「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(308ページ目) - Weblio英語例文検索

When the inside of a vacuum vessel 10 is exhausted while an exhaust means 11 is held at a predetermined pressure-reducing capacity, and the pressure in the vacuum vessel 10 is higher than a standard pressure value after the passage of a predetermined exhaust time, vapor deposition substances in the vacuum chamber 10 are removed.例文帳に追加

排気手段１１を所定の減圧能力に保持した状態で、真空容器１０内を排気し、所定の排気時間経過後の真空容器１０内の圧力が基準圧力値よりも高い場合に、真空容器１０内の蒸着物の除去を行う。 - 特許庁

In an illustrative embodiment: the free end of the wire stem is bonded to a contact region on the substrate; the wire stem is constructed to have an elastic form; the wire stem is cut by discharge to be free-standing; and applying, by deposition, the protective film to the free-standing wire stem.例文帳に追加

１つの例示的な実施例の場合、ワイヤステムの自由端が基板上の接触領域にボンディングされ、ワイヤステムは弾力のある形状を有するように構成され、ワイヤステムは、自立型となるように、放電により切断されて、自立型ワイヤステムに、メッキにより保護膜が施される。 - 特許庁

This biosensor is manufactured by forming the metal layer at 10nm/sec or more of deposition speed onto a light reflection face of a metal molecule, onto the reflection face of an optical block having at least three faces of a light incident face molded of the resin, the light reflection face and a light emitting face.例文帳に追加

樹脂により成型された光入射面、光反射面及び光出射面の少なくとも３面を持つ光学ブロックの光反射面に対して、10nm/秒以上の金属原子の反射面への付着速度で金属層を形成することによって作製されるバイオセンサー。 - 特許庁

By using the granular material 19 or calcinated powder 24 obtained by calcinating the granular material, and then, disintegrating it, the first granulated powder 20 or the second granulated powder 29 is produced, and the ZnO vapor deposition material consisting of ZnO sintered compact 22 or 32 is produced through molding and sintering.例文帳に追加

粒状体１９又はこの粒状体を仮焼後に解砕して得られた仮焼粉末２４を用いて、第１造粒粉末２０又は第２造粒粉末２９を作製し、成形、焼結を経て、ＺｎＯ焼結体２２又は３２からなるＺｎＯ蒸着材を作製する。 - 特許庁

To provide a target for sputtering in which the structure of crystal orientation is improved, thus the uniformity of a film upon sputtering is made satisfactory, the quality of sputtering film deposition is improved, and further, a production yield can be remarkably improved, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

ターゲットの結晶配向の組織を改善し、スパッタリングを実施した際の、膜の均一性（ユニフォーミティ）を良好にし、スパッタ成膜の品質を向上させ、さらに製造歩留まりを著しく向上させることができるスパッタリング用ターゲット及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The dielectric multilayer film is formed by arranging the substrate such that its horizontal reference plane is inclined by a prescribed tilt angle ϕ from a horizontal direction H, making dielectric material incident along a fixed entrance direction by vacuum vapor deposition, and laminating and depositing it on the principal plane of the substrate.例文帳に追加

誘電体多層膜は、基板をその水平基準面が水平方向Ｈから所定のチルト角φ傾くように配置して、誘電体材料を真空蒸着により一定の入射方向に沿って入射させ、基板主面に積層成膜させて形成する。 - 特許庁

In the display element wherein an electrolyte containing silver or a silver compound is held between facing electrodes and driving operation of the facing electrodes is performed so that dissolution and deposition of silver are generated, the electrolyte contains a compound represented by a general formula (A).例文帳に追加

対向電極間に、銀または銀化合物を含有する電解質を保持し、銀の溶解析出を生じさせるように該対向電極の駆動操作を行う表示素子であって、該電解質が一般式（Ａ）で表される化合物を含有することを特徴とする表示素子。 - 特許庁

The conductive barrier film depositing material is used to deposit a conductive Ti-Zr barrier film by the chemical vapor deposition, and contains Ti halide compound (TiCl_4 or the like) or metal organic compound with Ti, and Zr halide compound (ZrCl_4 or the like) or metal organic compound with Zr.例文帳に追加

