「BEFORE PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(33ページ目) - Weblio英語例文検索

For more details on network programming, consult a book such as W. Richard Steven's UNIX Network Programming or Ralph Davis's Win32 Network Programming.These four classes process requests synchronously; each request must be completed before the next request can be started.例文帳に追加

ネットワークプログラミングについての詳細は、W. Richard Steven 著 UNIX Network Programmingや、 Ralph Davis 著 Win32 Network Programming のような書籍を参照してください。 これらの 4 つのクラスは要求を 同期的に (synchronously) 処理します; 各要求は次の要求を開始する前に完結していなければなりません。 - Python

To provide a reverse cell type ice maker in which water is sprayed onto the surface of a water pan in order to eliminate adhesion of ice to the water pan upon finishing ice making before entering a process for separating ice blocks by inclining the water pan.例文帳に追加

逆セル型製氷機の製氷の終了後に水皿の表面に散水し、前記水皿への氷の付着を無くしてからこの水皿を傾動させる離氷工程に入るようにした逆セル型製氷機を提供する。 - 特許庁

A processing control unit and a start-position movement amount correction unit sequentially determine, as a sample in a start position of a compression process in a time axis domain of the audio signal, a (multiple of N)-th sample from a start position immediately before the start position.例文帳に追加

処理制御部と開始位置移動量補正部は、オーディオ信号の時間軸領域における圧縮処理の開始位置のサンプルとして、その開始位置の１つ前の開始位置からＮの倍数番目のサンプルを順次決定する。 - 特許庁

To provide a novel composite material applicable to a heat exchanger for example and manufacturable in a process simpler than before, and also to provide a plate type heat exchanger using the composite material as well as its brazing method.例文帳に追加

熱交換器等に適用可能な新たな複合材とそれを用いたプレート式熱交換器の提供すると共に、及び従来よりも簡単な製造工程で製造が可能な複合材及び複合材のロウ付け方法の提供する。 - 特許庁

To provide an impact sensor unit for early detection of the anomaly of a machine part by inspecting damage-causing impact received in assembly processes, transport process, etc. for the machine part, before the machine part is built into a mechanical device.例文帳に追加

機械部品の組立工程、輸送工程等で受けたの損傷の原因となる衝撃を、機械部品が機械装置に組み込まれる前に検査可能として、機械部品の異常を早期に検出できる衝撃センサユニットを提供する。 - 特許庁

Provided is a manufacturing method for a carrier core material for an electrophotographic developer comprising a step of carrying out a drying process for reducing the residual moisture content of the granulated substance before sintering after having a slurry including a predetermined material powder processed into a granulated substance.例文帳に追加

所定の原料粉を含むスラリーを造粒物とした後、焼結する前に、当該造粒物の残留水分を低減する乾燥処理を行う電子写真現像剤用キャリア芯材の製造方法を提供する。 - 特許庁

A protection film 7 is arranged on a substrate 2 for crystal growth for covering the light emission surface from which the light of a light emitting layer 3 is emitted before a process for forming the scribe groove ST for dividing each light emitting element 1 through the use of the laser.例文帳に追加

個々の発光素子１を分離するためのスクライブ溝ＳＴをレーザを用いて形成する工程の前に、結晶成長用基板２において発光層３の光が出射する出射面を覆う保護膜７を設ける。 - 特許庁

Before the heat treatment, an annular groove 2b is formed in a portion corresponding to an oil hole 7 of the track 2a of the outer ring 2 so as to prevent intermittent cutting from occurring owing to the oil hole 7 in the cutting process of the track after the heat treatment.例文帳に追加

熱処理前において、外輪２の軌道２ａの油孔７に対応する部分に環状溝２ｂを形成して、熱処理後の軌道の旋削工程において油孔７により断続切削が生じるのを回避した。 - 特許庁

A RAM transfer process unit 12 reads a program in a block to be protected within the Flash module 20 before responding to access from the CPU core 30, and transfers the program to a Protect-RAM 11 which is the same size as each block.例文帳に追加

