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「Correction of defect」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索
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Correction of defectの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 453



例文

METHOD FOR CORRECTION OF MASK DEFECT例文帳に追加

マスクの欠陥修正方法 - 特許庁

DEFECT CORRECTION CIRCUIT OF IMAGING SENSOR例文帳に追加

画像センサの欠陥補正回路 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD AND DEFECT CORRECTION DEVICE OF REFLECTIVE MASK例文帳に追加

反射型マスクの欠陥修正方法及び欠陥修正装置 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD OF PHOTOMASK, DEFECT CORRECTION SYSTEM OF PHOTOMASK, AND DEFECT CORRECTION PROGRAM OF PHOTOMASK例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの欠陥修正システム及びフォトマスクの欠陥修正プログラム - 特許庁

例文

surgical correction of a defect of the palate 例文帳に追加

口蓋の異常の外科的矯正 - 日本語WordNet


例文

DEFECT CORRECTION METHOD OF COLOR FILTER例文帳に追加

カラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTION OF DEFECT IN COLOR FILTER例文帳に追加

カラーフィルタの欠陥修正方法 - 特許庁

A defect detection and correction part 40 is composed so that defect detection processing has a plurality of defect detection modes and defect correction processing has a plurality of defect correction modes.例文帳に追加

欠陥検出修正部40は、欠陥検出処理は複数の欠陥検出モードを有し、欠陥修正処理は複数の欠陥修正モードを有する。 - 特許庁

WHITE DEFECT CORRECTION DEVICE OF SOLID-STATE IMAGING ELEMENT例文帳に追加

固体撮像素子の白キズ補正装置 - 特許庁

例文

DEFECT CORRECTION DEVICE AND DEFECT CORRECTION METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

欠陥修正装置及び欠陥修正方法、並びにパターン基板製造方法 - 特許庁

例文

METHOD FOR CORRECTING BLACK DEFECT OF MASK CORRECTION APPARATUS例文帳に追加

マスク修正装置の黒欠陥修正方法 - 特許庁

APPLICATION MECHANISM OF CORRECTION LIQUID AND DEFECT CORRECTION DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

修正液塗布機構およびそれを用いた欠陥修正装置 - 特許庁

CORRECTION METHOD AND CORRECTION COLOR FOR DEFECT PART OF COLOR FILTER PATTERN例文帳に追加

カラーフィルターのパターン欠陥部の補修方法および補修用カラー - 特許庁

Then a defect correction unit performing correction of the defect using the read out defect correction method is controlled.例文帳に追加

そして、読み出された欠陥修正手法を利用して前記欠陥の修正を実行する欠陥修正部を制御するようにする。 - 特許庁

SECONDARY PROCESSING METHOD FOR CORRECTION POINT OF PHOTOMASK DEFECT例文帳に追加

フォトマスク欠陥修正個所の二次処理方法 - 特許庁

DEFECT CORRECTION DEVICE FOR PATTERN SUBSTRATE, DEFECT CORRECTION METHOD THEREFOR, AND METHOD OF MANUFACTURING PATTERN SUBSTRATE例文帳に追加

パターン基板の欠陥修正装置及び欠陥修正方法並びにパターン基板製造方法 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF PHOTOMASK, MANUFACTURING METHOD, AND DEFECT CORRECTION DEVICE例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法、製造方法および欠陥修正装置 - 特許庁

To provide a defect correction method to locate and appropriately fix a small defect in a defect correction process of a photomask; a defect correction system of a photomask; and a defect correction program of a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正工程において微小な欠陥の位置を特定し、適切に修正することが可能となるフォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの欠陥修正システム及びフォトマスクの欠陥修正プログラムを提供する。 - 特許庁

Subsequently, the defect correcting apparatus selects the defect correction method, according to the specified requirements by reading the defect correction methods from the database, on the basis of a location of the detected defect on the wiring board to perform defect correction, in accordance with selected defect correction method.例文帳に追加

そして、検出された欠陥の配線基板内における位置に基づいてデータベースから欠陥修正手法を読み出して所定の条件に従い選定し、選定された欠陥修正手法に基づき欠陥の修正を実行する。 - 特許庁

