「Correction of defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

By the method for making mask pattern data, a proximity correction mask with high accuracy and no correction defect can be obtained in a short period of time while keeping the process margin in a complicated LSI pattern.例文帳に追加

以上のように、本発明のマスクパターンデータ作成方法によれば、複雑なＬＳＩパターンにおいて、プロセス余裕度を保ちながら補正欠陥の無い高精度な近接効果補正マスクを短時間で提供することができる。 - 特許庁

To realize optimum smoothing correction by decreasing a defect of abnormality emphasized image edge by referencing pixel density data of an original image in the case of generating smoothing processing data in an image processor that applies smoothing correction to the edge part of multi- valued image data.例文帳に追加

多値画像データのエッジ部分をスムージング補正する画像処理装置において、スムージング処理データを生成する際に、原画像の画素濃度データも参照することにより、画像エッジが異常に強調される不具合を低減し、最適なスムージング補正を実現すること。 - 特許庁

To provide a metal strip surface defect preventive method and surface defect preventive equipment capable of using a metal strip after performing the shape correction by a roller type leveler device, and efficiently removing foreign matters on the surface of the metal strip.例文帳に追加

ローラ式レベラー装置により形状矯正を行って、その後金属帯を使用する金属帯表面上の異物を効率的に除去することができる金属帯の表面欠陥防止方法および表面欠陥防止設備を提供する。 - 特許庁

To detect information relating to shading caused by defect of a pixel of an image sensor and an optical system for the correction of a photographed image in a proper timing having no effect onto the immediacy of photographing.例文帳に追加

撮影画像の修正のための、イメージセンサの画素欠陥や、光学系に起因するシェーディングに係る情報の検出を、撮影の即時性に影響を及ぼさない適切なタイミングで行えるようにする。 - 特許庁

To realize an information recording method and an information reproducing method capable of enhancing the reliability of data by increasing the correction capability in the burst error of recorded data to be generated by the defect, dust and scratch of a disk.例文帳に追加

ディスクの欠陥やごみ、傷により生じる記録データのバースト誤りでの訂正能力を増加させ、データの信頼性を高めることが可能な情報記録方法、再生方法を実現する。 - 特許庁

A value obtained by subtracting a density of a center pixel from a defect surrounding density, which is a density obtained by applying a filter arithmetic operation to the center pixel affected by the defect, is used as a correction amount (S7e).例文帳に追加

傷による影響を受けている画素を中心画素としたフィルタ演算により得られる濃度を傷周辺濃度として、上記傷周辺濃度から上記中心画素の濃度を減算して得られる値を補正量とする（Ｓ７ｅ）。 - 特許庁

To provide a defect correction method and a defect correcting device for correcting a disconnected defective portion in a wiring line thinner than 10 μm by an easy method without contaminating a TFT substrate nor damaging the nearby area of the defective portion.例文帳に追加

ＴＦＴ基板を汚染することなく、欠陥部の近傍にダメージを与えることなく、簡単な方法で１０μｍよりも細い配線の断線欠陥部を修正することが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

In the fine pattern correction method, laser light α, irradiated on a given position deviated from the center 32a of an objective lens 32, refracted with the objective lens 32, and directed toward a focus F is irradiated aslant from upward on a side wall face of the correction part 30 consisting of correction paste 21 coated on a rib chip defect 85.例文帳に追加

この微細パターン修正方法では、対物レンズ３２の中心３２ａから外れた所定の位置にレーザ光αを照射し、対物レンズ３２で屈折して焦点Ｆに向かうレーザ光αを、リブ欠け欠陥８５に塗布した修正ペースト２１からなる修正部３０の側壁面に斜め上方から照射する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus for detecting a linear defect extended in a vertical direction produced due to a potential dip of a horizontal transfer register and correcting a pixel signal of the detected linear defect when an operating temperature of a solid-state image sensor is low, and to provide a correction method of the pixel signal.例文帳に追加

固体撮像素子の動作温度が低い場合、水平転送レジスタのポテンシャルディップに起因して発生する垂直方向に延びる線状欠陥を検出し、検出された線状欠陥の画素信号を補正する撮像装置および画素信号の補正方法を提供する。 - 特許庁

