「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(307ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for efficiently and stably manufacturing a polyphenylene ether having a number-average molecular weight of 4,000-15,000 while suppressing scale deposition on a reactor or lowering of the yield, and a method for efficiently manufacturing many kinds of polyphenylene ethers having a different number-average molecular weight.例文帳に追加

数平均分子量が４０００〜１５０００であるポリフェニレンエーテルを、反応器へのスケールの発生や収率の低下を抑制しながら効率よく安定に製造する方法、および数平均分子量の異なる多種類のポリフェニレンエーテルを効率良く製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide the substrate transfer unit of a thin film deposition system which is capable of surely preventing plasma generated by an electrode from sneaking up to the rear surface of the substrate, reducing a cost, and improved in maintainability.例文帳に追加

成膜室内に基板の外周縁部全体を覆うような大きなマスクパネルを設けることなく、電極から発生するプラズマが基板の裏面側へ回り込むことを確実に防止し得、コストダウン並びにメンテナンス性向上を図り得る薄膜形成装置の基板搬送装置を提供する。 - 特許庁

In the thin film deposition method where TiCl4 as a gaseous starting material and NH_3 as a reaction gas are reacted to deposit a TiN thin film on a substrate, the NH_3 is irradiated with light with wavelength causing predissociation so as to be excited, and is then reacted with the gaseous starting material.例文帳に追加

原料ガスであるＴｉＣｌ４と反応ガスであるＮＨ_３とを反応させてＴｉＮ薄膜を基板上に形成する薄膜の形成方法において、前記ＮＨ_３に対して前期解離を起こす波長の光を照射し、ＮＨ_３を励起した上で原料ガスと反応させる。 - 特許庁

This method for forming a thin film on a substrate 51 by a catalytic deposition method includes changing one or plural film forming conditions at film forming to form the gradient refractive index film in which the refractive index varies in its thickness direction.例文帳に追加

触媒ＣＶＤ法により基板５１上に薄膜を形成する薄膜製造方法であって、成膜時に、成膜条件のうちの１種もしくは複数種の成膜条件を変化させて、膜厚方向に屈折率が変化する屈折率傾斜膜を成膜するという薄膜製造方法である。 - 特許庁

To provide a novel Si-containing film-forming material, particularly a material for a low dielectric constant insulating film which contains a cyclic siloxane compound and is suitable for a PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition) apparatus, and an Si-containing film using the same, and a semiconductor device containing the film.例文帳に追加

新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適した環状シロキサン化合物を含んでなる低誘電率絶縁膜用材料を提供すること、並びにそれを用いたＳｉ含有膜及びこれらの膜を含んでなる半導体デバイスを提供することを目的とする。 - 特許庁

In a vacuum deposition system 50 equipped with a vacuum chamber 1, the evaporation source 2 having an evaporation material holding container 2a, etc., and a hopper type evaporation material feeding material 10, the evaporation material is fed into the evaporation material holding container 2a, etc., by using a metering cup 21.例文帳に追加

真空チャンバ１と、蒸発材料保持容器２ａ等を備える蒸発源２と、ホッパ式蒸発材料供給手段１０を備える真空成膜装置５０において、蒸発材料保持容器２ａ等に蒸発材料を供給するにあたり、計量カップ２１を用いて行う。 - 特許庁

To manufacture a TRIP type high strength steel sheet with excellent workability in which the amount of alloying elements that are likely to increase production costs is reduced, yet retained austenitic structure is secured and excellent deposition of plated zinc is maintained so that the steel sheet may be applicable to a surface treated high corrosion resistant steel sheet.例文帳に追加

製造コストを増加させる合金添加量を低減しつつ、目的とする残留オーステナイト組織を確保し、亜鉛めっきの付着性が良好で高耐食性表面処理鋼板への適用も可能な、加工性の良好なＴＲ１Ｐ型の高強度鋼板を製造する。 - 特許庁

In a reaction chamber 10 where film deposition or working treatment of a metal film is performed, an oxidizing gas is introduced from an oxidizing gas introduction part 20, and a metal film remaining in the reaction chamber 10 by the treatment or by-products produced by the treatment are oxidized to form the oxides thereof.例文帳に追加