ＲＡＭ転送処理部１２は、Ｆｌａｓｈモジュール２０内の保護対象ブロックのプログラムをＣＰＵコア３０からのアクセスに応じる前に読み出して、各ブロックと同一サイズのＰｒｏｔｅｃｔ−ＲＡＭ１１に転送する。 - 特許庁

The process includes incorporating a wireless device between the edge portions of the film(s) before or during sealing so that the wireless device becomes permanently sealed into the film material but is isolated from both the bag interior and the outside environment.例文帳に追加

無線装置がフィルム材料の中に恒久的に密封された状態になりかつ袋の内部からも外部環境からも離隔されるように、封着前または封着中に無線装置をフィルムの縁部分同士の間に組み込む。 - 特許庁

When the printing proceeds to the predetermined position, the processing speed control part 21 delays a development process for image data for printing by a developing part 14 so as to prevent images of the terminal end side from being generated before the paper size is judged.例文帳に追加

処理速度制御部２１は、所定位置まで印刷が進んだ場合には、用紙サイズが判定される前に終端側のイメージが生成されないように、展開部１４による印刷用イメージデータの展開処理を遅らせる。 - 特許庁

The surface shape measurement system for measuring the uneven shape 11, generated on the curved surface of the measurement object, is constituted of a process of measurement of the surface shapes 1 and 2, corresponding to before and after generation of the unevenness, and of extracting the shape of unevenness by comparing the before and after the measurements.例文帳に追加

被測定物における曲面表面上に発生した凹凸１１の形状を計測する表面形状測定システムにおいて、凹凸の発生する以前と以後における表面形状１，２をそれぞれ測定し、測定した以前と以後の表面形状を比較し、表面形状の比較によって発生した凹凸の形状を抽出する構成とする。 - 特許庁

To provide a slow curing photo-setting type adhesive with low viscosity before light irradiation, capable of maintaining a liquid state (state before reaching to gel point) for a period necessary to positioning or the like of the subjects to be adhered, for example 5-30 minutes, and has sufficiently high viscosity at the gel point, and an adhesive process using the adhesive.例文帳に追加

光照射前の粘度が低く、かつ、光照射後の液状態（ゲル化点に達する前の状態）を被着体同士の位置あわせ等に必要な時間、例えば５〜３０分間、持続することができ、かつゲル化点における粘度が充分高い遅硬性の光硬化型接着剤及びそれを用いた接着方法を提供すること。 - 特許庁

In the process, when the ball wins the left electric tulip before the right tulip 9, the maximum frequency of opening or closing the attacker 16 is fixed (for example, ten times) or when the right electric tulip 9 is won by the the ball before the left tulip 8, the maximum frequency of opening or closing the attacker 16 is determined by the lottery.例文帳に追加

その際、右電動チューリップ９よりも先に左電動チューリップに玉が入賞した場合には、アタッカー１６の最大開閉回数は一定（たとえば１０回）とされ、左電動チューリップ８よりも先に右電動チューリップ９に玉が入賞した場合には、アタッカー１６の最大開閉回数は抽選により決定される。 - 特許庁

To provide a hot rolling method for an Si-containing steel where scale formed in the process of heating is suppressed, further descaling before rolling can efficiently be performed, and the suppression of flaws caused by scale, the improvement or productivity, the improvement of a yield, and the reduction of operation cost can be attained by preliminarily forming a film on the steel before heating.例文帳に追加

加熱前の鋼材に予め被膜を形成させることにより、加熱中に生成するスケールを抑制するとともに、圧延前のデスケーリングを効率的に行うことを可能とし、スケール起因の疵の抑制および生産性の向上、歩留の向上、操業コストの低減を図ることのできるＳｉ含有鋼の熱間圧延方法を提供する。 - 特許庁

