズマアシスト蒸着を行う方法は、フィルム基板９に蒸着材料を蒸着させる前段に電子加速電極２によりプラズマ中から電子を取出し、該電子でフィルム基板９を帯電させることを特徴とする。 - 特許庁

The vapor deposition material for an organic device, used for manufacture of the organic device, is one sublimed and refined vapor by forming an organic layer through vapor deposition based on a flash vapor deposition method, with an average particle diameter expressed in D50% of 10-200 μm, and a uniformity expressed in D60% diameter/D10% diameter of 1.0-4.0.例文帳に追加

有機デバイス用蒸着材料が、有機デバイスの製造に用いられ、フラッシュ蒸着法により蒸着させて有機層を形成し、昇華精製された蒸着材料であって、Ｄ５０％で表される平均粒径が１０μｍ〜２００μｍであり、かつ、Ｄ６０％径／Ｄ１０％径で表される均一度が１．０〜４．０であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a laminated vapor deposition film which is prevented from being cracked or lowered in barrier properties caused by bending being the defect of a conventional ceramic vapor-deposited film by forming a layer comprising an aqueous dispersion of an ethylene/unsaturated carboxylic acid copolymer using an amine as a dispersing solvent on the vapor deposition layer of a plastic film wherein the ceramic vapor deposition layer is provided on a base material.例文帳に追加

基材上にセラミックの蒸着層を有するプラスチックフィルムの蒸着層面上に、アミンを分散媒とするエチレン・不飽和カルボン酸共重合体の水性分散体の層を形成することによって、従来のセラミック蒸着フィルムの欠点である、屈曲によるひび割れやバリア性の低下を防止した積層蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

The apparatus includes: the hollow cathode type plasma gun 3 for performing plasma-assisted vapor deposition; the vapor deposition drum 5 conveying the film substrate 9; and the electron acceleration electrode 2, at a preliminary stage before the vapor deposition material is vapor-deposited on the film substrate 9, for taking out electrons from the plasma so as to electrify the film substrate 9 with the electrons.例文帳に追加

装置としては、プラズマアシスト蒸着を行うためのホローカソード型プラズマガン３と、フィルム基板９を搬送する蒸着ドラム５と、フィルム基板９に蒸着材料を蒸着させる前段にプラズマ中から電子を取出し該電子でフィルム基板９を帯電させるための電子加速電極２を有することを特徴とする。 - 特許庁

In the liquid crystal panel having a liquid crystal layer sealed between a pair of substrates W with alignment films formed thereon, the alignment film comprises an oblique vapor deposition film of an inorganic material, and is formed by depositing a second vapor deposition film 4b on a first vapor deposition film 4a, with the orientation directions of the vapor deposited particles 4 perpendicular to each other.例文帳に追加

配向膜が形成された一対の基板Ｗ間に液晶層を封止してなる液晶パネルにおいて、その配向膜が、無機材料の斜方蒸着膜からなると共に、第１の蒸着膜４ａ上に第２の蒸着膜４ｂを積層してなるもので、各蒸着分子４の配向方向が略垂直となるように積層されている。 - 特許庁

The plurality of vapor deposition heads 125 are moved between the storage position and the film deposition position for blowing the film deposition material conveyed through the plurality of connection pipes 150 toward a substrate G.例文帳に追加

複数の蒸着ヘッド１２５は、複数の連結管１５０を搬送した成膜材料を基板Ｇに向けて吹き出すために収納位置と成膜位置との間を移動する。 - 特許庁

The first film deposition mechanism 35 deposits, for example, the first layer on the substrate by vapor deposition, and the second film deposition mechanism 36 deposits, for example, the second layer on the substrate by sputtering.例文帳に追加

第１成膜機構３５は、例えば基板に第１の層を蒸着によって成膜させ、第２成膜機構３６は、例えば基板に第２の層をスパッタリングによって成膜させる。 - 特許庁

The maximum flying distance of the film deposition material is controlled so as to be shorter than the mean free path of the film deposition material, and the internal pressure of the vapor deposition system 10 is controlled to be ≤0.01 Pa.例文帳に追加

また、成膜材料の最長飛距離は、成膜材料の平均自由工程よりも短くなるように蒸着装置１０の内部圧力を０．０１Ｐａ以下に制御する。 - 特許庁

A method is provided, which improves the uniformity of the deposition rate of the chemical vapor deposition (CVD) of a film when a large number of substrates are continuously and successively processed in a deposition chamber.例文帳に追加

我々は、多くの基板が堆積チャンバ内で連続して順に処理される場合に、膜の化学気相堆積（ＣＶＤ）の堆積速度の均一性を改善する方法を有する。 - 特許庁

To provide a film deposition method and an apparatus therefor by which a film deposition can be performed with film deposition patterns different for every film layer when a plurality of vapor-deposited films are formed on the surface of a substrate in a chamber.例文帳に追加

チャンバ内で基板表面に複数の蒸着膜を形成する際に、膜層毎に異なる成膜パターンで膜形成することが可能な成膜方法及び装置を提供する。 - 特許庁

For example, a deposition method is disclosed about a chemical vapor deposition or an atomic layer deposition in a metal-containing film such as a metallic silicide film and a metallic oxynitride silicon film.例文帳に追加

例えば金属ケイ酸塩又は金属酸窒化ケイ素の膜のような金属含有膜の化学気相成長又は原子層成長による堆積法が本書に開示されている。 - 特許庁

A positioning of a mask 14 and a substrate 20 is conducted inside a deposition chamber 1, and the substrate 20 and a vapor deposition source 11 are moved relatively to conduct a deposition of the organic compound layer.例文帳に追加

成膜室１の内部において、マスク１４と基板２０との位置合わせを行い、続いて、基板２０と相対的に蒸着源１１を移動させて有機化合物層の成膜を行う。 - 特許庁