ケミカルベーパーデポジションにより導電性Ｔｉ−Ｚｒ系バリア膜を形成する為の材料であって、ハロゲン化Ｔｉ系化合物（ＴｉＣｌ_4 等）又はＴｉを持つ金属有機化合物と、ハロゲン化Ｚｒ系化合物（ＺｒＣｌ_4 等）又はＺｒを持つ金属有機化合物とを含む。 - 特許庁

The gas barrier film has at least one organic layer and at least one inorganic layer on a substrate film, wherein the organic layer is formed by vacuum deposition, followed by curing, of a composition containing a radical-polymerizable monomer and a polymerization initiator that is liquid at 30°C under one atmosphere.例文帳に追加

基材フィルム上に、少なくとも１つの有機層と、少なくとも１つの無機層とを有し、かつ、前記有機層が、ラジカル重合性モノマーと、１気圧３０℃で液状である重合開始剤とを含む組成物を真空蒸着し、硬化させてなることを特徴とする、ガスバリアフィルム。 - 特許庁

The ceramic sintered compact includes a substrate having β-silicon nitride and/or β-sialon as a main component and α-silicon nitride and/or α-sialon as a coating alignment component, and a hard ceramic coating to cover at least a part of the substrate by physical vapor deposition.例文帳に追加

セラミックス焼結体を、β型窒化ケイ素および／またはβ型サイアロンを主体とし、α型窒化ケイ素および／またはα型サイアロンを被膜配向成分として含む基材と、物理蒸着法により、前記基材の少なくとも一部を被覆する硬質セラミックス皮膜とから形成する。 - 特許庁

The resin particle is manufactured by the manufacturing method of the resin particle for the toner characterized by forming the layer (B) of the metal oxide (c) on the surface of the resin particle (A) having at least one of the hydroxyl group and the carboxyl group on the surface by an atom deposition method.例文帳に追加

該樹脂粒子は、原子堆積法により、表面に水酸基及びカルボキシル基の少なくとも一方の基を有する樹脂粒子（Ａ）の表面に、金属酸化物（ｃ）の層（Ｂ）を形成させることを特徴とするトナー用樹脂粒子の製造方法で製造することができる。 - 特許庁

To provide a coated aluminum alloy plate for a can lid which can eliminate a defect caused by the deposition of wax on a mold during the molding of the plate manufactured by using only an inner wax without applying an outer wax and a coating for the can lid for the coated plate.例文帳に追加

アウターワックスを塗布することなくインナーワックスだけを用いて作製する缶蓋用アルミニウム合金塗装板において、その成形加工時の金型へのワックス堆積による不具合を解消することができる缶蓋用アルミニウム合金塗装板、及びこれに用いる缶蓋用塗料を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing apparatus for a band pass filter(BPF) with which a BPF film provided with the inclination of a prescribed thickness on a plate- like glass substrate base material is manufactured by vacuum deposition while securing 0.8 nm as a channel interval by suppressing the variation of film thickness within the allowable range of 0.01%.例文帳に追加

膜厚のバラツキを０．０１％という許容範囲内に抑えて、チャネル間隔として０．８ｎｍを確保しつつ、平板状のガラス基板母材上に所定の厚みの傾斜を備えたＢＰＦ膜を蒸着により成膜することができるバンドパスフィルタの製造装置の提供。 - 特許庁

A ladle is composed of a spoon part 12 and a handle part 14 extended from the spoon part 12, the spoon part 12 and the handle part 14 are composed of titanium, preferably, of pure titanium materials, the spoon part 12 and the handle part 14 are deposited by titanium deposition and the integrated structure of titanium is provided.例文帳に追加

柄杓は掬取部１２と掬取部１２から延びる柄部１４とからなり、掬取部１２と柄部１４とはチタン、好ましくは純チタン素材から構成され、掬取部１２と柄部１４とはチタン溶接１８により溶接され、オールチタンによる一体構造となっている。 - 特許庁

To provide a surface treated steel sheet excellent in workability and weather resistance, in which stable rust is formed at an early stage not only in rural districts but also in coastal regions, the generation of flowing rust and the elution of contaminants do not occur in the process of the deposition, and the adhesion for a coating film after working is also good.例文帳に追加

田園地帯では勿論のこと海岸地帯でも安定錆を早期に形成し、該形成の途上で流れ錆の発生や環境汚染物質の溶出がなく、加工後の塗膜密着性も良好な、加工性および耐候性に優れる表面処理鋼板を提供する。 - 特許庁

