「Correction of defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an image processor and a control program of the image processor which correct the influence of a defect according to the kind of a document and inform a user that the influence cannot be corrected in such a case or make no wrong correction.例文帳に追加

原稿の種類に応じて欠陥の影響を補正し、補正をすることができない場合にその旨をユーザに知らせ、又は誤補正をしない。 - 特許庁

A signal correction circuit 42 references the coordinate memory 24 to correct the defect of an image signal resulting from the defective pixel and to store the result in a memory card 45.例文帳に追加

信号補正回路42は、座標メモリ24を参照して、欠陥画素に起因する画像信号の欠陥を補正してメモリカード45に記録する。 - 特許庁

And an electrode film 4 or the metal foil 3 is not damaged at the time of pressing because there is no particle in the defect correction paste 5.例文帳に追加

また、欠陥修正ペースト５には粒子は存在しないので、プレスにおいて、電極膜４あるいは金属箔３を傷つけることも無い。 - 特許庁

It includes an input means for receiving selection of the pattern of the arrangement defect which is displayed on the display unit for correcting NC data 10a, by using correction data for canceling the defect which the arrangement defect pattern shows.例文帳に追加

実装画像データ及び設計画像データを表示部に表示している状態にて、配置不良パターンの示す不良を解消するための補正データを用いてＮＣデータを補正するために行われる表示部に表示されている配置不良のパターンの選択を受け付ける入力手段と、を具備する。 - 特許庁

A controller 20 of the defect correction device 1 has a recipe database, wherein the data of a pattern of the next process is stored, and determines the defect which will become a problem later, in accordance with an actual image taken in by the CCD camera 6 and the pattern of the next process.例文帳に追加

欠陥修正装置１の制御装置２０には、次工程のパターンのデータが格納されたレシピデータベースを有し、ＣＣＤカメラ６で取り込んだ実際の画像と、次工程のパターンとから後に問題となる欠陥を判定する。 - 特許庁

The imaging device 1 includes a solid-state imaging element 3, a defect information memory 7 which stores, in advance, information relating to the types of defects of defective pixels and information relating to the defective levels of defective pixels, and a defect correction circuit 6 for correcting image data of defective pixels.例文帳に追加

撮像装置１は、固体撮像素子３と、予め欠陥画素の欠陥種類情報及び欠陥レベル情報を記憶する欠陥情報メモリ７と、欠陥画素の画像データに関する補正を行う欠陥補正回路６とを有する。 - 特許庁

This pattern correction device jets atomized correction liquid from a coating nozzle 30 to a white void defect part 13a that a colored layer 13 of a pixel PIX_B has while opening a shutter 31.例文帳に追加

このパターン修正装置では、画素ＰＩＸ＿Ｂの着色層１３にある白抜け欠陥部１３ａに、シャッタ３１を開きながら塗布ノズル３０から霧状の修正液２０を噴出する。 - 特許庁

Subsequently, the correction ink is applied to a laser beam irradiation region by an inkjet device 6, a solvent included in the correction ink is evaporated concurrently with the application of the correction ink and, thereby, the defect existing in the color filter 2 is corrected.例文帳に追加

次いで、インクジェット装置６によりレーザ光照射領域に修正用インクを付与し、修正用インクを付与すると同時に修正用インクに含まれる溶媒が蒸発させることによってカラーフィルタ２に存在する欠陥を修正する。 - 特許庁

To prevent operation time necessary for correction of a defective pixel from increasing and to securely perform correction such as cutting or short circuiting of a wiring pattern, by avoiding emission of a laser beam to a defect source such as a foreign matter.例文帳に追加

異物などの欠陥源にレーザ光を照射することを回避することによって、欠陥画素の修正に要する作業時間の増大を防止するとともに、配線パターンの切断または短絡などの修正を確実に実行する。 - 特許庁

To provide a defective pixel detection method and an image processing apparatus, which can accurately detect a position, in which image correction is required, to accurately perform image correction even in the case where normal pixels adjacent to a line defect generate abnormal output signals due to an influence of the line defect.例文帳に追加

線欠陥の影響により、隣接する正常な画素が異常な出力信号を発生する場合でも、画像補正が必要な箇所を正確に検出し、正確に画像補正することができる欠陥画素検出方法および画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positioning method of a color filter substrate for positioning a color filter substrate in a short time with good accuracy when a defect of the color filter substrate inspected by a defect inspection device is corrected by a color filter correction system.例文帳に追加

