「Correction of defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

When there is an abnormality, according to the conditions of abnormality, a cause such as soldering defect in the related input or output terminal is estimated and abnormality is removed by correction.例文帳に追加

異常があるときには、異常の症状に応じて、関連する入力端子または出力端子のはんだ付け不良などの原因が推定され、修整して異常を取除く。 - 特許庁

To provide a rubber for correcting a tire pattern model applicable for the production of a silicone rubber mold with a silicone rubber composition without causing vulcanization defect in the production of the rubber mold and enabling the correction and repair of the mold.例文帳に追加

シリコーンゴム組成物を用いたシリコーンゴム型の製造に適用し得るタイヤパターンモデルを、ゴム型製作時における加硫不良を生ずることなく、修正、修繕することができるタイヤパターンモデル修正用ゴムを提供する。 - 特許庁

In accordance with the types of the defective pixels, correspondence between the imaging conditions and the defect levels of the defective pixels to be corrected is prepared in advance, whereby appropriate correction in accordance with the type of defective pixel can be performed.例文帳に追加

欠陥画素の種類に応じて、撮像条件と補正すべき欠陥画素の欠陥レベルとの対応を予め用意しておくことにより、欠陥画素の種類に応じた適切な補正を行うことができる。 - 特許庁

To provide an object-shape evaluating device which properly performs congruence transformation on a measurement point group and a reference point group and reducing a defect incorrect detection caused by mold correction, when detecting a defect on the basis of the shift between the reference point group and the measurement point group.例文帳に追加

測定点群と基準点群との合同変換が適正に行われるとともに、基準点群と測定点群とのずれから欠陥を検出する際に型修正に起因する欠陥誤検出が低減される物体形状評価装置を提供する。 - 特許庁

When the number of times of detection reaches the predetermined number of times, a detected pixel position and the level in each of detection are compared (S110) and when they match each other, a pixel defect is determined and written into the memory (S111), and white flaw correction is performed (S112).例文帳に追加

検出回数が所定回数に達した場合に、検出毎の検出画素位置・レベルを比較し（Ｓ１１０）、一致していれば画素欠陥と判定し、メモリへの書き込みを行い（Ｓ１１１）、白キズ補正を行う（Ｓ１１２）。 - 特許庁

A weighted operation means 404 performs operation processing by applying optional weighting respectively to the projection data of the defect inspection object of this time which is obtained in the means 403 and shading correction data used for correction processing to the preceding processing object.例文帳に追加

重み付け演算手段４０４は、射影取得手段４０３にて得られた今回の欠陥検査対象物の射影データと、前回の処理対象物に対する補正処理に用いたシェーディング補正データとのそれぞれに対して任意の重み付けを行なっての演算処理を行なう。 - 特許庁

The X-ray diagnostic imaging apparatus is provided with: a part 9 for calculating the frequency of the moire included in the diagnostic image; and a defect correction pixel selection part 10 for selecting a pixel to be used for defective pixel correction from the frequency of the moire calculated in the moire frequency calculation part 9.例文帳に追加

上記課題は、診断画像中に含まれるモアレ周波数算出部9と、前記モアレ周波数算出部9にて算出されたモアレの周波数から欠損画素補正に用いる画素を選択する欠損補正画素選択部10とを備えることによって解決される。 - 特許庁

The defect inspection device for processing image information imaging an inspection object having a prescribed area to be inspected by a plurality of area sensors and discriminating a defect based on a characteristic amount calculated from brightness change in the area includes correction means between characteristic amount imaging systems for correcting the difference between the characteristic amounts to the same defect between the plurality of the area sensors in each area sensor.例文帳に追加

所定の被検査エリアを有する検査対象を、複数のエリアセンサにより撮像した画像情報を処理し、前記エリア内の輝度変化から計算した特徴量に基づいて欠陥を識別する欠陥検査装置において、 前記複数のエリアセンサ間の同一欠陥に対する特徴量の差を補正する、特徴量撮像系間補正手段を前記エリアセンサ毎に備える。 - 特許庁

The correction method for the color filter in which pixels or pixels and black matrix are formed is characterized by specifying a defect of the pixels or color filter, grinding and removing the minimum area including the defect, and forming a color layer into the ground and removed part by the use of the correction color for the color filter, the color layer having a color identical to that of the ground part.例文帳に追加

画素、または画素とブラックマトリックスとが形成されたカラーフィルターにおいて、上記画素またはカラーフィルターに存在する欠陥個所を特定し、該欠陥箇所を含む微小面積を研削除去し、該研削除去部分に、研削された個所と同色の着色層をカラーフィルター補修用カラーを用いて形成することを特徴とするカラーフィルターの補修方法、およびカラーフィルター補修用カラー。 - 特許庁