金属膜の成膜又は加工の処理を行う反応室１０内において、酸化ガス導入部２０から酸化ガスを導入して、前記処理により反応室１０内に残留する金属膜と前記処理により生成された副生成物とを酸化してこれらの酸化物を形成する。 - 特許庁

To provide an EL display unit in which a full color display is made possible, by forming a blue charge transport organic luminescent layer on a neighboring layer through vacuum vapor deposition method, after patterning red and green organic luminescent layers for each pixel by ink-jet method, and provide a manufacturing method of the EL display unit.例文帳に追加

赤、緑の有機発光層をインクジェット方式により画素毎にパターニングし、その隣接層に青色の電荷輸送型有機発光層を真空蒸着法等にて形成することにより、フルカラー表示可能なＥＬ表示体およびＥＬ表示体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Deposition pressure is so set that the distance between the substrate S and a first target T1 is shorter than a mean free path of sputtered particles discharged from the first target T1, to thereby deposit an MgO layer having 5 to 20 nm film thickness on the substrate S whose temperature is maintained at room temperature.例文帳に追加

そして、基板Ｓと第１ターゲットＴ１との間の距離が第１ターゲットＴ１から放出されるスパッタ粒子の平均自由工程よりも短くなるように成膜圧力を設定して、室温に保持される基板Ｓに、膜厚が５ｎｍ〜２０ｎｍのＭｇＯ層を形成した。 - 特許庁

To provide a display element, which is bright, which has excellent visibility and precision and of which the problem of crystallization and deposition of a fluorescence dye mixed in a liquid crystal is solved, in the display element having a liquid crystal/polymer layer comprising the liquid crystal and the polymer dispersed in each other and disposed between two sheets of electrodes.例文帳に追加

２枚の電極の間に液晶と高分子を互いに分散した液晶／高分子層を配置した表示素子において、液晶中に混合した蛍光色素が結晶化して析出することが解決された、明るい視認性、精細さのよい表示素子を提供することである。 - 特許庁

In the method of manufacturing the glass pipe, the thickness of the glass pipe G to serve as a substrate for the inside chemical vapor deposition (CVD) is measured by a thickness measuring instrument 33 and is controlled to be uniformized in the longitudinal direction.例文帳に追加

本発明のガラスパイプの製造方法は、内付けＣＶＤ法の基板となるガラスパイプＧの内側に、まず、肉厚計測器３３によりガラスパイプＧの肉厚を計測し、肉厚を計測した結果に基づいて、ガラスパイプＧの肉厚を長手方向で均一となるように調整する。 - 特許庁

To provide a waste plastic treatment apparatus not troubled by the problem that the pipings, etc., are stopped as the result of the deposition of organic substances such as terephthalic acids or large-particle-diameter bumping products entrained on the oil gas produced from a heat decomposition apparatus in the course in which the oil gas is led to a formed oil recovery tower.例文帳に追加

分解装置にて発生した油ガスを生成油回収塔に導く途中で、テレフタル酸等の有機物あるいは油ガスに混じって飛散する粒子径の大きい突沸物が析出堆積し、配管等を閉塞するという問題を防止した廃プラスチック処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for depositing a thin film by the laser CVD capable of unifying the deposition thickness of a CVD thin film in the vertical direction and the right-to-left direction as much as possible when depositing a raw material while moving a gas window at a high speed, and a gas window suitable for the method.例文帳に追加

高速でガスウィンドウを移動させながら原料を堆積させる場合、上下左右方向でのＣＶＤ薄膜の堆積厚さを可及的に均一化することができるレーザＣＶＤによる薄膜形成方法及び同方法に好適なガスウィンドウを提供する。 - 特許庁

In the method for assaying the quantity of the bentonite in the bentonite mixed soil, the bentonite mixed soil is dispersed into water and statically separated into a suspension and a deposition layer, the quantity of the filtered water is found after the suspension is filtered for a predetermined time, and the quantity of the interfused bentonite is assayed from the quantity of the filtered water.例文帳に追加

ベントナイト混合土を水に分散させ、静置により懸濁液と沈殿層に分離し、懸濁液を一定時間ろ過したときのろ過水量を求め、ろ過水量よりベントナイト混入量を検定するベントナイト混合土中のベントナイト量の検定方法。 - 特許庁

