例文 (453件) |
Correction of defectの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 453件
To provide a photomask correction optical system for phase defect correction with which high-accuracy defect correction can be achieved by correcting while observing and measuring the degree of a defect on correcting a phase shift photomask having a phase defect, and to provide a correction device using the system.例文帳に追加
位相欠陥を持つ位相シフトフォトマスクの修正にあたり、欠陥の度合いを観察、測定しながら行うことにより高精度の欠陥修正を達成できる位相欠陥修正用フォトマスク修正光学系とそれを用いた修正装置を提供する。 - 特許庁
To realize a white defect correction circuit, which cancels a white defect signal more appropriately about three pixels being a white defect pixel of a CCD and the left and right defect pixels adjacent to the white defect pixel by replacing them with the video signals of the peripheral pixels of the pixels, in a white defect correction circuit.例文帳に追加
白欠陥補正回路において、CCDの白欠陥画素と、その欠陥画素の左隣、右隣の三つの画素について、それら画素の周辺の画素の映像信号に置き換えることで、より適正に白欠陥信号をキャンセルするようにした白欠陥補正回路を実現する。 - 特許庁
In the defect correction method, a rib-chipping defect 36 is rectified before applying a correction paste 10 on the rib-chipping defect 36, and the inclination in width direction of the bottom part of the rib-chipping defect 36 is lessened so that the correction paste 10 applied on the rib-chipping defect 36 may not hang down to the side.例文帳に追加
この欠陥修正方法では、リブ欠け欠陥36に修正ペースト10を塗布する前にリブ欠け欠陥36を整形し、リブ欠け欠陥36に塗布した修正ペースト10がリブ34の横に垂れないように、リブ欠け欠陥36の底部の幅方向の傾きを緩和させる。 - 特許庁
The defect correction processing portion 42a set corresponding to the luminance processing portion 36 sets the correction level at a middle level and conducts a correction of a pixel defect while maintaining a resolution.例文帳に追加
輝度処理部36に対応して設けられた欠陥補正処理部42aは、補正レベルを中程度に設定され、解像度を維持しつつ画素欠陥の補正を行う。 - 特許庁
The defect inspection system is constituted of a DF defect inspection device 1 having a spatial filter section 12, and a defect inspection correction device 2.例文帳に追加
空間フィルタ部12を有するDF欠陥検査装置1及び欠陥検査補正装置2を含み欠陥検査システムが構成される。 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING OUTPUT VALUE OF IMAGING MEANS, SHADING CORRECTION METHOD, DEFECT DETECTION METHOD, DEFECT DETECTION PROGRAM, AND DEFECT DETECTION APPARATUS例文帳に追加
撮像手段の出力値補正方法、シェーディング補正方法、欠陥検出方法、欠陥検出プログラムおよび欠陥検出装置 - 特許庁
Otherwise the correction method permits that the black defect is dyed with a dyestuff that absorbs the laser beam wavelengths of the laser correction system, the laser beam of the laser correction system is applied to the dyed black defect 10' and thereby the black defect is corrected.例文帳に追加
1)レーザ修正装置のレーザ光の波長を吸収する染料で黒欠陥を染色し、2)染色した黒欠陥10’にレーザ修正装置のレーザ光を照射し、黒欠陥を修正すること。 - 特許庁
To provide a pixel defect correction device, along with an imaging apparatus, pixel defect correction method and program, capable of improving edge detection accuracy, and capable of improving defect detection accuracy.例文帳に追加
エッジ検出精度の向上を図れ、ひいては欠陥検出精度の向上を図ることが可能な画素欠陥補正装置、撮像装置、画素欠陥補正方法、およびプログラムを提供する。 - 特許庁
To propose a defect correction technique of excellent memory efficiency, for performing small scale correction of an execution program.例文帳に追加
実行プログラムの小規模な修正を行うためのメモリ効率の良い欠陥修正手法を提案すること。 - 特許庁
Then, the control part controls a defect correction part which executes correction of the defects by utilizing the generated object.例文帳に追加
そして、生成したオブジェクトを利用して欠陥の修正を実行する欠陥修正部を制御する。 - 特許庁
PIXEL DEFECT CORRECTION METHOD AND DEVICE OF IMAGING ELEMENT例文帳に追加
撮像素子の画素欠陥補正方法及び撮像素子の画素欠陥補正装置 - 特許庁
DISPENSER DEVICE, PATTERN DEFECT CORRECTION DEVICE, AND METHOD FOR ELIMINATING CLOGGING OF DISPENSER例文帳に追加