The method of correcting the recessed defects on the overcoat layer 4 formed on the colored layer 3 of the color filter 5 includes a defect correction ink applying process to apply defect correction ink 7 to the recessed defects 6 found on the overcoat layer in the defect check carried out in advance and to correct them.例文帳に追加

カラーフィルタ５の着色層３上に形成されたオーバーコート層４に存在する凹部欠陥を修正するカラーフィルタの修正方法であって、予め実施された欠陥検出検査において検出された、上記オーバーコート層に存在する上記凹部欠陥６に欠陥修正用インキ７を塗布し、上記凹部欠陥を修正する欠陥修正用インキ塗布工程を有することを特徴とするカラーフィルタの修正方法。 - 特許庁

To provide a phase defect correction method of a reflective mask and a manufacturing method of the reflective mask which can correct an absorber pattern accurately without damaging a reflective layer and leaving correction marks, and which can obtain a good transfer pattern without being affected by phase defects.例文帳に追加

反射層に損傷を与えず、修正痕を残さずに吸収体パターンを精度良く補正し、位相欠陥の影響をなくして良好な転写パターンが得られる反射型マスクの位相欠陥補正方法および製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pixel defect correction device capable of accurately correcting a defective pixel in exactly real time or a small number of processing times even when there is the defective pixel among eight peripheral adjacent pixels.例文帳に追加

周囲の隣接する８画素中に欠陥画素がある場合でも、正確にリアルタイムに、若しくは、少ない処理回数で補正が可能な画素欠陥補正装置を提供する。 - 特許庁

An image processing part 30 for processing an electric signal output from an imaging element is composed of a plurality of processing blocks (1) to N such as defect pixel correction, optical black and white balance.例文帳に追加

撮像素子から出力される電気信号を処理するための画像処理部３０は、欠陥画素補正、オプティカルブラック、ホワイトバランスなど複数の処理ブロック 〜Ｎから構成される。 - 特許庁

When an instruction to start correction is sent, the main controller 65 reads thumbnail image data of all defect to be reviewed from the storage section 66 and outputs them to a display 7.例文帳に追加

修正開始の指示が出された場合、主制御部６５は記憶部６６から全てのレビュー対象欠陥のサムネイル画像データを読み出して、ディスプレイ７へ出力する。 - 特許庁

An initial defect correction means 202 corrects digital image information by using initial defective pixel position information previously known at the time of shipment from a plant or the like.例文帳に追加

初期欠陥補正手段２０２は、工場出荷時等で予め分かっている初期欠陥画素位置情報を用いて、ディジタル画像情報を補正（修正）する。 - 特許庁

To provide a device for processing data correction which corrects a defect of defective data from a defective photoelectric converting element at high speed and whose circuit scale can be made small.例文帳に追加

欠陥のある光電変換素子からの欠陥画素データの欠陥補正を高速に行い且つ回路規模を小さくすることが可能なデータ補正処理装置を提供する。 - 特許庁

Using the positioning mark as reference, an image by the image quality evaluation device and an image by the correction device are overlapped, and thereby the positional information of the defect required to be corrected by the correction device can be accurately obtained.例文帳に追加

位置合わせ用マークを基準として像質評価装置による画像と修正装置による画像とを重ね合わせることによって、修正装置において修正すべき欠陥の位置情報を正確に把握することができる。 - 特許庁

Thus, error correction performance can be improved by monitoring the gain variations of the VGA 310 to correctly find a position where a defect has occurred, and executing error correction by RSC using this.例文帳に追加

本発明によれば、ＶＧＡ３１０の利得変動量をモニタリングして欠陥が発生した位置を正確に探し、それを利用してＲＳＣによるエラー訂正を実行することによって、エラー訂正性能を向上させることができる。 - 特許庁

Then a correction coefficient is found (200) on the basis of at least one of the 1st and 2nd infrared component levels and the color components of the image of the document 7 are decomposed into visible components (200), and the level of the decomposed visible components is detected and based on the correction coefficient, the defect of the image of the document is corrected (200).例文帳に追加