The carrying mechanism 20 comprises at least three loaders 21-23 capable of holding the base board in an attachable/ detachable manner and a rotating unit 24 for rotating the loaders, and the sputtering film-deposited base board can be taken out of another loader substantially simultaneously with the fitting of the base board before the sputtering film is deposition to the loader.例文帳に追加

搬送機構２０は、基体を着脱可能に保持する３以上のローダ２１〜２３と、ローダを回転させる回転部２４とを有し、ローダへのスパッタリング成膜前の基体の装着とほぼ同時に別のローダからのスパッタリング成膜後の基体の取り出しができる。 - 特許庁

The incident angle of the sputtering particles made incident on the film deposition face 22 is restricted by shielding members 25 or the length of a TS distance, the maximum incident angle θ5 is ≤15°, and the prospective incident angle Δθ as a difference between the maximum incident angle θ5 and the minimum incident angle is ≤10°.例文帳に追加

成膜面２２に入射するスパッタ粒子の入射角度は、遮蔽部材２５又はＴＳ距離の長さによって制限され、最大入射角度θ５が１５°以下、最大入射角度θ５と最小入射角度の差である見込み入射角度Δθが１０°以下になっている。 - 特許庁

This method for producing a metallic base material having a photocatalytic film includes a stage (1) for rolling and cutting a metallic base material, a stage (2) for subjecting the obtained metallic base material to pickling treatment, a stage (3) for depositing a photocatalytic substance film onto the metallic base material after the pickling and an annealing stage (4) after the film deposition.例文帳に追加

金属基材の圧延・切り出し工程（１）と、得られた金属基材の酸洗処理工程（２）と、その後の金属基材上への光触媒物質の成膜工程（３）と、成膜後のアニーリング工程（４）とを含む、光触媒膜を有する金属基材の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the silicon-carbide-based sliding member P1 used in the state of coming into contact with the ultrapure water, a silicon carbide chemical vapor deposition film pa1 strongly oriented to the (220) surface in Miller index display so that the specific resistance value becomes 1 Ωcm or less is coated on at least a sliding surface PA.例文帳に追加

超純水と接触する状態で使用される炭化珪素質摺動部材Ｐ１において、少なくとも摺動面ＰＡに比抵抗値が１Ω・ｃｍ以下となるようにミラー指数表示における（２２０）面に強配向させた炭化珪素化学蒸着膜ｐａ１をコーティングする。 - 特許庁

The antibacterial thin film is formed by forming an Ag-Sn multilayered thin film on the surface of the article through plating or physical vapor deposition and subjecting it to a heat-treatment in which this Ag-Sn multilayered thin film is heated and kept at 200-300°C and then cooled at a cooling rate of ≤50°C/min.例文帳に追加

物品の表面に、めっきあるいは物理蒸着によりＡｇ−Ｓｎ積層薄膜を形成し、このＡｇ−Ｓｎ積層薄膜を２００℃以上３００℃以下の温度で加熱・保持し、５０℃／ｍｉｎ以下の冷却速度で冷却する熱処理をすることにより、抗菌性薄膜を形成させる。 - 特許庁

Further, the ECU 50 terminates the PM regeneration of the DPFs 14a, 14b when determining the first determination at least once that the remaining deposition amount of the PM is equal to or less than the first reference value α, for each of the DPFs 14a, 14b during the PM regeneration.例文帳に追加

さらに、ＥＣＵ５０は、ＰＭ再生時、ＤＰＦ１４ａ及び１４ｂのそれぞれに対して、ＰＭの残存堆積量が第一基準量α以下であるとする第一判定を少なくとも一回判定すると、ＤＰＦ１４ａ及び１４ｂのＰＭ再生を終了させる。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive adhesive tape roll of which the cut section (side edge) is made nontacky without using a release paper or a cassette, a powder, etc., for protecting the cut section and which is protected from the deposition of dust and the sticking or adhesion of the side edges to each other.例文帳に追加

離型紙や切断面保護用のカセット、粉末などを用いることなく、ロール状に巻回された粘着テープ巻回体の切断面（側端面）の粘着性を抑制し、ホコリなどの付着や巻回体の側端面同士の粘着や固着を防止した粘着テープ巻回体を提供する。 - 特許庁

To provide a CVD raw material for depositing a transparent conductive film having high quality and high purity such as a ZnAlO film, a ZnMgO film, a MgAlO film, a ZnO film, and a MgO film on a surface of various substrates by the CVD method, and to provide a vaporization feed method, and a film deposition method using the CVD raw material.例文帳に追加