To remove a defect derived from a correction pattern in a defect inspection of a photomask having the correction pattern.例文帳に追加

補正パターンを有するフォトマスクの欠陥検査において、補正パターンに由来する欠陥を除外すること。 - 特許庁

CORRECTION OF SURFACE DEFECT BY INFRARED REFLECTION SCANNING例文帳に追加

赤外線反射走査による表面欠陥の修正 - 特許庁

To improve quality of defect correction, while greatly enhancing efficiency of work in a defect correction process.例文帳に追加

欠陥修正工程の作業効率を著しく向上させつつ、欠陥修正の品質を向上させる。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, METHOD FOR DETERMINING POSITION OF PHOTOMASK DEFECT CORRECTION, AND APPARATUS FOR DETERMINING POSITION OF PHOTOMASK DEFECT CORRECTION例文帳に追加

フォトマスク製造方法、フォトマスク欠陥修正箇所判定方法、及びフォトマスク欠陥修正箇所判定装置 - 特許庁

POINT DEFECT CORRECTION DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID CRYSTAL DEVICE例文帳に追加

点欠陥修正装置、液晶装置の製造方法 - 特許庁

After that, the control unit reads out a defect correction method in accordance with the decision results from a database in which defect correction methods are accumulated, and controls a defect correction unit performing correction of the defect utilizing the read out defect correction method.例文帳に追加

その後、制御部が、判定結果に応じた欠陥修正手法を、欠陥修正手法が蓄積されているデータベースから読み出し、読み出した欠陥修正手法を利用して欠陥の修正を実行する欠陥修正部を制御する。 - 特許庁

Then, the defect position detected by the defect detector 2 is corrected with the use of the defect position correction expression.例文帳に追加

続いて、欠陥位置補正式を用いて、欠陥検出装置2で検出した欠陥位置を補正する。 - 特許庁

CORRECTION METHOD OF ISOLATED BLACK DEFECT OF PHOTOMASK AND ITS DEVICE例文帳に追加

フォトマスクの孤立した黒欠陥修正方法およびその装置 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF ACTIVE MATRIX SUBSTRATE, PRODUCTION AND DEFECT CORRECTION APPARATUS例文帳に追加

アクティブマトリクス基板の欠陥修正方法、製造方法及び欠陥修正装置 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD OF EXPOSURE MASK, DEFECT ACCEPTABILITY DETERMINATION METHOD AND DEFECT CORRECTION METHOD例文帳に追加

露光用マスクの製造方法、欠陥合否判定方法、及び欠陥修正方法 - 特許庁

COMPOUND-EYE IMAGING APPARATUS AND CORRECTION METHOD OF IMAGING DEFECT PLACE例文帳に追加

複眼撮像装置、及び撮像欠陥箇所の補正方法 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD OF COLOR FILTER SUBSTRATE, AND COLOR FILTER SUBSTRATE例文帳に追加

カラーフィルタ基板の欠陥修正方法及びカラーフィルタ基板 - 特許庁

NEEDLE PART DEFECT CORRECTION METHOD OF MANIPULATOR, AND NEEDLE MEMBER SET例文帳に追加

マニピュレータのニードル部欠陥修正方法とニードル部材セット - 特許庁

The defect detection and correction part executes at least either of operation for selecting a prescribed defect detection mode from among a plurality of the defect detection modes and operation for selecting a prescribed defect correction mode from among a plurality of the defect correction modes on the basis of mode switching conditions after acquiring the mode switching conditions for switching at least either of the defect detection modes and the defect correction modes.例文帳に追加

欠陥検出モード及び欠陥修正モードの少なくとも一方を切換えるためのモード切換条件を取得して、モード切換条件に基づいて、複数の欠陥検出モードから所定の欠陥検出モードを選択することと、複数の欠陥修正モード中から所定の欠陥修正モードを選択することの少なくとも一方を行う。 - 特許庁

IMAGE DEFECT CORRECTION SYSTEM OF IMAGING DEVICE USING DIRECTION DETECTION例文帳に追加

方向検出を用いた撮像デバイスの画像欠陥補正システム - 特許庁

DEVICE FOR CORRECTING DEFECT OF RETICLE PATTERN AND CORRECTION METHOD FOR THE SAME例文帳に追加

レチクルパターンの欠陥修正装置およびその修正方法 - 特許庁

COLORED PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR CORRECTION OF DEFECT AND COLOR FILTER例文帳に追加