そして、前記第１赤外成分レベルと前記第２赤外成分レベルとの少なくとも一方に基づいて補正係数を求めて（２００）、原稿７の画像の色成分を可視成分に分解し（２００）、分解された可視成分レベルを検出し、補正係数に基づいて前記原稿の画像の欠陥を補正する（２００）。 - 特許庁

The correction of the background image according to the sensitivity characteristic of the imaging means can precisely match shading curves of the background image and an inspection image to implement a precise shading correction and increased accuracy of surface defect detection on a liquid crystal panel.例文帳に追加

そして、背景画像を撮像手段の感度特性に基づいて補正することで、背景画像と検査画像とのシェーディングカーブを精度よく合致させることができ、シェーディング補正を高精度に実行することができ、液晶パネルにおける表示欠陥の検出精度を向上させることができる。 - 特許庁

By assuming a pseudo point defect according to various parameters based on the design of a liquid crystal display device 10, and displaying it by providing this pseudo-corrected pixel part at the time of correcting this point defect with a repair circuit with a step difference to other normal pixel parts, a state of the display of the liquid crystal display device 10 is simulated after correction of the point-like defect.例文帳に追加

液晶表示装置の設計に基づく種々のパラメータに応じて擬似的な点欠陥を想定し、かつ、この点欠陥をリペア回路によって修正した際の擬似的な修正画素部を、他の正常画素部に対し階調差を持たせて表示することにより、点状欠陥を修正した後の液晶表示装置の表示状態をシミュレーションする。 - 特許庁

More particularly, in the case that the presence of scanning wiring 130A within the effective range of the critical defect 181 is discriminated, the reading out of at least the connection procedures as the correction procedure A1 is preferable.例文帳に追加

特に、致命欠陥１８１の有効範囲Ｚ内に走査配線１３０Ａが存在すると判別された場合には、修正手順Ａ１として少なくとも結線手順を読み出すことが好ましい。 - 特許庁

To provide a correction method of color filter for liquid crystal display device capable of correcting a black defect of pillar type spacer and/or orientation control protrusion without damaging a transparent conductive film.例文帳に追加

透明導電膜を損傷させることなく柱状スペーサー及び／又は配向制御用突起の黒欠陥を修正することのできる液晶表示装置用カラーフィルタの修正方法を提供すること。 - 特許庁

This reticle repair method has a pattern transfer section comprising an electron beam scattering body and is a method of correction processing of the pattern defect of the reticle 13 used in exposure by electron beams.例文帳に追加

本発明に係るレチクルリペア方法は、電子線散乱体から構成されたパターン転写部を有し、電子線で露光する時に用いるレチクル１３のパターン欠陥を修正加工する方法である。 - 特許庁

When data Dn of respective pixel detected when carrying out exposure in a predetermined time in a dark status exceed a defect decision value Dtha in a step S106, the pixels are defined as those pertinent to defective pixels, and set as the object of defect correction in a step S108.例文帳に追加

ステップＳ１０６で真っ暗な状態で所定時間露光したときに検出された各画素のデータＤｎが欠陥判定値Ｄｔｈａを超えるときにはステップＳ１０８でその画素は欠陥画素に該当するとして欠陥補正の対象とする。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus and a control method thereof and a program by which image quality can be improved by accurately discriminating any one of a plurality of defect factors that causes a defective pixel, and switching a correction method in accordance with the defect factor.例文帳に追加

欠陥画素が複数ある欠陥要因のうちのいずれによるものかを正確に判別し、欠陥要因に応じて補正方法を切り替えることにより画質を向上させることができる撮像装置及びその制御方法、並びにプログラムを提供する。 - 特許庁

In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁

In response to the inquiry, the DB server 4 refers to a database 41 which has version information about the firmware in association with defect correction information showing the corrected defect in the version and specifies whether or not there is any firmware whose defect can be resolved, or specifies the version of the firmware when such firmware exists.例文帳に追加

ＤＢサーバ４は、それに対応し、ファームウェアのバージョン情報とそのバージョンで改修された不具合を示す不具合改修情報とを関連づけて有するデータベース４１を参照して、不具合を解決可能なファームウェアの有無および不具合を解決可能なファームウェアがある場合にはそのファームウェアのバージョンを特定する。 - 特許庁