ＣＶＤ法により、各種基板の表面に、高品質、高純度のＺｎＡｌＯ膜、ＺｎＭｇＯ膜、ＭｇＡｌＯ膜、ＺｎＯ膜、ＭｇＯ膜等の透明導電膜を成膜するためのＣＶＤ原料、及びそれを用いた気化供給方法並びに成膜方法を提供する。 - 特許庁

The deposition preventing equipment is provided with a ring like main body engaged with the rotary shaft of the mixer, a sliding part in contact with the rotary shaft on the inner peripheral surface of the main body and a direction change meas having a contact surface having an angle (α) based on the peripheral direction of the sliding part on both surfaces of main body.例文帳に追加

混合機の回転軸に係合するリング状の本体と、該本体の内周面に回転軸と接触する摺動部を備え、前記本体の両側面に摺動部の周方向に対し角度αからなる当接面を有する方向変換手段を備えていること。 - 特許庁

To provide a drug preparation for external use where a preparation for external use is stored in a vessel for preventing deposition and separation in the preparation for external use, preventing a container inner surface layer from peeling, and eliminating the generation of unusual odor when storing the preparation for external use containing a nonsteroid anti-inflammatory agent.例文帳に追加

非ステロイド性抗炎症剤を含有する外用剤を収納するにあたり、外用剤中に析出物や分離などが生じず、容器内面層の剥離がなく、異臭の発生もおこらない容器に、当該外用剤を収納した外用製剤を提供する。 - 特許庁

In this A-type heavy oil composition satisfying JIS first class heavy oil standards, a content of 16C-25C straight chain saturated hydrocarbon is 35 mass% or less, a content of bicyclic aromatic series is 25 vol.% or less, and a wax deposition quantity at -15°C is 3.5 mass% or less.例文帳に追加

素数１６から２５までの直鎖飽和分量が３５質量％以下であり、２環芳香族分量が２５容量％以下であり、−１５℃における析出ワックス量が３．５質量％以下であることを特徴とするＪＩＳ１種重油規格を満たすＡ重油組成物。 - 特許庁

In an atmospheric pressure CVD (Chemical Vapor Deposition) system 10A, at the time of depositing a thin film on the surface of a substrate 20A, the substrate 20A is arranged inside a reaction chamber 11A, and further, the substrate 20A is heated from the outside of the reaction chamber 11A by a heater 12A to hold the substrate 20A to a fixed temperature.例文帳に追加

減圧ＣＶＤ装置１０Ａにおいて、基板２０Ａの表面に薄膜を形成するときには、反応室１１Ａの内部に基板２０Ａを配置するとともに、ヒータ１２Ａによって、基板２０Ａを反応室１１Ａの外部から加熱して、基板２０Ａを一定温度に保つ。 - 特許庁

To improve utilization efficiency deposition gases, particularly a gaseous starting material at formation of a thin film on a semiconductor substrate by vapor phase growth, and in addition, to reduce the clogging of an exhaust pipe with an unreacted gaseous starting material by improving the utilization efficiency of the gaseous starting material.例文帳に追加

半導体基板上に薄膜を気相成長させるにあたり、成膜用ガス、特に、原料ガスの利用効率を向上させることを目的とし、さらに、原料ガスの利用効率向上により、未反応原料ガスによる排気管のつまりを減少させることを目的とする。 - 特許庁

The vapor deposition film is formed by heating a metallic part 3 arranged inside the neck part 10 from the outside by means of a high frequency coil 4 arranged on the outside after high voltage is supplied so as to carry out a knocking process for improving withstand voltage performance.例文帳に追加

蒸着膜の形成は、高電圧を供給して耐電圧性能の向上を図るためのノッキング処理を行った後で、ネック部１０の内部に配置された金属部品３を外部に配置した高周波コイル４によって外部から加熱処理することによって行う。 - 特許庁

To provide a target for sputtering capable of ameliorating the texture of crystal orientation of the target, of improving the uniformity of a film when sputtering is carried out, and of enhancing the quality of sputtering deposition and greatly improving the yield of manufacturing and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ターゲットの結晶配向の組織を改善し、スパッタリングを実施した際の、膜の均一性（ユニフォーミティ）を良好にし、スパッタ成膜の品質を向上させ、さらに製造歩留まりを著しく向上させることができるスパッタリング用ターゲット及びその製造方法を得ることを課題とする。 - 特許庁