The process is characterized by comprising heating a rolled sheet at a temperature of 100°C or more before processing thereof or winding the rolled sheet, setting, to 10 hours or less, the time when the sheet is exposed to the temperature of 10°C or more when left to stand until machining and heating the sheet before machining at a temperature of 100°C or more.例文帳に追加

圧延シートを加工する前に該シートを１００℃以上の温度で加熱する、あるいは、圧延されたシートを巻き取り、機械加工するまで放置する際に該シートが１０℃以上の温度に晒される時間を１０時間以内にすると共に、機械加工の前にシートを１００℃以上の温度で加熱することを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a template substrate for a semiconductor light-emitting element, a semiconductor light-emitting element, a manufacturing method of the same, a lamp, an electronic apparatus and a machinery, which can easily prepare a clean growth surface before laminating a compound semiconductor layer of the semiconductor light-emitting element without the need for a cleaning process before being housed in a second growth device.例文帳に追加

半導体発光素子の化合物半導体層を積層する前に清浄な成長面を容易に準備することができ、第二成長装置に入れる前の洗浄工程が不要な半導体発光素子用テンプレート基板、半導体発光素子及びその製造方法、並びにランプ、電子機器、機械装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

If NOx reduction process for the NSR 10 and PM regeneration process for the filter 11b overlap temporally, temperature of exhaust gas near the mixer 8 is raised to temperature at which fuel added from the second fuel adding valve 7 is surely evaporated in the mixer 8 before fuel addition from the second fuel adding valve 7.例文帳に追加

そして、ＮＳＲ１０に対するＮＯx還元処理と、フィルタ１１ｂに対するＰＭ再生処理とが時期的に重なる場合には、第２燃料添加弁７からの燃料添加の前に、ミキサ８近傍の排気の温度を、第２燃料添加弁７から添加された燃料がミキサ８において確実に気化する温度まで上昇させる。 - 特許庁

In the division method of a nitride semiconductor wafer, having a process for cleaving the nitride semiconductor wafer for obtaining a nitride semiconductor element 1, where a p electrode 10 is laminated on a nitride semiconductor layer 3, the p electrode 10 is pressed down to the nitride semiconductor layer 3 by an electrode hold-down film 51, before the process of cleaving the nitride semiconductor wafer.例文帳に追加

窒化物半導体層３上にｐ電極１０を積層してなる窒化物半導体素子１を得るための窒化物半導体ウエハを劈開する工程を備えた窒化物半導体ウエハの分割方法において、窒化物半導体ウエハを劈開する工程の前に、ｐ電極１０を電極押込膜５１で窒化物半導体層３に押さえ込む。 - 特許庁

This silver halide emulsion is prepared by the double jet mixing process for preparing cubic silver halide crystals and in this process, Oswald aging is allowed to proceed without adding halogen ions and silver ions for 10-50% of addition time before adding 1/3 of the mixing amount of the total silver to be used, and succeedingly the residual halogen ions and the silver ions are added.例文帳に追加

立方体結晶のハロゲン化銀を調製するダブルジェット混合法において、使用する全銀イオンの混合量の１／３を添加するまでに、該添加時間の１０〜５０％の時間を、ハロゲンイオン及び銀イオンを加えることなしにオストワルド熟成を起こさせ、引き続き残りのハロゲンイオン及び銀イオンを添加することにより達成される。 - 特許庁

The concentration of anmoniacal nitrogen contained in the regenerated waste liquid is measured before the third process and the supply amount of ozone bringing the final concentration of anmoniacal nitrogen to a range of 1-20 mg/L calculated from the supply amount of already supplied ozone and the concentration of anmoniacal nitrogen during the supply of ozone in the third process to supply ozone.例文帳に追加

前記第３工程の前に、再生排液に含まれるアンモニア性窒素濃度を測定しておき、第３工程のオゾン供給中において、すでに供給したオゾン供給量とアンモニア性窒素濃度とから、最終的なアンモニア性窒素濃度を１〜２０ｍｇ／リットルの範囲内とするオゾン供給量を算出して、オゾン供給を行う。 - 特許庁