欠陥検査装置で検査されたカラーフィルタ基板の欠陥をカラーフィルタ修正装置にて修正する際、カラーフィルタ基板を精度良く、短時間に位置決めするためのカラーフィルタ基板の位置決め方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a technique capable of preventing a conductive material for defect correction from spreading up to an unnecessary part when a defect caused by breaking of a wiring line is corrected using a printing method which can be processed at low temperature.例文帳に追加

低温で処理できる印刷法を用いて、配線の断線による欠陥を修正する場合に、欠陥修正用の導電性材料が不要な部分まで広がることを防止することができる技術を提供する。 - 特許庁

A signal pattern is discriminated from a center of gravity pixel and surrounding pixels in real-time processing, during photographing of video and a pixel having an extremely large or small level, as compared with surrounding pixels, is regarded as a defect, and pixel defect correction is performed.例文帳に追加

映像撮影中にリアルタイムの処理で重心画素とその周囲の画素から信号のパターンを判別し、周囲と比較して1画素だけ極端の大きいレベルや小さいレベルの画素を欠陥とみなし画素欠陥補正を行なう。 - 特許庁

The reproducing device having an error correction circuit (228) is provided with a defect detector (230) which detects a defect by calculating a moving average of a reproducing signal, and slicing the moving average with a threshold Th.例文帳に追加

誤り訂正回路（２２８）を有する再生装置に、再生信号の移動平均値を演算して、この移動平均値を対象として、閾値Ｔｈでスライスして、欠陥を検出する媒体欠陥検出器（２３０）を設ける。 - 特許庁

To ensure accurate fine alignment correction while reducing the man hour of a user required for review, in an observation device having a function to perform fine alignment by using the location information on a defect registered in a defect file.例文帳に追加

欠陥ファイルに登録された欠陥の位置情報を用いてファインアライメントを実行する機能を備えた観察装置において、ファインアライメント補正を正確なものとし、レビューのために要するユーザの工数を低減する。 - 特許庁

The defect correction method for correcting a defect on a substrate 6 wherein two or more circuit patterns are formed detects a defective part on the substrate 6 and acquires position information on the substrate 6 of the defective part.例文帳に追加

複数の配線パターンが形成された基板６上の欠陥を修正する欠陥修正方法であって、基板６上の欠陥部位を検出し、その欠陥部位の基板６上における位置情報を取得する。 - 特許庁

To provide a correcting method for a color filter, which corrects a white defect in a colored layer of the color filter, applying a correction liquid without being pressed out of a white defect part, so that the occurrence of new color mixture and projection can be prevented.例文帳に追加

カラーフィルタの着色層における白欠陥を修正する方法において、修正液を白欠陥部の外へはみ出すことなく塗ることができ、従って新たな混色や突起を発生させることの無い修正方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a color filter substrate which facilitates correction of a defect in a color filter portion, which does not require a plurality of times of inspection steps in the manufacturing process and which shows no display failure even when used for a liquid crystal display device after correcting a defect.例文帳に追加

カラーフィルタ部分の欠陥修正を容易に実現できるとともに、製造過程で複数回の検査工程を必要とせず、欠陥修正後に液晶表示装置に用いても表示が不良とならないカラーフィルタ基板の実現を課題とする。 - 特許庁

The camera detects the presence/absence of mount of the conversion lens and applies correction for reducing a defect caused by the mounting (e.g., a defect caused by misalignment between optical axes of the conversion lens and a photographing lens) to image data when the conversion lens is mounted.例文帳に追加

カメラは、コンバージョンレンズの装着の有無を検知し、装着されている場合には、その装着によって生ずる不具合（例えば、コンバージョンレンズと撮影レンズとの光軸のずれに起因する不具合）を軽減するための補正を画像データに施す。 - 特許庁

To provide a device and a method for defect correction capable of improving productivity, and to provide a pattern substrate manufacturing method that uses them.例文帳に追加

生産性を向上することができる欠陥修正装置、及び欠陥修正方法、並びにそれを用いたパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

An initial defect correction means 202 correct digital image information by using initial defective pixel position information previously known at the time of shipment from a plant or the like.例文帳に追加