To provide a method for correcting a defect on a color filter substrate improving a defective part by locally forming a favorable transparent conductive film without damaging a periphery of a correction part when correcting it; and to provide a color filter substrate corrected by the method for correcting the defect.例文帳に追加

修正する際に修正箇所周辺に損傷を与えることなく、局所的に良好な透明導電膜の形成を行うことで、欠陥部分を良品化するカラーフィルタ基板の欠陥修正方法と、この欠陥修正方法によって修正されたカラーフィルタ基板を提供する。 - 特許庁

In correcting a defect in a local object in an image, the object is detected and the detection information of the detected object and the image of the object before the correction are homologized and stored.例文帳に追加

画像中の局所的な対象における不具合を修正するにあたってその対象を検出し、検出された対象の検出情報と、その対象が修正される前の画像とを対応付けて保存する。 - 特許庁

To provide a method for molding a correction lens for the exposure of a cathode ray tube excellent in ultraviolet permeable characteristics, the adhesion of an ultraviolet cured resin and a substrate thin plate, and optically having no defect by simple constitution.例文帳に追加

簡単な構成で紫外線の透過特性に優れ、紫外線硬化樹脂と基体薄板との接着性に優れ、光学的にも欠陥の無いブラウン管露光用補正レンズの成形方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a means capable of preventing pressure leakage by efficiently mending the minute casting defect generated in the rim of the vehicle wheel without performing correction working or without exerting a significant burden on the work thereof.例文帳に追加

修正加工を行わずに、又はこれらの作業に大きな負担をかけずに、効率よく、車両用ホイールのリムに生じた微小鋳造欠陥を修復し、圧漏れを防止することが可能な手段を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and a device for correcting a mask defect which realize the reduction of liquid chemicals for use in washing and the facilitation of discrimination between foreign matters and black defects to thereby realize efficient correction of mask defects with a high reliability.例文帳に追加

洗浄に使用する薬液を減少させることができ、かつ、異物および黒欠陥の判定を容易にして、効率的かつ信頼性のあるマスク欠陥修正装置およびマスク欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology by which the boundary between the substrate of a photo mask and a shielding material is accurately recognized and displayed and to accordingly realize the correction of a defect on the photo mask on the basis of the accurate position recognition.例文帳に追加

本発明の目的課題は、フォトマスクの基板と遮蔽物質との境界を正確に認識して表示する技術の提供、ひいてはその正確な位置認識に基づくフォトマスク上の欠陥の修正の実現にある。 - 特許庁

To provide a method for correcting a pixel defect which makes the defective pixel generated in an image display device inconspicuous on an image display in order to improve the yield of products and an image display device which is subjected to correction of the defective pixel of the image display.例文帳に追加

製品の歩留まり向上のため、画像表示装置に発生する欠陥画素を画像表示上で目立たなくする画素欠陥補正方法、及び画像表示の欠陥画素が補正された画像表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure correction operation device which calculates the extent of correction for correcting the intensity of a light beam so as to accurately suppress an exposure defect caused by flare or the like in an exposure device which modulates the intensity of the light beam in accordance with picture data and irradiates a photosensitive material by the light beam to expose a picture.例文帳に追加

画像データに応じて光ビームの強度を変調させて感光材料に照射し、画像の露光を行う露光装置において、フレアなどによる露光不良を的確に抑制するように、光ビームの強度を補正するための補正量を算出する露光補正演算装置を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation image processing unit that applies pixel defect correction of a linear prediction type to a radiation image including grid pattern information so as to suppress artifacts due to a defective pixel when an image pickup element includes the defective pixel.例文帳に追加

撮像素子に欠陥画素が含まれるとき、グリッド縞情報を含む放射線画像に対して線形予測型の画素欠陥補正を施し、上記欠陥画素によるアーチファクトを抑える。 - 特許庁

To prevent a film formation from fine particles produced in a laser CVD as a CVD nucleus and the film edge from swelling outside the laser irradiation pattern in a conventional correction method of fine clear defect.例文帳に追加

従来び白欠陥の修正方法では、レーザＣＶＤ時に生成した微粒子がＣＶＤの核となり膜が形成され、レーザ光の照射形状の外側に膜のエッジが膨らんでしまう。 - 特許庁

To provide a pattern defect correcting device, wherein stable operation is provided, regardless of operator, and process is stabilized for saving labor and improved correction level.例文帳に追加

