「Correction of defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In an image processor for processing data picked up using an imaging device, imaging data concerning a defect pixel having a defect level higher than a predetermined level undergoes interpolation correction processing based on the imaging data of other pixel, and imaging data concerning a defect pixel having a defect level lower than a predetermined level undergoes offset correction processing or gain correction processing.例文帳に追加

撮像素子を用いて撮像された撮像データを処理する画像処理装置において、欠陥レベルが所定レベルより高い欠陥画素に係る撮像データは、他の画素の撮像データに基づく補間補正処理を行い、欠陥レベルが所定レベルより低い欠陥画素に係る撮像データは、オフセット補正処理又はゲイン補正処理を行なう。 - 特許庁

To provide a pixel defect correction device which is capable of reducing the amount of position information on pixel defects recorded in a nonvolatile memory.例文帳に追加

不揮発性メモリに記録する画素欠陥位置情報量を削減できる画素欠陥補正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing exposure mask capable of exactly performing the judgement of the necessity of defect correction of the exposure mask.例文帳に追加

露光用マスクの欠陥修正要否の判定を、より正確に行うことが可能な露光用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect correction device of an electronic circuit pattern, the correction device actualizing defect species which are difficult to be recognized by observation using a conventional correction device relative to defects detected by an electric inspection or the like, and normalizing a pixel or forming a semi-black point therefrom.例文帳に追加

電気検査等で検出された欠陥に対して、従来の修正装置での観察では認識が困難であった欠陥種を顕在化し、画素を正常化あるいは半黒点化できる電子回路パターンの欠陥修正装置の提供。 - 特許庁

In the method for applying the defect correction and the calibration to image data (100) in the image system using a plane spatial optical modulator (146), a tone correction LUT (148') is applied to the image data (100) and the calibration correction is applied before the defect correction of using a defect map (122) and an associated gain table (124).例文帳に追加

面空間光変調器（１４６）を使う画像システムにおいて画像データ（１００）に欠陥修正及び較正を適用する方法であって、画像データ（１００）にトーン修正ＬＵＴ（１４８’）を適用し、欠陥マップ（１２２）及び関連する利得テーブル（１２４）を使う欠陥修正を適用する前に、較正修正を適用する。 - 特許庁

To provide a method of correcting a defect of a color filter, in which a white defect part in a colored layer of the color filter is corrected by selectively making a correction fluid stay in the white defect part so that a color blend or a projection is not generated newly, and to provide an apparatus for correcting the defect of the color filter.例文帳に追加

カラーフィルタの着色層における白欠陥を修正する方法において、修正液を白欠陥部に選択的に残すことができ、従って新たな混色や突起を発生させることの無い修正方法および修正装置を提供すること。 - 特許庁

The application unit includes an application part 10 for applying a correction ink 14 to a white defect 6a of a liquid crystal color filter substrate 1, and a solvent vapor supply part 15 for supplying vapor of a solvent 18 of the correction ink 14 to the correction ink 14 applied to the white defect 6a.例文帳に追加

この塗布ユニットは、液晶カラーフィルタ基板１の白欠陥６ａに修正インク１４を塗布する塗布部１０と、白欠陥６ａに塗布された修正インク１４に修正インク１４の溶媒１８の蒸気を供給する溶媒蒸気供給部１５とを備える。 - 特許庁

In the defect correction device 1, a pair of substrate end supporting tables 3 is arranged on which a glass substrate 99 is placed.例文帳に追加

欠陥修正装置１では、ガラス基板９９が載置される１対の基板端支持台３が配設されている。 - 特許庁

To suitably correct image deterioration due to a pixel defect of an imaging element even when performing electronic shake correction.例文帳に追加

電子手ぶれ補正を行う場合にも、撮像素子の画素欠陥に起因する画像劣化を適切に補正すること。 - 特許庁

The shutter 31 is closed after a proper amount of correction liquid 20a spreads all over the whose white voice defect part 13a.例文帳に追加

白抜け欠陥部１３ａ全体に適切な量の修正液２０ａが行きわたったら、シャッタ３１を閉じる。 - 特許庁

To provide a mask blank capable of suitably applying EB defect correction and also thinning a light-shielding film.例文帳に追加

ＥＢ欠陥修正を好適に適用でき、なお且つ遮光膜の薄膜化を可能とするマスクブランクを提供する。 - 特許庁

Consequently, a defect correction part 101 preferentially corrects the pixel values of defective pixels having high defective levels.例文帳に追加

これにより、欠陥補正部１０１では、欠陥レベルが高い欠陥画素の画素値の補正を、優先的に行う。 - 特許庁

After performing skew correction of the inspection image data, image collation is performed, and thereby a print defect is extracted (S204, S205).例文帳に追加