ディスペンサ装置、パターン欠陥修正装置、ディスペンサの詰まり解消方法 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR CORRECTION OF SHIFTER RESIDUE DEFECT ON PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法並びに修正装置 - 特許庁
A correction control part 4 compares pixel defect detection signals with respect to multiple frames, determines that the pixel defect is the true one when the same kind of pixel defects exist at the same pixel positions of the multiple frames, and indicates the correction of the pixel defect to a pixel defect correction part 5.例文帳に追加
補正制御部4は、複数フレームに対する画素欠陥検出信号を比較し、複数フレームの同じ画素位置に同種の画素欠陥が存在している場合は真の画素欠陥と判定し、画素欠陥補正部5に対し画素欠陥の補正を指示する。 - 特許庁
DEFECT INSPECTION METHOD OF ELECTROLUMINESCENT DISPLAY, DEFECT CORRECTION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROLUMINESCENT DISPLAY例文帳に追加
エレクトロルミネッセンス表示装置の欠陥検査方法及び欠陥修正方法及びエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法 - 特許庁
To provide a defect correction method capable of easily correcting a fine white defect part without damaging and contaminating the neighborhood of a defect part.例文帳に追加
欠陥部の近傍にダメージを与えたり、汚染することなく、微細な白欠陥部を容易に修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
To detect a processing defect which causes the deterioration of high-density multicolor reproduction, and to perform correction in accordance with the defect.例文帳に追加
高濃度の多重色の色再現の劣化を招くプロセス不良を検出し、それに応じた補正を行う。 - 特許庁
The defect evaluation means 6 includes a mold correction evaluating section 63 that deems the defect as a mold correction spot, on the basis of defect information including a defect position at the previous time, wherein the mold correction spot information regarding the mold correction spot evaluated thereby is registered in a mold correction spot information storing section 83.例文帳に追加
欠陥評価手段6には、前回での欠陥位置を含む欠陥情報に基づいて当該欠陥を型修正箇所とみなす型修正評価部63と、これによって評価された型修正箇所に関する型修正箇所情報が型修正箇所情報格納部83に登録される。 - 特許庁
To provide an image defect correction system of an imaging device using direction detection.例文帳に追加
方向検出を用いた撮像デバイスの画像欠陥補正システムを提供する。 - 特許庁
DEFECT CORRECTION METHOD OF METALLIC THIN PLATE HAVING MINUTE SLIT-LIKE OPENING例文帳に追加
微細なスリット状開口部を有する金属製薄板の欠陥修正方法 - 特許庁
Then defect correction is applied to pixel values of color components of the center pixel by adding the correction amount to the pixel values (S7f).例文帳に追加
そして、上記中心画素の各色成分の画素値に、上記補正量を加算する傷補正を行う(S7f)。 - 特許庁
The signal processing section 34 identifies a position of a defect caused at an exposure start position of the received image data by using a defect correction pulse 186a and applies defect correction processing to the pixel data at this position to output a normal image without a defect.例文帳に追加
信号処理部34では、供給される画像データの露出開始位置に生じる傷の位置を欠陥補正パルス186aで特定してこの位置の画素データに欠陥補正処理を施して欠陥のない正常な画像を出力する。 - 特許庁
To provide a defect correction device and a defect correction method capable of reliably correcting defects, and also to provide a method for manufacturing patterned substrate by using the method.例文帳に追加
確実に欠陥を修正することができる欠陥修正装置、欠陥修正方法及びそれを用いたパターン基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a liquid container attaching and detaching apparatus which facilitates the secure attachment and detachment of a liquid container to and from a defect correction apparatus and a defect correction apparatus.例文帳に追加
液体容器の欠陥修正装置への確実な着脱を容易にする液体容器着脱装置および欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁
To provide a defect correcting method of photomask by which the operability of correction of black defect in a circular transmission pattern is largely improved and the correction almost just as design can be performed in the precision of correction too.例文帳に追加