To readily and quickly provide a detector capable of hybridization-detecting DNAs, superior in fine workability and low manufacturing cost, having satisfactory deposition performance for a biological substance, such as DNA, and not requiring an expensive labelling part chamber bringing complicated work and having the risk of environmental pollution or the like.例文帳に追加

微細加工性や製造コストの低廉さに優れ、ＤＮＡなどのバイオ物質の付着性がよく、作業が繁雑となり高価かつ環境汚染等の懸念がある標識部室が不要で、高速簡便なＤＮＡのハイブリダイゼーション検出できる装置を提供する。 - 特許庁

To provide treatment equipment of digestion sludge capable of preventing scale deposition in a sludge-feeding pipe for feeding digestion sludge to a sludge treatment installation such as sludge fusion equipment by efficiently recovering soluble phosphate ions of high concentration, serving as a factor component for causing scaling, from the digestion sludge in a short time as solid particles of ammonium magnesium phosphate (MAP).例文帳に追加

消化汚泥から、スケーリングの発生要因成分である高濃度の溶解性のリン酸イオンを効率よく短時間でＭＡＰの固体粒子として回収することにより、消化汚泥を汚泥溶融設備などの汚泥処理施設へ送る送泥管内のスケール付着を防止する。 - 特許庁

A gaseous starting material fed into the reaction vessel 101 is decomposed by high frequency electric power introduced from a first high frequency electric power introduction means 103 and a second high frequency electric power introduction means 104, so that deposition films are formed on the cylindrical substrates 102.例文帳に追加

反応容器１０１内に供給された原料ガスを第１の高周波電力導入手段１０３および第２の高周波電力導入手段１０４から導入された高周波電力で分解することで、円筒状基体１０２に堆積膜が形成される。 - 特許庁

To provide an antistatic polycarbonate resin composition having excellent thermal stability and transparency as well as antistaticity and suitable for the use requiring transparency and avoiding the deposition of dust, e.g. as a part to be used near a light source or a molded article to enable the observation of the content.例文帳に追加

帯電防止性のみならず、熱安定性および透明性に優れた、透明で、かつ埃の付着が敬遠される用途、例えば光源周辺部材や中身の確認できる成形品などに好適に用いられる帯電防止性ポリカーボネート樹脂組成物の提供。 - 特許庁

The barrier film is constructed by forming a TiN film with an ALD (Atomic Layer Deposition) method, and a film selected from those of Ti, Ru, and Co, or an alloy film including at least two out of those is stacked on the TiN film surface with a CVD method or a PVD method.例文帳に追加

バリアメタル膜を、ＡＬＤ法によりＴｉＮ膜を形成し、当該ＴｉＮ膜表面に、Ｔｉ、Ｒｕ及びＣｏの中から選択される膜またはこれらのうち少なくとも二種を含む合金膜をＣＶＤ法またはＰＶＤ法により積層して構成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which enables the stable manufacture of a high quality stimulable phosphor panel by eliminating an adverse influence of an impurity on a stimulable phosphor film, in a manufacture of the stimulable phosphor panel wherein a stimulable phosphor film is formed by a vacuum vapor deposition process.例文帳に追加

真空蒸着によって輝尽性蛍光体膜を成膜する輝尽性蛍光体パネルの製造において、不純物による輝尽性蛍光体膜への悪影響を排除でき、高品質な輝尽性蛍光体パネルを安定して製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide semiconductor processing equipment and methods, especially, equipment and methods for sustained high-volume production of Group III-V compound semiconductor material suitable for fabrication of optic and electronic components, for use as substrates for epitaxial deposition, for wafers and so forth.例文帳に追加

本発明は、半導体処理装置および方法の分野に関し、特に、エピタキシャル堆積用の基板としてウェハーなどに使用される、光学および電子部品の製作に適切な、第ＩＩＩ−Ｖ族化合物半導体材料の持続的大量生産のための方法および装置を提供する。 - 特許庁

When carbon nanotubes 11 of catalyst particles 12 on an endless belt 3 reach from a chemical vapor deposition zone to a transferring zone by the movement of the belt and gradually fall over sideways as they turn round the outside of a driven drum 2, the carbon nanotubes 11 are pressed to a conductive film 8 from their tips.例文帳に追加

