「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(326ページ目) - Weblio英語例文検索

In a method of manufacturing an AIN semiconductor for an electronic device, NH_3 gas and aluminum chloride gas, which is a result from sublimation or evaporation with absolute aluminum chloride, of which the total of impurity components other than group III elements is 0.001 wt.% or less, that has been heated are caused to react each other by a hydride vapor-phase deposition, to allow crystal growth of AIN on a substrate.例文帳に追加

III族元素以外の不純物成分の合計が０．００１重量％以下である無水塩化アルミニウムを加熱して昇華又は気化させた塩化アルミニウムガスとＮＨ_3ガスとをハイドライド気相成長法により反応させ、基板上にＡｌＮを結晶成長させる電子デバイス用のＡｌＮ半導体の製造方法である。 - 特許庁

In advance, the correlation between the deposition rate of the thin film and ion beam current value or the like are data-tabled by an experiment, an integrated ion beam current value is calculated from the data, the type of the target and the film thickness, the calculated result is set, the ion beam current value is monitored, and, while performing subtracting from the integrated ion beam current value, the emission of an ion beam is performed.例文帳に追加

予め実験によって、薄膜の堆積速度とイオンビーム電流値との相関関係等をデータテーブル化しておき、そのデータと前記ターゲット種類、膜厚とから積算イオンビーム電流値を算出し、その算出結果を設定して、イオンビーム電流値をモニタして、積算イオンビーム電流値から減算しながらイオンビームの照射を行う。 - 特許庁

The vapor-deposited amount of the group IB element in the zone 12 is controlled based on the predicted value so that the composition ratio of the XYZ_2 compound thin film at the end point of the film deposition zone 12 becomes a target value of the composition ratio between the group IB element and the group IIIB element in the XYZ_2 thin film at a previously set end point of the zone 12.例文帳に追加

製膜ゾーン１２の終点におけるＸＹＺ_2化合物薄膜の組成比が予め設定されたゾーン１２の終点におけるＸＹＺ_2薄膜の第ＩＢ族元素と第ＩＩＩＢ族元素の組成比の目的値となるように前記予測値に基づきゾーン１２における第ＩＢ族元素の蒸着量を制御する。 - 特許庁

To provide an air conditioner, in particular, including a fixing structure for an extrusion molded product capable of being inexpensively and easily demounted from a front panel, with respect to the air conditioner in which the extrusion molded product on a surface (design surface) of which vapor deposition process (for example, metal-effect, grain pattern and the like) is performed, is attached to the front panel of an indoor unit.例文帳に追加

表面（意匠面）に蒸着処理（例えば金属調や木目柄など）を施した押出成形品が室内ユニットの前面パネルに取り付けられる空気調和機であって、特に、安価で容易に前面パネルへの取り外しが可能な押出成形品の固定構造を備えた空気調和機を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for forming an electrode or a wiring pattern, which is made of a metal thin film that is uniform and has high adhesiveness, from a solution-free and resin-free raw material containing no solution and no resin component, by using an aerosol deposition method having a different film-formation principle from those of a screen printing method using a conventional metal paste composition, a photo-lithographic method and the like.例文帳に追加

従来の金属ペースト組成物を用いたスクリーン印刷法、フォトリソグラフィー法等とはその成膜原理が異なるエアロゾルデポジション法を用い、溶液や樹脂成分を含まない溶液，樹脂フリーの原料から、均一かつ密着性の高い金属薄膜からなる電極又は配線パターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

The production method is directed at forming the zinc oxide film on the article to be film-formed by using a zinc complex and alcohol with a chemical vapor-phase deposition method, and employs a zinc complex containing β-diketonate having an alkoxyalkyl methyl group as a ligand.例文帳に追加

本発明の課題は、亜鉛錯体とアルコールとを用いて、化学気相蒸着法により、成膜対象物上に酸化亜鉛薄膜を製造する方法において、亜鉛錯体として、アルコキシアルキルメチル基を有するβ-ジケトナトを配位子とする亜鉛錯体を使用することを特徴とする、酸化亜鉛薄膜の製造方法によって解決される。 - 特許庁