For minimizing, reducing or avoiding electrostatic deposition of charged particles carried by a coolant on constituent wall surface such as jet pumps in water circulation system of a reactor 10, a constituent surface (mixer 23 for example) is coated with one of noble metal or noble metal alloy.例文帳に追加

原子炉１０の水循環システム内のジェットポンプのような構成部品壁表面上への冷却材によって運ばれる荷電粒子の静電堆積を最少化、低減又は排除するために、構成部品表面（例えばミキサ２３）は、貴金属又は貴金属合金の１つで被覆される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and machine of an electrophotographic photoreceptor that can manufacture photoreceptors not generating blurring images but excellent in stability and reducing defective images caused by welded toner and spherical projections under any environment when forming deposition films to be used in electrophotographic photoreceptors.例文帳に追加

電子写真用感光体に使用可能な堆積膜の形成に於いて、如何なる環境下に於いても画像流れが発生せず画像安定性に優れ、トナー融着や球状突起による画像欠陥の低減が可能な電子写真感光体の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photoreceptor which does not have the problem with compatibility of a hole transport compound, having a chain polymerizable functional group with a material imparting lubricity, ensures hardness and lubricity of photoreceptor surface, and imparts ability to prevent toner deposition on the photoreceptor, superior cleaning properties and transferability.例文帳に追加

連鎖重合性官能基を有する正孔輸送性化合物と潤滑性を与える物質との相溶性に問題がなく、感光体表面の硬さと潤滑性が得られ感光体へのトナー付着防止能や優れたクリーニング性、転写性を付与させる感光体を提供すること。 - 特許庁

To provide a technique of a liquid supplying-pipe put-in type vortex-flow based atomization nozzle which can easily and cheaply correspond to such various problems as deposition of a solid matter generated inside a liquid passage, abrasion, fouling, elution of a metal ion and corrosion of the liquid passage.例文帳に追加

液体通路の内部で発生する固形物の堆積、磨耗、汚れ、微粒化する液体中への金属イオンの溶出、液体通路の腐蝕等の諸問題に対し、容易かつ安価に対応できる液体送給菅嵌入型渦流式微粒化ノズルの技術を提供する。 - 特許庁

To perform favorable various processing without generating large amount of elongation even though a general tension of 3-10 kg/overall width is applied when a gravure printing various vapor deposition and various coating dry laminate processing is applied to the film having large amount of elongation such as a PE film or the like.例文帳に追加

ＰＥフィルム等の伸びが大きいフィルムをグラビア印刷各種蒸着、各種コーティングドライラミネートの加工をする際、一般的な張力である３〜１０ｋｇ／全巾を掛けたとしても、大きな伸びが発生することなく、良好な各種加工を行うことが出来るようにする。 - 特許庁

The method comprises: providing an article substrate 32 having a substrate surface; forming a bond coat on the substrate by depositing a beta-phase Ni-Al bond coat by cathodic arc deposition; processing the bond coat by peening to improve the coating structure; and heat treating the bond coat.例文帳に追加

基板表面を有する部品基板３２を準備し、陰極アーク蒸着によりβ層Ｎｉ−Ａｌ基ボンドコーティングを蒸着させることによって、基板にボンドコーティングを形成し、ピーニングによりボンドコーティングを加工処理し、被膜構造を改良し、ボンドコーティングを加熱処理することを含む。 - 特許庁

The method includes (1) depositing or growing a dielectric material in intrinsic and extrinsic regions of a device, (2) patterning the dielectric material by a dry or wet etching process or a lift-off process, and (3) performing vapor deposition of a field plate on the patterned dielectric material.例文帳に追加

（１）デバイスの真性および外因性領域に誘電性材料を堆積または成長させ、（２）乾式または湿式エッチングプロセス、あるいはリフトオフプロセスで誘電性材料をパターニングし、（３）パターニングされた誘電性材料上にフィールドプレートを蒸着させるステップを包含する方法。 - 特許庁

In the metallic tubular body, a film containing at least any one of nitride, carbide, oxide of titanium or aluminum and a complex compound thereof is deposited by a physical vapor deposition method on a surface of the metallic tubular body having the inside diameter of ≤ 1.0 mm.例文帳に追加