作業者に関わりなく安定的に稼働させることができ、工程の安定化並びに省人化を図ることができ、かつ、修正品位を向上させることができるパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

To improve the production efficiency and to reduce a manufacture cost, by deciding on the appropriate correction method for the defect of a transparent insulating film, at the time the transparent insulating film is formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に透明絶縁膜が形成された時点で透明絶縁膜の欠陥に対して適切な修正方法を決定し、生産効率の向上及び製造コストの削減を実現する。 - 特許庁

The defect correction method of the color filters comprises a pattern transfer step of transferring at least a portion of two or more colors of color patterns on a colored image missing area on a substrate by using a transfer film having the color patterns.例文帳に追加

カラーフィルタの欠陥修正方法において、基板上の着色画像欠落領域に、２色以上の色パターンを有する転写フィルムを用いて前記色パターンの少なくとも一部を転写するパターン転写工程を設けて構成されている。 - 特許庁

The system includes a correction system including the temporary substitution of a defective pixel by the linear interpolation of a nearby pixel value at the periphery of the defect pixel, the decision of a local gradient partially based on the obtained picture and a gradient kernel and the supply of a correction value based on the local gradient for correcting the defective pixel.例文帳に追加

このシステムは、欠陥ピクセル周囲の近傍ピクセル値の直線補間によって、一時的に欠陥ピクセルを置き換えること、部分的に取得画像およびグラディエント・カーネルに基づいて、局所グラディエントを決定すること、および欠陥ピクセルを訂正するために局所グラディエントに基づいた補正値を提供することを含む、訂正方式を含む。 - 特許庁

The defect correction device includes a transfer film 18 which has a transfer layer transferred to a pixel boundary part and is oppositely arranged on a substrate 6, and an application needle 27 which corrects the pixel contacting the pixel boundary part of which transfer layer is transferred from the transfer film 18 by a correction fluid 29 corresponding to the pixel.例文帳に追加

画素境界部に転写される転写層を有し、基板６上に対向配置される転写フィルム１８と、転写フィルム１８から転写層が転写された画素境界部と接する画素を当該画素に対応する修正液２９で修正する塗布針２７と、を備える。 - 特許庁

A defect correcting device applying the correction material to the defective point of a panel substrate to correct the defective point is provided with an application head for applying the correction material to the defective point and a shielding mechanism inserting a shielding member between the application head and the panel substrate so that the shielding member can be retreated.例文帳に追加

パネル基板の欠陥箇所に修正材料を塗布して修正する修正装置において、修正材料を欠陥箇所へ塗布するための塗布ヘッドと、塗布ヘッドとパネル基板との間に遮蔽部材を退避可能に挿入する遮蔽機構を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a coordinate correction method between different apparatuses which enables access to a defective position simply and precisely with a defective review system, based on coordinate information of an arbitrary defect obtained by a shape defective inspection device, and to provide an inspection method using the coordinate correction method.例文帳に追加

外観欠陥検査装置で取得した任意の欠陥の座標情報に基づき欠陥レビュー装置で当該欠陥位置に容易に且つ精度良くアクセス可能にする異なる装置間の座標補正方法及びこの座標補正方法を用いた検査方法を提供する。 - 特許庁

The metal ring inspection apparatus having a defect inspection section for inspecting the surface defects of a metal ring after performing both of or one of perimeter correction and perimeter measurement comprises a determination reference generation means (threshold value selection section 49) for generating generating criteria for inspecting defects at the defect inspection section, on the basis of perimeter correction information or perimeter measurement information or other pieces of information related to the information.例文帳に追加

周長補正と周長測定の両方又はいずれか一方を行った後の金属リングの表面欠陥を検査する欠陥検査部を有する金属リング検査装置において、前記欠陥検査部における欠陥検査のための判定基準を、周長補正情報又は周長測定情報若しくはそれらの情報に密接に関連する他の情報に基づいて発生する判定基準発生手段（しきい値選択部４９）を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a shading correction method wherein, in detection of surface defects using an image, a part or all of a large-area defect flatly extending over a wide range on a surface to be inspected is not removed from an image by correction, and no rebounding phenomenon occurs in the corrected image in the vicinity of a boundary between the inside and outside of the target to be inspected.例文帳に追加

画像を用いた表面欠陥検出に際し、検査対象表面上の広い範囲に平坦に広がる大面積欠陥が補正によって画像からその一部または全体が除去されず、かつ検査対象内と外との境界部付近において補正された画像に跳ね返り現象が発生しないシェーディング補正方法を提供すること。 - 特許庁