初期欠陥補正手段２０２は、工場出荷時等で予め分かっている初期欠陥画素位置情報を用いて画像情報を補正（修正）する。 - 特許庁

To stably perform tilt correction without being affected by a recording state and to avoid an influence of a defect or the like.例文帳に追加

記録状態に影響をされることなく傾き補正を安定して実行することができ、また、ディフェクトなどの影響も避けることができるようにする。 - 特許庁

To provide a proximity correction mask with high accuracy and no defect in a short period of time while keeping a process margin in a complicated LSI pattern.例文帳に追加

複雑なＬＳＩパターンにおいて、プロセス余裕度を保ちながら欠陥の無い高精度な近接効果補正マスクを短時間で提供することを課題とする。 - 特許庁

Also, methods and devices are described that provide fast and efficient defect scanning in selected regions due to utilization of error correction systems.例文帳に追加

また、エラー訂正システムの利用による、選択された領域での高速で効果的な欠陥スキャニングを提供する方法及び装置が説明される。 - 特許庁

The undercoat of the light shielding layer is subjected to a third etching process by using the light shielding layer and the resist pattern for correction as a mask to correct the excess defect.例文帳に追加

遮光層及び修正用レジストパターンをマスクにして遮光層の下層に対して第３のエッチング処理を施し余剰欠陥箇所を修正する。 - 特許庁

The defect correction part 45 refers to colors, densities and the like of peripheral pixels and corrects the pixel (region) decided as a defective region into proper image.例文帳に追加

欠陥修正部４５は、欠陥領域と判定された画素（領域）を周辺の画素の色、濃度等を参照して適正な画像に修正する。 - 特許庁

The defect net is electrically isolated from an electric correction structure by the use of laser, and a post-burning circuit is formed on and in the substrate.例文帳に追加

レーザを使用して、電気的修正構造から欠陥ネットを電気的に分離し、これに続いて、基板上および基板内に後焼成回路を形成する。 - 特許庁

In the fail safe mode, when a defect is detected in verify-operation after data is written in the flash memory, error correction is performed and use of the flash memory is continued.例文帳に追加

フェイルセーフモードでは、フラッシュメモリにデータを書き込んだ後のベリファイ動作において不良を検出すると、エラー訂正してフラッシュメモリの使用は継続される。 - 特許庁

To provide a defect correction method for satisfactorily correcting a defective part existing in a color layer of a color filter.例文帳に追加

本発明は、カラーフィルタの着色層に存在する欠陥部分を良好に修正するための欠陥修正方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

Subsequently, the correction signal strength of scattered light for the EUV light is computed for every mesh when there is no defect on the EUV mask (step S03).例文帳に追加

その後、ＥＵＶマスク上に欠陥が無い場合におけるＥＵＶ光に対する散乱光の補正信号強度を、メッシュごとに算出する（ステップＳ０３）。 - 特許庁

To achieve a process without overetching or insufficient etching and a process with high accuracy in surplus defect correction of a photomask by using atomic force microscope techniques.例文帳に追加

原子間力顕微鏡技術を用いたフォトマスクの余剰欠陥修正でオーバーエッチや削り残しのない加工や高精度な加工を実現する。 - 特許庁

When the target pixel is not a defective pixel, a defect correction section 144 outputs the pixel value of the target pixel received from the memory section 141 as it is.例文帳に追加

注目画素が欠陥画素でないと、欠陥補正部１４４はメモリ部１４１から入力された注目画素の画素値をそのまま出力する。 - 特許庁

The imaging unit 14 comprises a temperature sensor 200 for detecting the temperature of the imaging element, and a temperature influence correction unit 216 corrects a transfer defect of the signal charges in the imaging element.例文帳に追加

撮像素子の温度を検知する温度センサ200を撮像部14に設け、温度影響補正部216は、撮像素子における信号電荷の転送不良を補正する。 - 特許庁

To accurately carry out correction so that the concentration of a pixel corresponding to the defect position of a detection element being provided at a radiation solid-detecting device does not become specific concentration being different from the periphery.例文帳に追加

放射線固体検出装置が備える検出素子の欠陥位置に対応する画素の濃度が周辺と異なる特異な濃度とならないように正確に補正する。 - 特許庁

To provide a correction liquid for correcting a color filter defect generating no clogging in an ejection port of a micro dispenser and no volume contraction of a coated film (corrected film).例文帳に追加