To provide a corona discharge type static eliminator capable of reducing the frequency of replacing and cleaning a static eliminating needle, by uniforming damage phenomenon and particle deposition at the tip of each static eliminating needle of positive polarity and negative polarity to keep ion balance.例文帳に追加

除電針の損傷やパーティクルの堆積に起因するイオンバランスの崩れに対処するものであり、正極性及び負極性の各除電針先端の損傷現象及びパーティクル堆積を均一とすることにより、イオンバランスの保持を図り、除電針の交換と清掃の頻度を減少させることができるコロナ放電式除電装置を明らかにする。 - 特許庁

The thin film deposition method for forming the thin films consisting of oxide on the surfaces of the substrates by forming a gaseous mixture containing monomer gas and oxidative reaction gas to plasma comprises forming the gaseous mixture to the plasma while changing a supply rate ratio of the monomer gas to the reaction gas in such a manner that the supply flow rate ratio includes at least a specific range.例文帳に追加

モノマーガスと、酸化性の反応ガスとを含有する混合ガスをプラズマ化し、基材の表面に酸化物からなる薄膜を形成する薄膜成膜方法において、前記反応ガスに対する前記モノマーガスの供給流量比が少なくとも特定範囲を含むように、前記供給流量比を変化させながら混合ガスをプラズマ化する。 - 特許庁

The process for producing the electrochromic element by disposing at least an electrochromic layer 23 and a pair of electrode layers 21, 22 holding this electrochromic layer 23 on substrates 20 or between these substrates is the process for producing the electrochromic element which is characterized in that at least one layer among the respective layers are heat treated in an oxygen-contg. atmosphere after deposition.例文帳に追加

基板２０上または基板間に少なくとも、エレクトロクロミック層２３と、該エレクトロクロミック層２３を挟む一対の電極層２１，２２とを設けることによりエレクトロクロミック素子を製造する方法において、前記各層のうちの少なくとも１層は、成膜後に酸素含有雰囲気下で熱処理されることを特徴とするエレクトロクロミック素子の製造方法。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor which is capable of achieving excellent durability and stable formation of high-quality images for a long period of time by using a surface protective layer which has high abrasion resistance and excellent toner release properties and specifically can suppress the generation of abnormal images due to deposition of hydrophobic silica included in toner for a long period of time.例文帳に追加

耐摩耗性が高く、かつトナーの離型性に優れ、特にトナーに含有される疎水性シリカの付着による異常画像等の発生を長期間に亘って抑制することが可能な表面保護層を有することにより、優れた耐久性と共に、安定で高品質の画像形成を長期間に亘り実現できる電子写真感光体の提供。 - 特許庁

The method for producing the barrier film is provided in which an inorganic oxide is vacuum-deposited on a base material, and the method is characterized in that oxygen containing an inert gas in an amount required for preventing the electrification of the barrier film is introduced into a space between the base material and a vapor deposition source heated by electron beams while generating microwaves.例文帳に追加

基材に無機酸化物を真空蒸着するバリア性フィルムの製造方法において、マイクロ波を発生させながら、基材と、電子線で加熱する蒸着源との間に、バリア性フィルムの帯電を防止するために必要な量の不活性ガスを含んだ酸素を導入することを特徴とするバリア性フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

Copper or silver having a high antimicrobial effect is adhered in a range of 10-30 μg/cm^2 on at least one surface of a resin fiber screen made of a synthetic resin by a vapor deposition method, and stainless steel is adhered thereafter in a range of 8-24 μg/cm^2 on top of it.例文帳に追加

合成繊維からなる樹脂繊維網の少なくとも一方の面に、気相堆積法に従い、高い抗菌作用を有する銅または銀を１０μｇ／ｃｍ^２〜３０μｇ／ｃｍ^２の範囲で付着せしめ、続いてその上から、ステンレスを８μｇ／ｃｍ^２〜２４μｇ／ｃｍ^２の範囲で付着せしめることによって達成される。 - 特許庁