The mask pattern correction method includes the steps of: acquiring three-dimensional information of a first portion where no black defect is present in a pattern edge of a mask pattern 5 by using a scanning probe microscope; and correcting a second portion where a black defect 2 is present in the pattern edge of the mask pattern 1 based on the three-dimensional information by using the probe of the scanning probe microscope.例文帳に追加

マスクパターン修正方法は、マスクパターン５のパターンエッジに黒欠陥が存在しない第１の部分の３次元情報を走査型プローブ顕微鏡を用いて取得するステップと、前記３次元情報に基づいてマスクパターン１のパターンエッジに黒欠陥２が存在する第２の部分を前記走査型プローブ顕微鏡のプローブを用いて修正を行うステップとを含む。 - 特許庁

Accordingly, an adjacent defective pixel conventionally treated under defect correction or the like as an abnormal pixel can be utilized as a normal pixel, thus enabling improvement of image quality of an obtained radiograph image without losing pixel information of an analyte.例文帳に追加

そのため、異常画素として欠陥補正されるなどして扱われていた隣接欠陥画素を正常画素として利用できるので、被検体の画素情報を失うことなく、取得された放射線画像の画質を向上させることができる。 - 特許庁

A pixel detection circuit 113 has a function of discriminating pixel signals configuring the image signal and performs the detection processing of the defective pixel and detection processing of the optional pixel replaced by the defect correction circuit 114 similarly to prior arts.例文帳に追加

画素検出回路１１３は、画像信号を構成する個々の画素信号を判定する機能を有し、従来と同様の欠陥画素の検出処理と、欠陥補正回路１１４によって置換された任意の画素の検出処理とを行う。 - 特許庁

A face contained in image data is detected using a face detection means, and a defect in white balance is calculated from a color evaluated value of a face region, thus calculating a desirable white balance correction coefficient by means of usual white balance calculation and weighting addition.例文帳に追加

顔検出手段を用いて画像データに含まれる顔を検出し、顔領域の色評価値からホワイトバランスの不具合を演算し、通常ホワイトバランス演算との加重加算により所望なホワイトバランス補正係数を算出する。 - 特許庁

Addresses or the like of finally obtained defective pixels are stored in a non-volatile memory 300, and defect correction processing is executed based on information of defective pixels stored in the non-volatile memory when an image is actually outputted.例文帳に追加

そして、最終的に得た欠陥画素のアドレス等を不揮発性メモリ３００に記憶させ、実際の画像出力時に、この不揮発性メモリ３００に記憶した欠陥画素の情報に基づいて欠陥補正処理を実行する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus capable of carrying out defect correction respectively properly for a reading method wherein an electric charge storage time of each pixel is the same and a reading method wherein an electric charge storage time by each pixel group is different from each other.例文帳に追加

各画素の電荷蓄積時間が同じである読み出し方法と、画素群ごとに電荷蓄積時間が異なる読み出し方法についてそれぞれ適切な欠陥補正を行うことができる撮像装置を提供する。 - 特許庁

When black defects are corrected, assist gas or etching gas is introduced through an etching gas introduction system 6, and only a black defect region 3 is selectively irradiated with an charged particle beam 4 and etched as high as the height of a recess of the original plate for correction.例文帳に追加

黒欠陥修正はエッチング用ガス導入系６からアシストガスまたはエッチングガスを導入し、荷電粒子ビーム４を黒欠陥領域３のみに選択照射して原版の凹部の高さまでエッチングし黒欠陥３を修正する。 - 特許庁

To provide an image processing method and an image processor which accurately detect the number of defective pixels existing in an imaging device, not only the total number of the defective pixels but also the number of the defective pixels for each range of a signal level, and which minimize adverse effects of the defective pixel on picture quality and provide a suitable pixel defect correction signal.例文帳に追加

撮像素子に存在する欠陥画素の個数をその総数のみならず信号レベルの範囲毎に正確に検出し、画質に与える悪影響を最小限に抑え良好な画素欠陥補正信号を得る画像処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

A defect correction device 1 has a stage 2 having a work W placed thereon and is so configured that a surface of the work W is observed by a CCD camera 6, and defects can be removed by laser light from a laser light source 7.例文帳に追加

欠陥修正装置１は、ワークＷを載置するステージ２を有し、ワークＷの表面をＣＣＤカメラ６で観察すると共に、レーザ光源７からのレーザ光で欠陥を除去できるように構成されている。 - 特許庁