In the firmware update method, when it is judged that the last process of updating the firmware has not been interrupted in the middle of process, only a difference in image data of the firmware just after the last update from the present firmware is obtained via a network, and the difference is applied to the firmware before the update so as to update the firmware.例文帳に追加

本発明に係るファームウェア更新方法では、ファームウェアを更新する処理が前回途中で中断していないと判定した場合は、ファームウェアの更新後イメージデータのうち現在のファームウェアとの間の差分のみをネットワーク経由で取得し、当該差分を更新前のファームウェアに適用することによりファームウェアを更新する。 - 特許庁

The waste liquid treatment apparatus for treating nitrogen-containing organic waste liquid by an intermittent aeration activated sludge process repeating aerobic microorganism treatment and anaerobic microorganism treatment in a single treatment tank is provided with a bubbling blower 4 removing carbon dioxide gas dissolved in the nitrogen-containing organic waste liquid before treatment by the intermittent aeration activated sludge process.例文帳に追加

本発明は、単一の処理槽で好気的微生物処理と嫌気的微生物処理を繰返す間欠曝気式活性汚泥法によって窒素含有有機性廃液を処理する廃液処理装置において、前記間欠曝気式活性汚泥法による処理に先立ち前記窒素含有有機性廃液に溶存する炭酸ガスを除去するバブリングブロア４を備える。 - 特許庁

The manufacturing method for the fluorescent display device wherein the element substrate 1 having the electron emission element and the counter substrate 2 are laminated has a process for irradiating the element substrate 1 or the counter substrate 2 in vacuum with light before the process for sticking the element substrate and the counter substrate in vacuum for the sealing.例文帳に追加

また電子放出素子を有する素子基板１と対向基板２とを貼り合わせしてなる蛍光表示装置の製造方法において、前記素子基板と前記対向基板とを真空中で貼り合せて封着する工程の前に、前記素子基板１もしくは前記対向基板２に真空中にて光照射する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

An optical fiber is forcibly cooled immediately before the optical fiber is wound in an optical fiber manufacturing process, the temperature is dropped to the environmental temperature of the optical fiber manufacturing process, and the optical fiber is wound around the bobbin, and the thermal expansion of the bobbin is avoided by the heat of the optical fiber during the winding.例文帳に追加

光ファイバ製造工程でボビンに巻き取る直前で光ファイバを強制冷却して、その温度を光ファイバ製造工程の環境温度まで下げてから、上記ボビンに巻き取らせて、巻き取り中に光ファイバの熱によってボビンが熱膨張することを回避するようにした光ファイバ巻取用ボビンの巻き緩み防止方法。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a laminated substrate for manufacturing a substrate without any void and blister at the connection interface in the laminated substrate after connection heat treatment with high productivity and yield, by performing a washing process before joining a material substrate, and then optimizing a drying process.例文帳に追加

材料基板の接合前に洗浄工程を行い、次に行う乾燥工程を適正化することにより、接合基板の接合界面の接合強度を向上させて、結合熱処理後の貼り合せ基板の結合界面にボイド不良やブリスター不良のない基板を高い生産性と歩留りで製造する貼り合せ基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A process for removing resist on the outer periphery of a semiconductor substrate includes a process for rotating the semiconductor substrate at a specific speed at least for a fixed time to sufficiently dry an organic solvent remaining in the resist film formed on the semiconductor substrate before the resist on the outer periphery of the semiconductor substrate is removed.例文帳に追加

半導体基板外周上のレジストを除去する工程において、前記半導体基板外周上のレジストを除去する前に、前記半導体基板を所定の回転数にて一定時間以上回転させ、前記半導体基板上に形成したレジスト膜中の残存有機溶剤を十分に乾燥させる工程を有する。 - 特許庁