マイクロディスペンサの吐出口に目詰まりを起こさず、また、被膜（修正膜）が体積収縮を起こさないカラーフィルタ欠陥修正用の修正液を提供すること。 - 特許庁

To provide a defect correction method capable of correcting easily a micro pattern omission defective part, without imparting a damage in the vicinity of the defective part and without generating contamination.例文帳に追加

欠陥部の近傍にダメージを与えたり、汚染することなく、微細なパターン抜け欠陥部を容易に修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

The primary defect position correction expression includes three terms of an offset component, an extension component and a rotation component of the observation coordinate system to the detection coordinate system.例文帳に追加

この１次の欠陥位置補正式は、検出座標系に対する観察座標系のオフセット成分、拡大成分、回転成分といった３つの項を有している。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus that allows a plurality of pieces of different defective type information to be properly used for defect correction on a single defective pixel.例文帳に追加

一つの欠陥画素に対して複数の異なる欠陥種類情報を適切に欠陥補正に適用させることを可能にした画像処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for correcting patterns capable of stably correcting a fine pattern and preventing the periphery of a defect part from being contaminated by correction fluid.例文帳に追加

微細パターンを安定に修正することができ、修正液によって欠陥部周辺が汚染されるのを防止することが可能なパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To attain effective defect correction without substantially causing the deterioration of resolution by effectively utilizing the information on effective pixel thereby minimizing the deterioration of S/N.例文帳に追加

有効画素の情報を無駄無く利用し、従ってＳＮの劣化を最小限にとどめつつ解像度の劣化を事実上生じない効果的な欠陥補正を可能にする。 - 特許庁

Data different from data outputted by a demodulator when the amplitude of reproduction signal is lost, are arranged on the unused part of data of the 2nd error correction code, and the constitution is made so that the unused data part of the 2nd error correction code surely becomes error in the occurrence of the defect.例文帳に追加

第２のエラー訂正符号のデータ未使用部には、再生信号振幅が失われた場合に復調器が出力するデータとは異なったデータを配し、デフェクト発生時に第２のエラー訂正符号の未使用データ部が確実にエラーとなるように構成する。 - 特許庁

To provide a highly accurate drift correction method with which a photomask is scarcely damaged, by solving problems associated with the conventional photomask correction method using a one-point-drift correction such as occurrence of a scan damage on a place other than a place with a defect on the photomask, inability to open any pin hole in the case of a fine pattern, and so on.例文帳に追加

ワンポイントドリフト補正を用いた従来のフォトマスク修正方法の抱えるフォトマスク上の欠陥以外の箇所にスキャンダメージが生じる、微細パターンの場合にピンホールを開けることができないといった問題を解決し、ダメージの少ない、精度のよいドリフト補正方法を提供する。 - 特許庁

Further, the controller 212 stores signal levels of the defective pixels, and carries out conversion of the signal level in response to each reading method so that detection of a defect by one reading method permits defect correction by a plurality of the reading methods as its control.例文帳に追加

また、コントローラ２１２は、欠陥画素の信号レベルを記憶して、各読み出し方法に応じてその信号レベルを変換することにより、１つの読み出し方法による欠陥検出によって、複数の読み出し方法の欠陥補正が行えるように制御する。 - 特許庁

Thus, this improves the insulation and lowers the probability of occurrence of short circuit at the crossing parts of the rescue wiring and the signal lines to improve the probability of correction of the defect in the display area.例文帳に追加

これにより絶縁性を向上しレスキュー配線と信号線の交差部での短絡の発生確率を低下させ、表示領域の欠陥の修正が可能となる確率を向上できる。 - 特許庁

The step of correcting the defect portion includes forming a resist film on the photomask again, performing prescribed pattern drawing on a prescribed region including the defect portion, developing it to form a correction resist pattern, and removing the residual substance at the defect portion by performing etching using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

欠陥部分を修正する工程は、フォトマスク上に再度レジスト膜を形成し、欠陥部分を含む所定領域に所定のパターン描画を行い、現像して修正用レジストパターンを形成し、該レジストパターンをマスクとしてエッチングを施して欠陥部分の余剰物を除去する。 - 特許庁