In the system or method for forming the deposition film where the planar slot antenna is provided and microwaves are introduced into the electrical discharge space from this antenna via the dielectric window to form the deposited film on a substrate by the microwave plasma enhance CVD method, a groove structure consisting of a plurality of grooves is formed on the electrical discharge space side of the dielectric window.例文帳に追加

平板スロットアンテナを備え、該アンテナから誘電体窓を介して放電空間内にマイクロ波を導入し、マイクロ波プラズマＣＶＤ法によって基体上に堆積膜を形成する堆積膜形成装置または方法において、前記誘電体窓の前記放電空間側に複数の溝による溝構造が形成されるように構成する。 - 特許庁

The plasma display panel for maintaining efficiency is obtained by forming a barrier rib after deposition of a hole injection layer so as to cover a projection or a foreign matter on an electrode before partitioning a pixel by barrier ribs, then forming a thin film so as not to generate efficiency degradation of the hole injection layer by current leak, while preventing defects due to foreign matters.例文帳に追加

隔壁で画素を区画する前に電極上の突起や異物を被覆するように正孔注入層を成膜した後隔壁を形成し、その後正孔注入層を電流リークによって効率低下を起こさないように薄膜を形成することにより、異物による欠陥を防ぎつつ、効率を維持できるディスプレイパネルを得ることが出来る。 - 特許庁

A vapor deposition film is obtained by successively laminating a primer layer 2 containing a silane coupling agent having an org. functional group or a hydrolysate of the silane coupling agent and a composite of a polyol and an isocyanate compd. and an inorg. oxide membrane layer 3 with a thickness of 5-300 nm comprising inorg. oxide on at least the single surface of a plastic base material 1.例文帳に追加

プラスチック材料からなるプラスチック基材の少なくとも片面に、有機官能基を有するシランカップリング剤あるいはシランカップリング剤の加水分解物と、ポリオールおよびイソシアネート化合物との複合物を含むプライマー層、厚さ５〜３００ｎｍの無機酸化物からなる無機酸化物薄膜層を順次積層したことを特徴とする蒸着フィルム。 - 特許庁

The film deposition method comprises a step of generating a carboxylate gas by reacting a carboxylic acid with an oxygen-containing metal compound, a step of depositing a carboxylate film 2 by feeding the carboxylate gas on a substrate 1, and a step of decomposing the carboxylate film 2 and depositing a metal film 3 by supplying the energy to the substrate 1 with the carboxylate film 2 deposited thereon.例文帳に追加

カルボン酸と酸素含有金属化合物とを反応させてカルボン酸塩ガスを生成する工程と、基板１上にカルボン酸塩ガスを供給してカルボン酸塩膜２を堆積させる工程と、カルボン酸塩膜２が堆積された基板１にエネルギーを与えてカルボン酸塩膜２を分解して金属膜３を形成する工程とを有する。 - 特許庁

To provide an organic elecrtroluminescent element low in drive voltage, high in luminous efficiency and long in a driving life in the organic electroluminescent element including a light emitting layer formed by a wet film-deposition method and containing a low molecular weight compound and an organic layer formed adjacent to a cathode side of the light emitting layer and constituted of a compound containing no metal atoms.例文帳に追加

湿式成膜法で形成された、低分子化合物を含有する発光層、及び該発光層の陰極側に隣接する、金属原子を含まない化合物からなる有機層を有する有機電界発光素子において、駆動電圧が低く、発光効率が高く、また駆動寿命が長い有機電界発光素子を提供する。 - 特許庁

To provide a duplex zone showerhead with which step coverage of the metal thin film, vapor deposition speed, texture, adhesion characteristic or the like can be improved by uniformly carrying out the chemical treatment when a metal thin film is vapor-deposited by a CVD method with chemical treatment using a catalyst or the like and to provide a chemical-enhanced CVD using the same.例文帳に追加