On the occasion of photographing a still image, when exposure has been completed and a light blocking device 12b enters in operating state, a signal received by an imaging device 13 is once supplied to a defect correction unit 17 via an A/D converter 14.例文帳に追加

静止画を撮像する際、露光が完了して遮光装置１２ｂの状態になると、撮像素子１３により受光された信号がA/D変換器１４を介して一旦欠陥補正部１７、供給される。 - 特許庁

A correcting signal generating circuit 9 generates a correcting signal being the edge pulse signal of a signal from the signal which is outputted from a defect period detecting circuit 4 and indicates a defect period, the correcting signal is added to a TE signal by a prescribed polarity by a correction adder 10 and, then, the TE signal is corrected.例文帳に追加

ディフェクト期間検出回路４から出力されるディフェクト期間の示す信号からその信号のエッジパルス信号である補正信号を補正信号生成回路９で生成し、補正加算器１０でその補正信号を所定の極性でＴＥ信号に加算してＴＥ信号の補正を行う。 - 特許庁

When data is recorded in an optical disk, recorded data is divided into blocks corresponding to integral multiple of sectors of an optical disk, an error correction code is added for each block, data to which an error correction code is added is recorded making a fragment having the prescribed size corresponding to integral multiple of a block as a unit detecting whether a defect exists in a sector to be recorded or not.例文帳に追加

光ディスクにデータを記録する際に、記録するデータを、光ディスクのセクタの整数倍に対応したブロックに分割し、ブロック毎に誤り訂正符号を付加し、誤り訂正符号が付加されたデータを、記録しようとするセクタに欠陥があるか否かを検出しながら、ブロックの整数倍に対応した所定サイズのフラグメントを単位として記録する。 - 特許庁

White pixel defect corrections wherein the added value is subtracted are performed for image signals of respective pixels on vertical lines on a vertical transfer destination side relative to the defective pixel and white pixel defect corrections wherein the value obtained by multiplying the added value by a correction coefficient is subtracted are performed for image signals of respective pixels on the vertical transfer source side relative to the defective pixel.例文帳に追加

欠陥画素より垂直転送先側の垂直ライン上の各画素の画像信号に対しては、上乗値を減算することにより白傷補正を行い、欠陥画素より垂直転送元側の各画素の画像信号に対しては、当該上乗値に補正係数を乗算した値を減算することにより白傷補正を行う。 - 特許庁

The repair method includes: specifying processes (S101, S102) for specifying defective parts generating the bright spot defect; and applying processes (S103, S104) for applying a correction material for correcting the bright spot defect to become difficult to be viewed to the specified defective parts by an ink jet method on at least one substrate of a pair of the substrates.例文帳に追加

リペア方法は、一対の基板のうち少なくとも一方の基板について、輝点不良が生じる不良箇所を特定する特定工程（Ｓ１０１、Ｓ１０２）と、該特定された不良箇所に対して、輝点不良が視認され難くなるように修正するための修正材料を、インクジェット法により塗布する塗布工程（Ｓ１０３、Ｓ１０４）とを備える。 - 特許庁

In the pattern correcting method, when correction paste 7 is applied to an open defect portion 2a of an electrode 2 using a film 3 with a hole 3a as a mask, the thickness Ft of the film 3 and the short-axis length Sw of the hole 3a are so related that Ft>Sw.例文帳に追加

このパターン修正方法では、孔３ａの開いたフィルム３をマスクとして電極２のオープン欠陥部２ａに修正ペースト７を塗布する場合に、フィルム３の厚さＦｔと孔３ａの短軸長Ｓｗとの関係をＦｔ＞Ｓｗにする。 - 特許庁

In the correction method of a photomask, a light shielding part and a light transmitting part are formed on one side surface of the substrate with the prescribed pattern and, further, the defect on the surface of the opposite side to the surface on which the pattern is formed is filled with transparent resin.例文帳に追加

基板の片面に、遮光部と透光部が所定のパターンで形成されたフォトマスクの修正方法であって、パターンが形成された面の反対側の面上の欠点を透明樹脂で充填することを特徴とするフォトマスクの修正方法。 - 特許庁

To make high-quality correction of a defect possible even in a fine region where an etching gas or a source gas of a light-shielding film can not be efficiently supplied, without causing decrease in transmittance due to a Ga stain or changes in physical properties due to changes in the element content of the light-shielding film.例文帳に追加

エッチングガスや遮光膜原料ガスを効率的に供給できない微細領域でもＧａステインによる透過率の低下や遮光膜の元素含有量の変化による物性の変化が起こらない高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