無端ベルト３ 上の触媒粒子１２のカーボンナノチューブ１１がベルトの移動により化学蒸着ゾーンから転写ゾーンへ達し、従動ドラム２ の外側を回るに伴い徐々横に倒れる時、カーボンナノチューブ１１をその先端から導電性フィルム８ に押し付けた。 - 特許庁

To obtain a treating agent for synthetic fibers which deals with speed-up and temperature rise in a spinning process and a processing process of synthetic fiber today and sufficiently controls generation of static electricity and deposition of tar-like substances on a heating body, and to provide a method for treating synthetic fibers.例文帳に追加

近年における合成繊維の紡糸工程や加工工程での高速化及び高温度化にも対応して、静電気の発生や加熱体上へのタール状物質の付着を充分に抑制できる合成繊維用処理剤及び合成繊維の処理方法を提供する。 - 特許庁

There are provide a polypropylene molding prepared by forming a ceramic thin film layer, by a plasma chemical vapor deposition(CVD) process, on either the inner or outer surface or on both the surfaces of a plastic molded article comprising an ethylene-polypropylene random copolymer, and a vacuum blood-gathering tube prepared therefrom.例文帳に追加

エチレン−ポリプロピレンランダム共重合体からなるプラスチック成形品の内面または外面の何れかの面もしくは両面にプラズマ化学蒸着（ＣＶＤ）法にてセラミック薄膜層を形成したことを特徴とするポリプロピレン成形体およびそれを用いた真空採血管である。 - 特許庁

The scale preventing agent prevents scale deposition of manganese and zinc in the circulating cooling water system in the steel manufacturing process, and contains phosphonic acids, such as 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid and 2-phosphonobutane-1,2,4-tricarboxylic acid the like, or their salt.例文帳に追加

鉄鋼製造工程における循環冷却水系のマンガンと亜鉛のスケール析出防止用薬剤であって、１−ヒドロキシエチリデンー１，１−ジホスホン酸や２−ホスホノブタンー１，２，４−トリカルボン酸等のホスホン酸又はその塩を含んでなる鉄鋼製造工程における循環冷却水系用スケール防止剤。 - 特許庁

In s substrate treatment system Sys, a substrate treatment device 10 including a vapor deposition device PM1 and a microwave plasma treatment device PM3 is arranged in a cluster structure and an organic electronic device is manufactured while maintaining the space where a substrate G moves from carrying-in to carrying-out of the substrate G in a desired reduced pressure state.例文帳に追加

基板処理システムＳｙｓでは、蒸着装置ＰＭ１、マイクロ波プラズマ処理装置ＰＭ３を含む基板処理装置１０がクラスタ構造に配置され、基板Ｇの搬入から搬出までに基板Ｇが移動する空間を所望の減圧状態に保ちながら有機電子デバイスを製造する。 - 特許庁

To provide a roll surface trimming device having the long-time function of preventing the deposition of or removing foreign matters on or from a roll to be used in circumstances where it is exposed to such a long-time high temperature as in a continuous annealing furnace during manufacturing a steel plate.例文帳に追加

鋼板の製造における連続焼鈍炉内のような長時間高温に曝される環境下で使用されるロールに対しても、異物の付着防止或いは異物の除去機能を長期間にわたり発揮することができるロール表面手入れ装置を提供する。 - 特許庁

A method of producing a base material for superconductive thin film comprises: a first step of depositing a bed layer on a metal base plate; a second step of forming an orientation layer on the bed layer by an ion beam assisted deposition; and a third step of forming a cap layer comprising CeO_2 on the orientation layer by a sputtering.例文帳に追加

超電導薄膜用基材の製造方法において、金属基板上にベッド層を成膜し（第１工程）、ベッド層上にイオンビームアシスト蒸着法により配向層を形成し（第２工程）、配向層上にスパッタ法によりＣｅＯ_２からなるキャップ層を形成する（第３工程）。 - 特許庁

The manufacturing method of the optical film for which thin films 14 are laminated on a foundation layer 12 arranged on the film 10 beforehand by vacuum film deposition is provided with a rewinding process for rewinding by winding a tape 82 which is embossed or slitted around both end parts of the film on which the foundation layer 12.例文帳に追加

フィルム１０に予め層設された下地層１２上に真空成膜によって薄膜１４を積層する光学フィルムの製造方法において、該下地層１２が層設されたフィルム両端部にエンボス又はスリット目加工を施したテープ８２を巻き付けて巻き取る巻取工程を備える。 - 特許庁