円形の透過パターン内の黒欠陥の修正の作業性が飛躍的に向上するとともに、修正精度においてもほぼ設計通りの修正が可能であるフォトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
From the stage position of a defect detected by a review device, a defect candidate close to that stage position is listed along with the defect information (defect type, defect image, defect size) provided by an inspection device, so that a defect for use in the fine alignment correction can be selected.例文帳に追加
レビュー装置が検出した欠陥のステージ位置から、そのステージ位置に近い欠陥候補を検査装置が提供する欠陥情報(欠陥種別,欠陥画像,欠陥サイズ)とともに一覧表示し、ファインアライメント補正に使用する欠陥を選択できるようにする。 - 特許庁
To detect a minute real defect on an optical proximity effect correction mask while suppressing the occurrence of a pseudo-defect.例文帳に追加
擬似欠陥の発生を最大限抑えながら、光学近接効果補正マスク上の微細な実欠陥を検出する。 - 特許庁
To provide a phase defect correction method of reflection type mask which allows for accurate phase defect correction of a reflection type mask without causing any damage thereon.例文帳に追加
反射型マスクがダメージを受けることなく、精度よく、位相欠陥が修正されることを可能とする、反射型マスクの位相欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
INK FOR CORRECTING DEFECT OF FINE COLORED PATTERN, ITS CORRECTION METHOD, AND COLOR FILTER例文帳に追加
微小着色パターン欠陥修正用インキ、その修正方法、及び、カラーフィルター - 特許庁
A defect detection unit included in a defect correction device generates a defect region image being a difference image between a defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image.例文帳に追加
欠陥修正装置が備える欠陥検出部が、多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像との差画像である欠陥領域画像を生成する。 - 特許庁
Also, the detection can be performed in the prestage of error correction decoding, The defect can be detected in the early stage and the erasure correction can be performed in the early stage during the error correction.例文帳に追加
又、誤り訂正復号の前段で検出できるため、早期に検出でき、誤り訂正時に、消失訂正を早期にできる。 - 特許庁
To provide a defect correction method of a color filter which prevents ultraviolet burn at a normal portion upon correction by ultraviolet curing ink for correction for a defect portion of the color filter and that stably hardens a portion where the ink for correction is overlapped with a normal area around the defect portion.例文帳に追加
カラーフィルタの欠陥部の紫外線硬化性修正用インクによる修正時における正常な部分の紫外線焼けを防ぐとともに、該欠陥部周辺の正常な領域と該修正用インクの重なり部分も安定的に硬化させるカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
A correction object selection function section 182 selects an image pickup element of a correction object with priority imparted to a defect in an area near the middle of an image while taking a correction number into account and stores defect information to a defect address memory 38b.例文帳に追加
補正対象選択機能部182 は、欠陥アドレスメモリ38a からの画像データ180cのうち、画面中央近傍領域の欠陥を優先させて、補正数を考慮して補正対象の撮像素子を選択して欠陥情報を欠陥アドレスメモリ38b に記憶させる。 - 特許庁
By a defect correction processing unit 31R which corrects the defect of an image signal DRa corresponding to red component light, a correction signal generator 311 generates correction signals DHR by defective pixels according to offsets of the defective pixels indicated with the defect information RPR.例文帳に追加
赤成分光に応じた画像信号DRaの欠陥補正を行う欠陥補正処理部31Rで、補正信号生成部311は、欠陥情報RPRで示された欠陥画素のオフセットに応じて、補正信号DHRを欠陥画素毎に生成する。 - 特許庁
To improve quality of defect correction while remarkably improving work efficiency in a defect correcting process against an interlayer short-circuit defect between upper and lower parts of a multilayer structure.例文帳に追加
多層構造の上下間での層間ショート欠陥に対する欠陥修正工程の作業効率を著しく向上させつつ、欠陥修正の品質を向上させる。 - 特許庁
DEFECT CORRECTION METHOD OF IMAGE DISPLAY DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF IMAGE DISPLAY DEVICE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE例文帳に追加