検査画像データをスキュー補正した後に、画像照合して印刷欠陥を抽出する（Ｓ２０４，Ｓ２０５）。 - 特許庁

To provide a defect-correcting technique of high transmittance and satisfactory phase controllability, in order to provide a phase shift mask consisting of ruggedness of glass or quartz with high-quality defect correction.例文帳に追加

ガラスまたは石英の凹凸からなる位相シフトマスクに対して高品質な欠陥修正を提供するためには、高い透過率で、位相制御性も良い欠陥修正技術が必要である。 - 特許庁

To provide a defect correction circuit capable of also dealing with a defect caused by a change with the passage of time without especially limiting the number of handleable defects.例文帳に追加

本発明は、対処可能な欠陥個数に特に制限が無く、又経時変化で発生する欠陥に対しても対応可能な欠陥補正回路を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a proximity effect correction method for decreasing the number of times of proximity effect correction which induces defects in judging the accuracy of proximity effect correction and thereby, for decreasing works in conventional defect judgment inspection.例文帳に追加

近接効果補正の精度判定において、欠陥となる近接効果補正の回数を低減し、これにより従来の欠陥判定検査における作業を軽減することができる近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

Next, comparison between a set threshold to be a defect criterion with the correction data, and comparison with a normal value of an inclination of the correction data in a set section are performed.例文帳に追加

次に、設定された欠陥判断基準となる閾値と修正データとの比較と、設定された区間内での修正データの傾きの正常値との比較とを行う。 - 特許庁

To provide a defect correction method of photomasks that efficiently corrects even huge black defect, and can suitably correct, in particular, a black defect occurring a transflective part of a gray-tone mask without damaging a transflective film in the defect part.例文帳に追加

巨大黒欠陥であっても効率的に修正することができ、特にグレートーンマスクの半透光部に発生した黒欠陥を欠陥部分の半透光膜にダメージを与えることなく好適に修正できるフォトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pixel defect detection/correction device that detects pixel defects even if there is a large value of the pixel in the adjacent same color pixels, an image pickup device, a pixel defect detection/correction method, and program therefor.例文帳に追加

同色隣接画素に大きな値の画素が存在する場合であっても画素欠陥を検出することが可能な画素欠陥検出補正装置、撮像装置、画素欠陥検出補正方法、およびプログラムを提供する。 - 特許庁

As a defect of a reticle pattern can be corrected by the defect correction mechanism while in-situ observing a transferred image by the optical emulation system, the reticle pattern can be efficiently corrected while avoiding a problem such as excessive correction.例文帳に追加

光学エミュレーションシステムにより転写像をその場観察しながら、欠陥修正機構によりレチクルパターン欠陥を修正できるので、過修正などの問題を回避しつつ、効率的にレチクルパターンの修正ができる。 - 特許庁

To provide a method for correcting a defect of a color filter with which no new projection nor color mixing are produced on surrounding pixels even when a correction liquid is stuck to a correction opening produced by laser beam in correcting a pixel defect of the color filter.例文帳に追加

カラーフィルタの画素欠陥を修正する際に、レーザー光にて設けた修正口に修正液を被着させても、周囲の画素上に新たな突起や混色を発生させないカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect correction method by a laser beam in which a compound substrate disposed with a resin section of a correction object and an underlayer composed of ITO which is the underlayer thereof, successively from the surface side of a substrate on the substrate can be readily and surely subjected to correction of a projection defect of the resin section.例文帳に追加

基材上に、その表面側から順に、修正対象の樹脂部とその下地であるＩＴＯからなる下地層を配設した複合基材において、下地層を損傷することなく、簡単に、且つ、確実に、樹脂部の突起欠陥の修正を行える、レーザ光による欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

The solid-state image sensor 3 is activated at a low temperature, a linear defect detection correction circuit 6 detects the linear defect of the solid-state image sensor 3 on the basis of the pixel signal of the solid-state image sensor 3, and an address of the detected linear defect is stored.例文帳に追加

固体撮像素子３を低温で動作させ、固体撮像素子３の画素信号に基づいて固体撮像素子３の線状欠陥を線状欠陥検出補正回路６により検出し、検出された線状欠陥のアドレスを記憶しておく。 - 特許庁

To provide a method for correcting a defect of a photomask capable of acquiring an excellent cross-sectional shape at the edge part of a pattern of an absorption layer or a light blocking layer after dark defect correction, a method for manufacturing a photomask using it, and a photomask defect correction device for performing the method.例文帳に追加