触媒などの化学的処理によってＣＶＤ法で金属薄膜を蒸着するときに化学的処理を均一に行なえるようにすることで、金属薄膜のステップカバレッジ、蒸着速度、テクスチャ、接着特性などを改善することができるデュプレックスゾーンシャワーヘッド及びこれを適用するケミカルエンハンストＣＶＤ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a fibrous carbon by a chemical vapor deposition method which can effectively add a nitrogen-containing compound by forming a stable reaction site for synthesizing the fibrous carbon and which can synthesize the fibrous carbon with high-efficiency with reduced contamination of a reaction container and the fibrous carbon.例文帳に追加

化学気相成長法による繊維状炭素を製造する方法において、繊維状炭素合成のための安定した反応場を作り出すことにより、効果的な窒素含有化合物の添加を可能とし、反応容器や繊維状炭素の汚染を軽減するとともに繊維状炭素を高効率で合成する方法を提供すること。 - 特許庁

The multiple molecular beam source cell for thin film deposition has crucibles 1, 2 housing respective film forming materials 9, 10, heaters 7, 8 for vaporizing the film forming materials, a mixing chamber 5 for collecting the molecules of the film forming materials 9, 10 vaporized from the crucibles 1, 2 and mixing and a releasing port 6 for releasing mixed molecules from the mixing chamber 5.例文帳に追加

薄膜堆積用複合分子線源セルは、それぞれ成膜材料９、１０を収納し、これら成膜材料９、１０を気化させるヒータ７、８と、これら坩堝１、２から気化した成膜材料９、１０の分子を１つの空間にまとめて混合する混合室５と、この混合室５から混合した分子を放出する放出口６とを有する。 - 特許庁

In a gas discharge display device having a dielectric layer 17b which covers electrodes arranged in a row on a substrate and extending to the whole area of a display region, the dielectric layer is made as a laminate consisting of a first layer 171 composed of silicon dioxide and a second nitride layer 172 denser and thinner than the first layer, and the first layer is formed by chemical vapor deposition.例文帳に追加

基板上に配列された電極を覆って表示領域の全域に拡がる誘電体層１７ｂを有したガス放電表示デバイスにおいて、誘電体層を二酸化ケイ素からなる第１層１７１とそれより緻密で且つ薄い窒素化合物の第２層１７２との積層体とし、第１層を化学気相成長法によって形成する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the electrophotographic photoreceptor prepared by laminating the organic photosensitive layer and the surface protective layer on the conductive base in this order, the surface protective layer is deposited according to a plasma vapor deposition method at a temperature of the photosensitive layer of 80 to 150°C and a degree of vacuum of 10^-1 to 10^-6 Pa.例文帳に追加

導電性支持体上に、感光層及び表面保護層を順次積層した電子写真感光体の製造方法において、前記表面保護層を感光層の温度を８０℃〜１５０℃で、且つ、真空度１０^−１Ｐａ〜１０^−６Ｐａでプラズマ気相成長法により形成することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 特許庁

The film deposition apparatus deposits the thin film on the substrate and includes: a discharge unit for discharging, to the substrate, sputter particles that configures the thin film; a charging unit for electrically charging at least some of the sputter particles thus discharged; and an adjusting unit for adjusting the amount of kinetic energy of the electrically charged sputter particles that reach the substrate.例文帳に追加

基板上に薄膜を形成する成膜装置であって、薄膜を構成する物質のスパッタ粒子を基板に向けて放出する放出部と、放出されたスパッタ粒子のうち少なくとも一部を帯電させる帯電部と、帯電した状態で基板に到達するスパッタ粒子の運動エネルギーの大きさを調整する調整部とを備える。 - 特許庁

To provide a heat-resistant and light-shielding film capable of suppressing abrupt deposition of an oxide layer on the surface of a metal target by a reactive gas, depositing the metal oxide film of the metal oxide composition with excellent reproducibility by reactive sputtering, and achieving high light-shielding property, low reflectance and low glossiness in a visible ray region of the wavelength of 380-780 nm.例文帳に追加

反応性ガスによって金属ターゲット表面に急激な酸化物層が形成されることを抑え、反応性スパッタリングで金属酸化物組成の金属酸化物膜を再現性よく形成し、３８０〜７８０ｎｍの可視光域において高遮光性、低反射率化、低光沢化が達成された耐熱遮光フィルムを提供すること。 - 特許庁