画像表示素子の欠陥補正方法、画像表示素子の製造方法及び画像表示素子 - 特許庁
DEFECT CORRECTION METHOD OF PHOTOMASK, PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクとその製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁
The applying operation is performed a plurality of times so that the correction paste 13 is applied to the defect part 2a.例文帳に追加
塗布動作を複数回実行して修正ペースト13を欠陥部2aに塗布する。 - 特許庁
The defect net and the correction net are terminated at top vias 41 and 46 of the substrate.例文帳に追加
欠陥ネットと修正ネット各々は基板の表面ビア41,46で終端する。 - 特許庁
This result leads to proper correction of the V line defect in motion image photographing.例文帳に追加
その結果、動画撮影時においてVライン傷の補正を適切に行えることとなる。 - 特許庁
To provide a method of correcting defect in color filter which does not cause failure after correction.例文帳に追加
修正後に、不具合が生じることがないカラーフィルタ欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD OF PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加
フォトマスクの欠陥修正方法及びフォトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁
PHASE DEFECT CORRECTION METHOD OF REFLECTION TYPE PHOTOMASK AND REFLECTION TYPE PHOTOMASK USING THE SAME例文帳に追加
反射型フォトマスクの位相欠陥修正方法およびそれを用いた反射型フォトマスク - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND SYSTEM FOR JUDGING NECESSITY OF DEFECT CORRECTION例文帳に追加
露光用マスク、半導体装置の製造方法及び欠陥修正要否判定装置 - 特許庁
The defect correction method consists of template information 73, representing the characteristics of the defect and object information 74 representing actual correction method and defect location, and information on the detected defect, matching with the specified conditions of the template information 73 and the object information 74, is output as the defect correction method.例文帳に追加
上記欠陥修正手法は欠陥の特徴を示すテンプレート情報73と、実際の修正方法及び欠陥の位置を示すオブジェクト情報74から構成されており、検出された欠陥の情報がテンプレート情報73及びオブジェクト情報74の特定の条件に一致しているものを欠陥修正手法として出力する。 - 特許庁
To provide a method for correcting defect that prevents the width of a correction layer formed in a disconnection defect part from widening.例文帳に追加
断線欠陥部に形成した修正層の幅が広がるのを防止することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁
To provide an active matrix substrate in which correction of a defect is easy and yield decrease caused by a conductive piece prepared for defect correction is suppressed.例文帳に追加
画素欠陥の修正が容易で、かつ、欠陥修正用に設けられた導電片に起因した歩留まりの低下が抑制されたアクティブマトリクス基板を提供する。 - 特許庁
Since adjustment of an optical system or fine correction by signal processing becomes possible, positional accuracy of defect inspection and accuracy of defect level (defect size) can be improved.例文帳に追加
本発明により、光学系の調整や信号処理による微細な補正が可能になるため、欠陥検出の位置精度および欠陥強度(欠陥寸法)の精度を向上させることができる。 - 特許庁
Among defect correction processing portions 42a to 42c set in each of noise elimination processing portions 30a to 30c, the defect correction processing portion 42c set corresponding to the outline processing portion 38 sets a defect correction level at a low level and maintains an outline information.例文帳に追加
ノイズ除去処理部30a〜30cそれぞれに設ける欠陥補正処理部42a〜42cのうち、輪郭処理部38に対応して設けられた欠陥補正処理部42cは、欠陥補正レベルを低く設定され、輪郭情報を維持する。 - 特許庁
Successively, region information read out from a database in which a plurality of defect correction methods and region information in which appearance of defect is assumed for each kind of the defect are registered is applied to the difference image and the defect is detected, and the defect correction method is read out from the database based on the detected defect.例文帳に追加
次に、この差分画像に、複数の欠陥修正手法および欠陥の種類ごとに当該欠陥が出現されることが想定される領域情報が登録されたデータベースから読み出した領域情報を適用して欠陥を検出し、検出した欠陥に基づいて前記データベースから欠陥修正手法を読み出す。 - 特許庁
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