Using a defect detection sensitivity correction standard substrate including a pattern 8 and pseudo-defective sections 7 that are cone defects differing in size and are randomly formed on a silicon substrate 1, defect detection sensitivity is used in product management as an indicator for judging sensitivity adjustment after a lamp 21a in a lighting section 21 of a defect detecting device is replaced.例文帳に追加

パターン８と、サイズの異なるコーン欠陥であり、シリコン基板１上にランダムに形成された擬似欠陥部７とを備えた欠陥検出感度校正標準基板を用いて、欠陥検査装置の照明部２１におけるランプ２１ａの交換後の感度調整を判断する指標として製造管理に利用する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask by which processes of inspection and correction in the mask manufacturing processes can be omitted and a mask can be manufactured at low cost keeping an ensured delivery time without requiring an expensive defect inspection apparatus or a defect correcting apparatus.例文帳に追加

マスク製造工程における検査、修正プロセスを省略することができ、高価な欠陥検査装置や欠陥修正装置を必要とせず、確実な納期で安価にマスク製作することが可能となるマスク製造方法を提供する。 - 特許庁

By the detected result, the pixel defect of the present signals is corrected in a pixel defect correction device 13.例文帳に追加

レベル判定器１４ではデジタル信号の信号レベルを判定し、フレーム差分判定器１７の出力とにより、画素欠陥検出器１８で画素欠陥を検出する、この検出結果によって、画素欠陥補正器１３において現信号の画素欠陥を補正する。 - 特許庁

When a defect is incurred on the TFT 1, the picture element defect is corrected by irradiating an intersectional part of a current-carrying part 6 for correction and a picture element electrode 4 with laser light for destroying a lying gate insulating film and short-circuiting the picture element electrode 4 and the reference potential line 3.例文帳に追加

ＴＦＴ１の不良時、レーザ光を修正用導電部６の画素電極４と交差する部位に照射することで、介在するゲート絶縁膜を破壊し、画素電極４と基準電位線３とを短絡させ、画素欠陥を修正する。 - 特許庁

The reduction of the transmittance is adjusted to be equal to that of a glass or quartz part not subjected to defect correction, by the vibration amplitude, indention depth, feedback gain and scanning interval of the probe 1 of the scanning probe microscope.例文帳に追加

透過率の低下量は欠陥修正していないガラスまたは石英部分と同じになるように走査プローブ顕微鏡の探針１の振動振幅と押し込み量とフィードバックゲインと走査間隔で調整する。 - 特許庁

This constitution enables the displaying of a better radiation image on the image display device 56 based on the image data after the correction while allowing easier judgment of the position of the image defect corrected by displaying the radiation image on the image display device 56 based on the image data before the correction.例文帳に追加

補正後の画像データに基づいて良好な放射線画像を画像表示装置５６に表示させることができると共に、補正前の画像データに基づく放射線画像を画像表示装置５６に表示することにより補正が行われた画像欠陥の位置も容易に判別できる。 - 特許庁

A transparent insulating film correcting device decides a correction method by a correction method decision means 16, by using the kind of the defect and the position to a wiring pattern on the substrate 31 of the defect by a control computer 7, based on the image of the substrate 31 picked up by a camera 1, by switching an interference lens 3 and an objective lens 6 by a lens switching means 5.例文帳に追加

本発明の透明絶縁膜修正装置は、カメラ１により、干渉レンズ３と対物レンズ６とをレンズ切り替え器５により切り替えて撮像された基板３１の画像に基づいて制御コンピュータ７により、欠陥の種別、及び、当該欠陥の基板３１上の配線パターンに対する位置を用いて、修正方法決定手段１６により修正方法を決定する。 - 特許庁

A stripe evaluation value calculating part 290 calculates an evaluation value Qe related to the strength of the stripe defect of the space frequency band under consideration based on the stripe featured value Pe calculated by stripe feature value caluculation part 270 and the stripe correction quantity Be calculated by the stripe correction quantity calculating part 288 of the stripe correction quantity acquiring part 280.例文帳に追加