In the case the cleaning process in the process chamber 2 is executed after the end of a deposition process, gaseous C4F6 is supplied to a fluorine forming section 19 and the gaseous C4F6 is irradiated with microwaves by a microwave irradiation device 18 in the state of continuing the reduced pressure evacuation of the inside of the process chamber 2 by a pump 9.例文帳に追加

成膜プロセスの終了後、プロセスチャンバー２内のクリーニングプロセスを実行する場合、ポンプ９によるプロセスチャンバー２内の減圧排気を継続した状態で、Ｃ_4Ｆ_6ガスをフッ素生成部１９に供給すると共に、マイクロ波照射装置１８によりマイクロ波をＣ_4Ｆ_6ガスに照射する。 - 特許庁

Zn having a sacrificial electrode effect and an enzyme that allows Zn to exist as an oxide and produces a situation, in which Zn is stably scattered in a film without activation of Zn during a thermal process that will cause partial deposition in the film, and reaction with glass, etc., and is scattered, are added to a metal magnetic film.例文帳に追加

金属磁性膜に犠牲電極作用を有するＺｎと、このＺｎを酸化物として存在させ、熱処理時にＺｎが活性化し膜中に偏析したり拡散してガラスなどと反応せず、安定的に膜中に分散させた状態を作り出すために酸素を添加する。 - 特許庁

To provide a conductive polymer nanoparticle-dispersed solution which has excellent electrical properties such as surface resistivity and conductivity, and also can deal with a film deposition means by fine printing such as inkjet printing, and to provide a conductive thin film using the dispersed solution, and a method for producing the conductive thin film.例文帳に追加

表面抵抗率や導電率等の電気特性に優れ、インクジェット印刷等の微細な印刷による製膜手段にも対応可能な導電性高分子ナノ微粒子分散溶液、当該分散溶液を用いた導電薄膜及び導電薄膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a heat exchanger capable of achieving high heat exchange efficiency by a simple structure, suppressing abeyance due to deposition of mineral components such as calcium (Ca) of service water only in a high temperature side, and preventing deterioration of heat exchange performance as a whole.例文帳に追加

簡易な構造で同時に高い熱交換効率を実現できると共に、高温側のみ水道水のカルシウム（Ｃａ）等のミネラル成分の析出による熱交換器の機能停止を抑制し、かつ、全体として熱交換性能の劣化を防止する熱交換器を提供する。 - 特許庁

The humidity sensor is formed also with a deposition layer 60 consisted of fine particles each containing tobacco molecules, of which the electrostatic capacitance (dielectric constant) changes by taking the moisture in, to cover the electrodes 31, 32 and a space therebetween, with a prescribed layer thickness, on a surface of the humidity sensitive film 50.例文帳に追加

また、煙草分子を含む微粒子からなって、水分を取り込むことによって静電容量（誘電率）が変化する堆積層６０が、電極３１及び３２並びにこれら電極間を覆うように、感湿膜５０の表面上に所定の層厚で形成されている。 - 特許庁

In MCVD method for depositing a glass layer in a quartz tube by reacting starting materials by heating the quartz tube from the outside with a burner while feeding the starting materials into the quartz tube, after deposition, the quartz tube is heated while feeding GeCl_4 into the quartz tube to reduce the diameter.例文帳に追加

原料を石英管内に供給しながら、外部よりバーナで加熱することにより、原料を反応させて該石英管内にガラス層を堆積させるMCVD法において、堆積終了後、該石英管内にGeCl_4を供給しながら石英管を加熱し縮径することを特徴としている。 - 特許庁

An aluminum vapor deposition stage can be omitted by forming reflection mirror members in two forms into which a reflection mirror is divided by press-molding an aluminum plate and mounting the two divided reflection mirror members on a protector in a form with built-in a halogen lamp to manufacture an integrated light.例文帳に追加

アルミニュウムをプレス成型して反射鏡を２分割した形態の反射鏡部材を作成し、これら２分割した反射鏡部材をハロゲンランプを内蔵した形でプロテクタに組み込むことによって内蔵ライトを製造することにより、アルミ蒸着工程を省略することができる。 - 特許庁