The method for producing the frozen coated food by coating pretreated meat 2 includes a film-forming process for producing the film of batter powder 3 by adhering batter powder to the meat 2 and heat the meat at a predetermined temperature before a process for coating the meat 2.例文帳に追加

本発明である食肉の衣付き冷凍食品の製造方法は、下処理した食肉２に衣付け４して生成する冷凍食品１の製造方法において、食肉２に衣付け処理する工程前に、食肉２にバッター粉３を付着し所定温度で加熱処理してバッター粉３の膜を形成する膜形成工程を具備している。 - 特許庁

The method for producing an SiC single crystal comprises growing an SiC single crystal on an SiC seed crystal substrate 9 from a raw material solution 3 containing SiC, C and a solution component other than the two components by the solution method, and includes a process for dissolving C before the start of SiC growth and a process for replenishing SiC after the start of SiC growth.例文帳に追加

溶液法により、ＳｉＣとＣと前記２成分以外の溶液成分を含む原料溶液３からＳｉＣ種結晶基板９上にＳｉＣ単結晶を成長させる方法であって、ＳＩＣ成長開始前にはＣを溶解させる工程を有し、ＳＩＣ成長開始後にはＳｉＣを補給する工程を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the epitaxial wafer includes an epitaxial layer forming step of forming an epitaxial layer on a silicon wafer and a polishing step of polishing the main surface of the epitaxial wafer, and further includes a storing step of storing the wafer in a liquid up to just before the start of the polishing process after the epitaxial layer forming process.例文帳に追加

シリコンウェーハ上にエピタキシャル層を形成するエピタキシャル層形成工程と、エピタキシャルウェーハの主面を研磨する研磨工程とを含むエピタキシャルウェーハの製造方法であって、エピタキシャル層形成工程後、研磨工程を行う直前まで、ウェーハを液体中で保管する保管工程を更に含むことを特徴とする、エピタキシャルウェーハの製造方法である。 - 特許庁

In the manufacturing method of a SOI wafer, before the oxide film forming process, a reactive ion etching (RIE) defect annihilation process is performed in which a defect is annihilated that exists in a region having at least up to 5 μm depth from a surface being a bonding surface of a prepared silicon substrate and that is detected by an RIE method by applying a rapid thermal treatment to the prepared silicon substrate.例文帳に追加

酸化膜形成工程の前に、前記準備したシリコン基板に急速熱処理を施すことによって、少なくとも前記シリコン基板の貼り合わせ面となる表面から５μｍの深さまでの領域に存在するＲＩＥ法により検出される欠陥を消滅させるＲＩＥ欠陥消滅工程を行うＳＯＩウェーハの製造方法。 - 特許庁

The forming method of the carbon nanotube structure consisting of a carbon nanotube 3 and an insulating film covering the surface of the carbon nanotube comprises a first process for growing the carbon nanotube in a growing device and a second process for coating the surface of carbon nanotube with the insulating film before taking the carbon nanotube out of the growing device.例文帳に追加

カーボンナノチューブ３と、前記カーボンナノチューブの表面を被覆する絶縁膜とからなるカーボンナノチューブ構造体の形成方法において、前記カーボンナノチューブを成長装置内で成長する第１の工程と、前記カーボンナノチューブを前記成長装置から取り出す前に、前記カーボンナノチューブの表面を絶縁膜で被覆する第２の工程とからなる。 - 特許庁

The method for inkjet recording includes the process to allow water to adhere onto the image forming surface of the recording medium before forming an image and the process to form an image on the recording medium through inkjet recording using an aqueous ink for inkjet containing dye, at least one of glycerin diglycerol and polyglycerin, polyalkylene glycol monoalkyl ether, and water.例文帳に追加

画像形成前に記録媒体の画像形成面に水を付着させる工程、および、顔料と、グリセリン、ジグリセリンおよびポリグリセリンのうちの少なくとも１種と、ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテルと、水とを含むインクジェット用水性インクを用いて、インクジェット記録法により記録媒体に画像を形成する工程、を含むインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁

In addition, in the compression molding resin 100 to be used when a plurality of the semiconductor elements 104 arranged mutually separately on the substrate 102 are sealed by the compression molding process, a plurality of recessed parts 120A are formed in accordance with the positions 104A of arrangements of individual semiconductor elements 104 before the compression molding process.例文帳に追加

又、基板１０２上に相互に離間して複数配置された半導体素子１０４を圧縮成形工程によって封止する際に用いる圧縮成形用樹脂１００であって、前記圧縮成形工程前において、前記各半導体素子１０４の配置位置１０４Ａに対応して複数の凹部１２０Ａが形成されている。 - 特許庁

Before shifting to a production process of a substrate in apparatus startup or in resuming operation after maintenance, a substrate processing chamber is exhausted while supplying a gas containing at least gaseous nitrogen therein; plasma discharge is carried out by setting power higher than high-frequency power in plasma discharge after shifting to the production process; and thereafter the substrate is processed by placing the substrate on a substrate mounting base.例文帳に追加

装置立ち上げ時又はメンテナンス後の再稼働時の基板の生産処理に移行する前に、前記基板処理室に少なくとも窒素ガスを含むガスを供給しつつ排気して、生産処理移行後のプラズマ放電時の高周波電力よりも高くしてプラズマ放電し、その後、前記基板載置台に基板を載置して、該基板を処理する。 - 特許庁

The process (a) of forming an electrode made of inorganic oxide as a continuous layer among the plurality of electroluminescent elements, and a process (b) of irradiating light on the electrode made of the inorganic oxide and making an electric resistance of all or a part of areas where light irradiation is carried out higher than before the irradiation and carrying out patterning.例文帳に追加

（ａ）該無機酸化物からなる電極を複数の電界発光素子間で連続した層として形成する工程 （ｂ）酸化性ガス雰囲気中で該無機酸化物からなる電極に対して光照射を行い、光照射を行った領域の全域又は一部の電気抵抗を光照射前に比して高くしたパターニングする工程 - 特許庁

Pairs of the results of sorting the groups and data indicating at least either the group immediately before or after each group are compared between the source work process and the destination work process for comparison, and thereby the number of groups that match between the work processes is counted, and similarities between the work processes are calculated based on the number of groups counted.例文帳に追加

そして、グループのソート結果と、当該グループに対する直前グループ及び直後グループのうち少なくともいずれかを表すデータとの対を、比較元の業務プロセスと比較先の業務プロセスとで比較することにより、業務プロセス間で一致するグループ数を計数し、計数されたグループ数から業務プロセス間の類似度を算出する。 - 特許庁

The method for manufacturing the multilayer electronic component contains a process for forming a separation layer containing a dielectric on a support sheet before forming the electrode layer on the support sheet; and a process for forming an adhesive layer on a surface at the side of an opposite electrode layer of a green sheet containing the electrode layer for laminating the green sheet having the electrode layer via the adhesive layer.例文帳に追加

電極層を支持シート上に形成する前に、支持シート上に、誘電体を含有する剥離層を形成する工程と、電極層を有するグリーンシートの反電極層側表面に接着層を形成し、この接着層を介して、電極層を有するグリーンシートを積層する工程とを含有する積層型電子部品の製造方法。 - 特許庁

This pretreatment method of the component of the deposition device includes a process of forming a thermal-sprayed metal layer by thermal spraying to the component of the deposition device before the component of the deposition device is used for the deposition device, and a process of vibrating the component of the deposition device having the thermal-sprayed metal layer and then performing air blow.例文帳に追加

本発明の成膜装置用部品の前処理方法は、成膜装置用部品を成膜装置に用いるに先立って、該成膜装置用部品に対して、溶射によって金属溶射層を形成する工程、及び、金属溶射層が形成された成膜装置用部品に対し振動を与えた後、エアブローする工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