本発明の金属製管状体は、内径1.0ｍｍ以下の金属製管状体の表面にチタンまたはアルミニウムの窒化物、炭化物、酸化物およびこれらの複合化合物の少なくともいずれか一つを含む皮膜を物理蒸着法により形成することを特徴とする。 - 特許庁

The method includes a step of preparing a board for treatment by allowing the surface of a flexible resin board to contact with an ozone solution, a step of subjecting the surface of the board to electroless deposition for the formation of an electroless plate coating on the surface, and a step of forming a wiring pattern on the electroless plate coating.例文帳に追加

フレキシブル樹脂基板の表面とオゾン溶液とを接触させて処理基板を形成する工程と、処理基板の表面を無電解めっき処理して無電解めっき被膜を形成する工程と、無電解めっき被膜上に配線パターンを形成する工程と、を含む。 - 特許庁

In a process in which dielectrics constituting the charge storage films CHS are formed on the bottom dielectric film BTM, the dielectric (the first film CHS1) brought into contact with a boundary with at least the bottom dielectric film BTM in the dielectrics is formed by using atomic-layer deposition(ALD).例文帳に追加

電荷蓄積膜ＣＨＳを構成する誘電体をボトム誘電体膜ＢＴＭ上に形成する工程において、その誘電体のうち、少なくとも、ボトム誘電体膜ＢＴＭとの境界に接する誘電体（第１の膜ＣＨＳ１）を原子層堆積（ＡＬＤ）を用いて形成する。 - 特許庁

To provide a glass substrate for a magnetic disk improved in reliability and durability by subjecting a chamfered portion to high accuracy mirror polishing with smaller machining allowance thereby preventing the occurrence of deposition of sodium and potassium, a magnetic disk and a method for manufacturing the above.例文帳に追加

本発明は、少ない取代で高精度に面取部を鏡面研磨することにより、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止して信頼性と耐久性を向上させた磁気ディスク用のガラス基板および磁気ディスク、およびこれらの製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a manufacturing and recycling method of a ceramic semiconductor manufacture part for improving corrosion and polymer vapor deposition, which occur in the existent ceramic semiconductor manufacture part, through the reforming of the dielectric surface of a part having insulation characteristics, and recycling the part, after its use.例文帳に追加

絶縁特性を有する部品の誘電体表面の改質を通じて既存のセラミック半導体製造用部品で発生する侵食及びポリマー蒸着を改善して使用後にリサイクル可能にしたセラミック半導体製造用部品の製造及びリサイクル方法を提供する。 - 特許庁

To impart a rust preventive effect (discoloration prevention and corrosion prevention) to a copper or copper alloy sheet or strip by subjecting the copper or copper alloy sheet or strip to rust preventive treatment by benzotriazole or its derivative and simultaneously to prevent the deposition of green powder on a wiping pad at the time of press working, such as punching.例文帳に追加

銅又は銅合金板条に対しベンゾトリアゾール又はその誘導体による防錆処理を行って、銅又は銅合金板条に防錆効果（変色防止と防食）を付与すると同時に、打ち抜き等のプレス加工に際して、ふき取りパッドへの緑粉の堆積を防止する。 - 特許庁

To prevent deposition of scattered matters from a work generated during the laser beam machining on a laser collector caused by the inflow of the scattered matters inside a head in a laser beam machining head and a laser beam machining system in which the work is irradiated with laser beams and machined thereby.例文帳に追加

本発明は、被加工体に対してレーザビームを照射して加工を行う場合のレーザ加工ヘッドおよびレーザ加工システムに関し、レーザ加工時に発生する被加工体からの飛散物のヘッド内部への流入によるレーザ集光部への付着を防止することを目的とする。 - 特許庁

To provide a mounting stand structure which prevents the deposition of unnecessary adhesion films on the top surface of a mounting stand for mounting the workpiece to obstruct the hindrance of heating of the workpiece itself, and can maintain high uniformity of the intra-surface temperature of the workpiece.例文帳に追加

被処理体を載置する載置台の上面や熱吸収板の下面に不要な付着膜が堆積するのを防止して、被処理体自体の加熱が阻害されるのを阻止し、且つ被処理体の面内温度の均一性を高く維持することが可能な載置台構造を提供する。 - 特許庁