欠陥修正用着色感光性組成物およびカラーフィルター - 特許庁

DESTATICIZING METHOD OF ELECTRON BEAM DEFECT CORRECTION DEVICE AND ITS DEVICE例文帳に追加

電子ビーム欠陥修正装置の除電方法およびその装置 - 特許庁

Then, a defect correction part for executing correction of the defects is controlled by using the defect correction method where the size and the application sequence have been optimized.例文帳に追加

そして、サイズと適用順が最適化された欠陥修正手法を利用して欠陥の修正を実行する欠陥修正部を制御する。 - 特許庁

To provide an imaging device, a defect correction apparatus, a defect correction method, and a program, which perform correction processing of image data with high accuracy.例文帳に追加

画像データの補正処理を高精度で行うことができる撮像装置、欠陥補正装置、欠陥補正方法及びプログラムを提供すること。 - 特許庁

A size of an object included in the read defect correction method and a correction execution sequence are optimized for the defect correction device.例文帳に追加

次に、読み出した欠陥修正手法に含まれるオブジェクトのサイズと修正実行順を当該欠陥修正装置に対して最適化する。 - 特許庁

On the basis of the detected temperature, the temperature influence correction unit 216 changes correction of the transfer defect.例文帳に追加

温度影響補正部216は、検知された温度に基づいて、転送不良の補正を変更する。 - 特許庁

To realize high-quality defect correction of a photomask without leaving a halo component or re-deposition in the mask defect correction using ion beams or the mask defect correction using electron beams.例文帳に追加

イオンビームを用いたマスク欠陥修正や電子ビームを用いたマスク欠陥修正に対して、ハロー成分や再付着のない高品位なフォトマスクの欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

FINE PATTERN CORRECTION DEVICE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT OF FINE PATTERN例文帳に追加

微細パターン修正装置および微細パターンの欠陥修正方法 - 特許庁

To improve quality of defect correction while largely improving work efficiency of defect correction processes, by properly detecting defects.例文帳に追加

欠陥を適切に検出し、欠陥修正工程の作業効率を著しく向上させつつ、欠陥修正の品質を向上させる。 - 特許庁

To improve quality of defect correction while largely improving work efficiency of defect correction processes, by properly determining defects.例文帳に追加

欠陥を適切に判定し、欠陥修正工程の作業効率を著しく向上させつつ、欠陥修正の品質を向上させる。 - 特許庁

To provide a defect correction method, capable of easily forming a narrow and thick correction layer in a disconnection defect part while reducing the resistance value of the correction part.例文帳に追加

断線欠陥部に幅が狭くて厚い修正層を容易に形成することができ、修正部の抵抗値の低減化を図ることが可能な欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To enhance correction accuracy of phase defect by detecting a defect position accurately when a phase defect is corrected.例文帳に追加

位相欠陥修正時における欠陥位置を正確に検出することができ、位相欠陥の修正精度の向上をはかる。 - 特許庁

Accordingly, the defect correction method of the defective part is generated based on the position information, characteristic information, defect classification, and substrate design information of the defective part so as to make the defect correction by operating a defective correction mechanism 4 based on the generated defect correction method.例文帳に追加

そして、欠陥部位の位置情報、特徴情報、欠陥種別及び基板設計情報に基づいて欠陥部位の欠陥修正方法を生成し、生成された欠陥修正方法に基づき欠陥修正機構4を動作させて欠陥修正を行う。 - 特許庁

The defect correction method for a photomask includes removing a foreign matter defect on a photomask by use of a plurality of probes.例文帳に追加

フォトマスク上の異物欠陥を複数のプローブを用いて除去するフォトマスクの欠陥修正方法である。 - 特許庁

例文

A defect determination section 32 detects a defect of an inspecting object based on the difference value SUB after the correction.例文帳に追加

欠陥判定部32は、補正後の差分値SUBに基づき被検査物における欠陥を検出する。 - 特許庁




  
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