To provide a filtering apparatus and its operation method which reduce backwashing frequency of a membrane filtration device and chemical washing frequency to enable efficient operation by preventing clogging of a filter due to adhesion of impurities in liquid to be treated to the filter, and deposition and compaction of the impurities during filter operation.例文帳に追加

フィルターの運転中に被処理液中の不純物がフィルターに付着、堆積し、圧密されてフィルターの目詰まりを生じることを防止して、膜ろ過装置の逆洗頻度や薬品洗浄の頻度を低下させて、効率的な運転を可能にするろ過装置とその運転方法を提供する。 - 特許庁

This optical thin film deposition method comprises a step of forming a first layer formed of material containing silicon on a substrate formed of fluoride, and a step of forming a second layer for preventing fluorine contained in the substrate from being reacted with silicon contained in the first layer between the substrate and the first layer.例文帳に追加

フッ化物からなる基板上に珪素を含む材料からなる第１層を形成する工程と、前記基板に含まれるフッ素と前記第１層に含まれる珪素とを反応させないための第２層を前記基板と前記第１層との間に形成する工程とを含む成膜方法。 - 特許庁

In one aspect, the above method contains a step, in which the concentration of metal ions in the electrolyte solution contained in the feature on the plating surface is enhanced by impressing the voltage between an anode and the plating surface, and then the bulk deposition on the plated surface is performed.例文帳に追加

一態様において、前記方法は、陽極と前記めっき表面間に電圧を印加して前記めっき表面上に態様に含まれる前記電解液中の金属イオンの濃度を高めた後に、前記めっき表面上に前記バルク堆積させるステップを含む。 - 特許庁

This method is used to remove a silicon-containing substance deposited at least in a reaction chamber 101 and/or piping 108 by introducing a cleaning gas, and it includes a step to move the silicon-containing substance to a place where the flow velocity of the cleaning gas is high from its deposition part.例文帳に追加

少なくとも反応室１０１及び／又は配管１０８内に堆積したシリコン含有物をクリーニングガスを導入して除去する方法であって、シリコン含有物を、その堆積箇所から、クリーニングガスの流速がより大きな場所へ向かって移動させる工程を含む。 - 特許庁

In the characteristic manufacturing method of the radiation image conversion panel having at least a stimulable phosphor layer, formed on a support body by a gas deposition method, the stimulable phosphor layer is formed in a vacuum chamber having a plurality of evaporation sources 1-1 to 1-5.例文帳に追加

支持体上に、気相堆積法により形成された、少なくとも１層の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルの作製方法において、輝尽性蛍光体層が複数の蒸発源１−１〜１−５等を有する真空チャンバ内で形成されることを特徴とする。 - 特許庁

To obtain an inhibitor and a therapeutic agent for arteriosclerosis each having calcification lesion-suppressing action on arteriosclerosis nest and fatty deposition suppressing action on arteriosclerotic lesion and tylosis-suppressing action, or the like, of arterial smooth muscle cell and utilizable as a medicine for coating of a drug-eluting stent (DES).例文帳に追加

動脈硬化巣の石灰化病変抑制作用、動脈硬化病変の脂肪沈着抑制作用、動脈平滑筋細胞の肥厚抑制作用等を有し、薬剤溶出ステント（ＤＥＳ）コーティング用薬剤として利用できる動脈硬化抑制剤および治療剤を提供する。 - 特許庁

In a mouthpiece member having a molding groove and a ceramic body supply hole communicating with the groove, the member is formed of a quenching hardening type martensite stainless steel, and the inner surfaces of the groove and the hole are covered with a wear resistant material by means of a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

成形溝とこの成形溝へ連通するセラミック坏土供給孔を有する口金部材において、部材が焼入硬化型マルテンサイト系ステンレス鋼から形成され、成形溝及び供給孔の内面が化学蒸着法によって耐摩耗性材料で被覆されている。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device 1 comprises a deposition process of sequentially depositing a first layer (barrier layer 25) formed of a nitride semiconductor and a second layer (cap layer 26) on a substrate 10, and a thermal etching process of heating and etching the second layer in a mixed atmosphere of nitrogen and hydrogen.例文帳に追加

半導体装置１の製造方法は、基板１０に窒化物半導体で形成された第１層（障壁層２５）および第２層（キャップ層２６）を順に堆積させる堆積工程と、窒素および水素の混合雰囲気中で加熱して第２層をエッチングする熱エッチング工程とを備える。 - 特許庁