すじ評価値算出部２９０は、すじ特徴量算出部２７０により算出されたすじ特徴量Ｐｅおよびすじ補正量取得部２８０のすじ補正量算出部２８８により算出されたすじ補正量Ｂｅに基づいて、注目している空間周波数帯域のすじ欠陥の強さに関する評価値Ｑｅを算出する。 - 特許庁

To provide a defect correction method for correcting only defects generating in each step in the manufacturing process of a color filter for an LCD, and to provide a method for manufacturing a color filter for an LCD and a color filter for an LCD using the above correction method.例文帳に追加

ＬＣＤ用カラーフィルタの製造工程の各工程で発生する欠陥のみを修正する欠陥の修正方法及びそれを用いたＬＣＤ用カラーフィルタの製造方法並びにＬＣＤ用カラーフィルタを提供することを目的とする。 - 特許庁

The digital still camera 10 includes a CCD 12 wherein pixels whose values in each of three primary colors are detected through color filters are respectively placed to each of prescribed regions and one defective pixel or below causing the temperature white defect is specified to exist in each region, and a temperature white defect correction unit 14.例文帳に追加

色フィルタを通して３原色の各色の画素値を検出する画素が所定の領域のそれぞれに配置され、温度白キズを生じる欠陥画素が各領域内に１つ以下と規定されているＣＣＤ１２と、温度白キズ補正装置１４とを備えるデジタルスチルカメラ１０。 - 特許庁

Defect position data is acquired from a plurality of kinds of examination devices such as a bus line resistance device or an electric characteristic examination device 4 and a defect examination device 3 for appearance examination and is collated in a collation part 9 to generate data obtained by narrowing down the correction objects more.例文帳に追加

バスライン抵抗装置もしくは電気的特性検査装置４、および外観検査による欠陥検査装置３など、複数種類の検査装置から欠陥位置データを取得して、照合部９にて照合することによって、修正対象をより絞り込んだデータを作成する。 - 特許庁

To provide a defect correction method of a color filter substrate, which is free from exfoliation of a transparent conductive layer-correcting layer from a base and requires a short time for repair even when defect repair processing for a color layer and a transparent conductive layer of a color filter substrate is performed in the stage where formation of the transparent conductive layer has been finished.例文帳に追加

カラーフィルタ基板の透明導電層の形成が終えた段階で、着色層と透明導電層の欠陥修復処理を施しても、透明導電層修正層の下地からの剥離がなく、修復に要する時間が短いカラーフィルタ基板の修正方法を提供することである。 - 特許庁

Thus, the accuracy of defect detection can be improved by minimizing the width of the mask 37, and the deviation correction can be performed in parallel with the surface inspection, so that the reduction in productivity is prevented.例文帳に追加

これにより、マスク３７の幅を極力細くして欠陥検出の精度を高めることができ、さらに、表面検査と並行してずれ補正を実施できるので生産性の低下が防止される。 - 特許庁

In this repair method, irradiation of charged particle beam is selectively performed at least two times to a black defect part 13 generated on the transfer pattern, and correction of the transfer pattern is performed.例文帳に追加

このリペア方法は、該転写パターンに生じた黒欠陥部１３に少なくとも２回の荷電粒子線の照射を選択的に行うことにより該転写パターンの修正を行うものである。 - 特許庁

To provide a correction acceptance processing system of an instrument output data which is operationally efficient, which can quickly see output data of a system at a management department, and which promptly directs to correct a defect if it were.例文帳に追加

システムの出力データを管理部門で即座に見ることができ、問題があれば迅速に修正を指示できる、作業効率の高い、計器出力データ校正承認処理システムなどを提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern defect correcting device which can be used effectively for a correction object having a large variety of pattern shapes like a photomask used in a manufacturing process of a shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクの製造過程で用いるフォトマスクのように、多種多様なパターン形状を有する修正対象に対しても有効に利用することができるパターン欠陥修正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device in which the probability of correction of a defect in a display area is improved by lowering the probability of occurrence of a short circuit at crossing parts of rescue wiring and signal lines of the liquid crystal display device provided with thin film transistors.例文帳に追加

薄膜トランジスタを備えた液晶表示装置のレスキュー配線と信号線の交差部での短絡の発生確率を低下させ、表示領域の欠陥の修正が可能となる確率を向上させた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