本発明は、黒欠陥修正後、吸収層または遮光層のパターンの端部にて良好な断面形状が得られるフォトマスクの欠陥修正方法、およびそれを用いたフォトマスクの製造方法、それを実施するためのフォトマスクの欠陥修正装置を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern defect correcting method and a pattern defect correcting device capable of satisfactorily correcting pattern defects, and enhancing correction efficiency.例文帳に追加

パターン欠陥修正を良好に行なうとともに修正効率の向上を図ることが可能なパターン欠陥修正方法およびパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

To enable the correction of black defect in which also the riverbed is not generated in the practical throughput by combining a defect correcting device using an ion beam and an atomic force microscope(AFM).例文帳に追加

イオンビームを用いた欠陥修正装置と原子間力顕微鏡(AFM)を組み合わせることで、実用的なスル−プットでリバーベッドも無い黒欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

A correction paste 21 is coated on a rib chip defect 85 generated to a rib 83 formed on a surface of a glass substrate 80, and laser spot 31 is moved along the longitudinal direction of a correction portion 30 made of the coated correction paste 21, and the correction portion 30 is calcined.例文帳に追加

ガラス基板８０の表面に形成されたリブ８３に発生したリブ欠け欠陥８５に修正ペースト２１を塗布し、塗布した修正ペースト２１からなる修正部３０の長さ方向に沿ってレーザスポット３１を移動させて修正部３０を焼成する。 - 特許庁

Defects in repetitive patterns in a multilayer substrate are detected by a defect detection part provided in the defect correcting device, and when the defects detected by the defect detection part overlap with a region where an occurrence of the interlayer short-circuit defect is assumed, a control part 301 provided in the defect correcting device generates an object corresponding to a defect correction technique for the interlayer short-circuit defect.例文帳に追加

欠陥修正装置が備える欠陥検出部により多層基板における繰り返しパターン内の欠陥を検出し、欠陥検出部で検出された欠陥が層間ショート欠陥の発生が想定される領域に重なる場合、欠陥修正装置が備える制御部３０１により層間ショート欠陥用の欠陥修正手法に対応するオブジェクトを生成する。 - 特許庁

To provide a defect correction method for a colored component of a display element by an ink jet method using an inexpensive and highly versatile material by eliminating failure of correction and achieving a high correction success rate.例文帳に追加

修正の失敗をなくし、高い修正成功率を実現させる、安価で汎用性の高い材料を用いたインクジェット法による表示素子用カラー化部品の欠陥修正方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

A defect image of a repeated pattern in a multilayer substrate and a reference image are obtained, difference images between the obtained defect image and the reference image are generated by a control unit included in a defect correction device.例文帳に追加

多層基板における繰り返しパターンの欠陥画像と参照画像を取得し、欠陥修正装置が備える制御部により、取得された前記欠陥画像と前記参照画像の差分画像を生成する。 - 特許庁

To provide a device and a method for mask correction which can quantitatively measure the shape of a defect formed on a photomask and correct the defect according to the defect shape.例文帳に追加

本発明は、フォトマスクに形成された欠陥の形状を定量的に測定し、該欠陥形状に基づいて欠陥を修正することができるマスク修正装置及びマスク修正方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for correction of a white defect in a mask pattern, capable of precisely correcting the white defect without damaging a photomask by using near field light, and to provide a mask pattern.例文帳に追加

フォトマスクがダメージを受けることなく、精度よく、白欠陥の修正を可能とする、近接場光を用いたマスクパターンの白欠陥修正方法およびマスクパターンを提供する。 - 特許庁

A unit for controlling color panels (R, G, and B panel modules 31, 32, and 33), connected optically in series and a luminance panel (luminance panel module 50), includes a defect correction data storing part 103 for storing information specifying defective pixels of color panels and a defect correction circuit 102 for controlling the luminance panel according to the defects of defective pixels stored in the defect correction data storage part 103.例文帳に追加

光学的に直列につながれた色パネル（R、G、Bパネルモジュール31、32、33）と輝度パネル（輝度パネルモジュール50）を制御する装置であって、色パネルの欠陥画素を特定する情報を記憶する欠陥補正用データ記憶部103と、欠陥補正用データ記憶部103に記憶されている欠陥画素の欠陥に応じて輝度パネルを制御する欠陥補正回路102とを備えている。 - 特許庁

In the phase defect correction method of reflection type mask, phase difference between a phase defect part and a high reflection part is practically brought to 0 (zero) by laminating a multilayer film composed of two kinds of material on the phase defect part, and the reflectance of the phase defect part is substantially equalized to the reflectance of the high reflection part.例文帳に追加