Since this image processing method is contrived in such a way that, when a retouching process is performed on a pixel editer image 162, an image processing area 169 is displayed as an inverted image before executing the retouching process and made to follow the movement of a pointer 168, the initial positioning becomes easier and the occurrence of such misoperation that a different image is erroneously retouched can be reduced.例文帳に追加

ピクセルエディター画面１６２において、レタッチ処理をする場合に、レタッチ処理の実行前に画像処理領域１６９を反転画像として表示し、ポインタ１６８の移動に追従させるようにしたため、初期の位置決めが容易となり、誤って異なる画像に対してレタッチ処理をするといった誤操作を軽減することができる。 - 特許庁

The lithographic printing method for carrying out lithographic printing by feeding emulsion ink via an applicator comprises a process for feeding the emulsion ink to the applicator, and a process wherein the emulsion is destroyed on the applicator and a degree of the breakage of the emulsion is varied before and after start of the printing.例文帳に追加

エマルジョンインキをインキ着けローラを介して平版印刷版に供給し平版印刷を行う平版印刷方法であって、エマルジョンインキをインキ着けローラに供給する工程と、前記インキ着けローラ上でエマルジョンを破壊し、かつ、そのエマルジョンの破壊の程度を印刷開始前後で変化させる工程とを有することを特徴とする平版印刷方法。 - 特許庁

To provide a process for producing an aluminium material for the electrode of an electrolytic capacitor having excellent etching characteristics by solving the problem of treatment with aqueous solution of nitric acid being carried out before final annealing in conventional production process of the aluminium material for an electrolytic capacitor thereby stabilizing an aluminium surface layer oxide film being formed after removing the aluminium surface layer furthermore.例文帳に追加

従来の電解コンデンサ用アルミニウム材の製造における最終焼鈍前の硝酸水溶液による処理の問題点を解決し、アルミニウム表面層を除去した後生成するアルミニウム表層酸化膜をより安定なものとすることにより優れたエッチング特性を有する電解コンデンサ電極用アルミニウム材の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To drastically save man-powers by unifying a lubricant film treatment to a wire before cold plastic working and a lubrication treatment applied to the surface of a fastening component after a heat treatment for stabilizing fastening property into one process, and to provide a steel wire which can obtain a fastening component exhibiting a stable black appearance regardless of its production process.例文帳に追加

冷間塑性加工前の線材への潤滑皮膜処理と、締め付け性の安定化のために熱処理後の締結部品表面に施す潤滑処理とを一つの工程に纏めることでの飛躍的な省力化を実現するものであって、且つ製造工程によらずに安定な黒色外観を呈する締結部品を提供できる鋼線材の提供。 - 特許庁

A thermoplastic resin film 2 having a layer 6 wherein metal grains 7 exist in a discontinuous state is attached to the surface of a molding material 10 of a thermoplastic resin in or before a molding process of the material 10, and the molded body of the thermoplastic resin provided with the film 2 on the surface is obtained in the molding process.例文帳に追加

金属粒子７が不連続状に存在する層６を有する熱可塑性樹脂フィルム２を、熱可塑性樹脂製成形材料１０の成形工程あるいは当該成形工程前において、この熱可塑性樹脂成形材料１０の表面に付与し、当該成形工程において、表面に前記フィルム２を備える熱可塑性樹脂成形体を得る。 - 特許庁

To enable shortening of an aging time and a forming cycle without generation of a swell of a plastic foam-made box after removing the plastic foam-made box from a forming mold in an in-mold forming process and without prolongation of a cooling time before removing the plastic foam-made box from the forming mold in the in-mold forming process.例文帳に追加

型内発泡成形工程においてプラスチックスフォーム製箱を成形型から離型した後に、プラスチックスフォーム製箱の膨出を発生させることなく、且つ型内発泡成形工程においてプラスチックスフォーム製箱を成形型から離型する前の冷却時間を長くせしめることなく、熟成時間及び成形サイクルの短縮化を可能にする。 - 特許庁