位相欠陥部上に２種類の材料からなる多層膜を積層することにより、該位相欠陥部と高反射部の位相差を実用上０（ゼロ）とし、該位相欠陥部の反射率と高反射部の反射率を実用上等しくするように行う反射型フォトマスクの位相欠陥修正方法である。 - 特許庁

ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, TWO-DIMENSIONAL IMAGE DETECTOR PROVIDED THEREWITH, AND PIXEL DEFECT CORRECTION METHOD OF TWO-DIMENSIONAL IMAGE DETECTOR例文帳に追加

アクティブマトリクス基板及びそれを備えた二次元画像検出器並びに二次元画像検出器の画素欠陥修正方法 - 特許庁

If any defective part is found out, a defect correction processing section 22 corrects the defective part to have a background color of the document.例文帳に追加

もし欠損箇所があれば、その欠損箇所は欠損補正処理部２２によって帳票の地色に補正される。 - 特許庁

A defect correction circuit 114 carrys out correction processing of a defective pixel on the basis of an instruction from a pixel detection circuit 113 and carrys out replacement processing of a pixel signal to an optional pixel designated from an operation section on the basis of pixel designation information set to the defect correction circuit 114 via a microcomputer 117.例文帳に追加

欠陥補正回路１１４は、画素検出回路１１３からの指示に基づいて欠陥画素の補正処理を行うとともに、マイクロコンピュータ１１７を介して欠陥補正回路１１４に設定された画素の指定情報に基づいて、操作部から指定された任意の画素に対して画素信号の置換処理を行う。 - 特許庁

In the method for correcting a pattern, correction ink 7 is applied to the white defect 6a of a pixel 6 in a liquid crystal color filter substrate 1, thereafter, a gas containing the vapor of a solvent 16 is sprayed on the correction ink 7 so that the thickness of the correction ink 7 may be uniformized, consequently to reduce the viscosity of the correction ink 7.例文帳に追加

このパターン修正方法では、液晶カラーフィルタ基板１の画素６の白欠陥６ａに修正インク７を塗布した後、修正インク７の厚みが均一になるように、溶媒１６の蒸気を含む気体を修正インク７に噴霧し、修正インク７の粘度を低下させる。 - 特許庁

To provide a defect correction method and a manufacturing method of an alignment layer, which can contribute to yield improvement of a liquid crystal display panel, a manufacturing method of a liquid crystal display panel, a manufacturing method of a liquid crystal display device, and an alignment layer defect correction device.例文帳に追加

液晶表示パネルの歩留まり向上に貢献することができる配向膜の欠陥修正方法及び製造方法、液晶表示パネルの製造方法及び液晶表示装置の製造方法、並びに、配向膜欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a bodysuit intended for solving a defect of limited local figure correction by a local patch method and presenting effect of the whole figure correction of the upper half of the body.例文帳に追加

本発明は、ボディスーツおいて、「局部的当て布」方式による、限定された局部的な体型補整の欠陥を解決し、上半身部の全体的な体型補整の効果を現出することを目標とする。 - 特許庁

To provide a method for correcting a defect of a color filter, which removes only a black defect on a color pixel without removing the color pixel by removing even high portions even when the black defect has an uneven thickness, without providing a correction opening when removing the black defect on the color pixel.例文帳に追加

着色画素４２上の黒欠陥の除去を修正口Ｓを設けることなく、その厚さに高低があっても、高い部分も除去し、着色画素は除去せずに黒欠陥のみを除去するカラーフィルタの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect correcting method of a phase shift photomask that can raise and stabilize the yield of mask production by making efficient defect inspection and correction stages of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクにおける欠陥検査及び修正工程の効率化を図り、マスク生産における歩留の向上及び安定を図ることができる位相シフトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus for detecting a very small defect of a solid-state image sensor conspicuous as an image is brighter and correcting a pixel signal of the detected very small defect, and to provide a correction method of the pixel signal.例文帳に追加

画像が明るいほど目立つ固体撮像素子の微小欠陥を検出し、検出された微小欠陥の画素信号を補正する撮像装置および画素信号の補正方法を提供する。 - 特許庁

To settle problems that, in defect correction of a colored pattern of a color filter and the like, the corrected defect parts become uneven to cause unmodified parts, and projection height of the corrected parts becomes higher.例文帳に追加

カラーフィルター等における着色パターンの欠陥修正時に、修正された欠陥部分が不均一となり未修正部分が出来たり、修正部分の突起高さが高くなったりする問題を解決する - 特許庁

The defect correction efficiency is improved in comparison with a conventional technique which narrows down the correction object only by bus line resistances or electric characteristics of pixels.例文帳に追加

バスライン抵抗または絵素の電気的特性のみによって修正対象を絞り込む従来技術に比べて、欠陥修正効率を向上させることができる。 - 特許庁