In the vapor deposition apparatus equipped with substrate supporting means, the substrate supporting means includes a substrate supporting part for supporting one side of the substrate along the same direction as the carrying-in direction of the substrate to be carried into the inside of a chamber, and a substrate auxiliary supporting part for supporting the other side not supported by the substrate supporting part, inside the chamber.例文帳に追加

本発明は、基板支持手段を具備する蒸着装置において、前記基板支持手段は、チャンバ内部で、前記チャンバ内部に搬入される基板の搬入方向と一致する基板の側辺を支持する基板支持部と、前記基板支持部で支持されない基板の他の側辺を支持する基板補助支持部と、を含んでいる蒸着装置である。 - 特許庁

To provide a spacer particle dispersion liquid to be used for disposing spacer particles on a substrate by use of an ink-jet device, in particular, to provide a spacer particle dispersion liquid for preventing aggregation of spacer particles in an ink-jet device or deposition of particles on the device, and also to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device and a liquid crystal display device.例文帳に追加

インクジェット装置を用いて、スペーサ粒子を基板上に配置する際に使用するスペーサ粒子分散液に関し、より詳細には、インクジェット装置内でスペーサ粒子の凝集及び装置への付着を防止することができるスペーサ粒子分散液、液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

This production method of a semiconductor base material comprises: forming crystal nucleus of SiGe or Ge on a base material, such as an amorphous, a polycrystal and a metal using a heat CVD method which is performed at a temperature of 550°C or lower using a germanium halide and silanes as raw materials; and forming a Si polycrystal film on the crystal nuclei by a vapor phase deposition method.例文帳に追加

５５０℃以下の温度でハロゲン化ゲルマニウムとシラン類を原料とする熱ＣＶＤ法を用いて、非晶質、多結晶あるいは金属などの基材上にＳｉＧｅあるいはＧｅの結晶核を形成し、該結晶核上に気相堆積法でＳｉ多結晶膜を形成する半導体基材の製造方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁

In the film deposition method where a gaseous starting material and a support gas are fed into a treatment vessel 14 capable of evacuation to deposit a thin film on the surface of a work W, the gaseous starting material and the support gas are alternately and continuously fed for a plurality of times, respectively at the different timing to deposit the thin film.例文帳に追加

真空引き可能になされた処理容器１４内に原料ガスと支援ガスとを供給して被処理体Ｗの表面に薄膜を堆積させる成膜方法において、前記原料ガスと前記支援ガスとを互いに異なるタイミングで交互に且つ連続的に互いに複数回供給して前記薄膜を堆積させるようにする。 - 特許庁

By a method having (a) a step for depositing an amorphous film on a substrate by supplying a precursor solution that is a film precursor dissolved in a supercritical fluid into a deposition chamber, and (b) a step for heat-treating the amorphous film under a heat-treating atmospheric gas at a temperature that is lower than its crystallization temperature, the amorphous film is formed on the substrate.例文帳に追加

（ａ）膜前駆体を超臨界流体に溶解させた前駆体溶液を成膜チャンバ内に供給して、基板上にアモルファス膜を成膜する工程と、（ｂ）熱処理雰囲気ガス下、前記アモルファス膜をその結晶化温度より低い温度で熱処理する工程とを有する方法により、基板上にアモルファス膜を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing a glass perform includes preparing a glass perform whose surface roughness is set in a preform preparation step S1, depositing potassium chloride microparticulated in a microparticulation step S2 on the glass perform surface in a deposition step S3, and oxidizing the potassium chloride 4 to potassium oxide, which is diffused inside the glass perform, in an oxidation diffusion heat treatment S4.例文帳に追加

ガラス母材の製造方法は、母材準備工程Ｓ１で表面粗さを設定したガラス母材を準備し、微粒子化工程Ｓ２により微粒子化した塩化カリウム４を堆積工程Ｓ３によりガラス母材表面に堆積し、酸化拡散熱処理Ｓ４により塩化カリウムは酸化されて酸化カリウムとなりガラス母材内部に拡散される。 - 特許庁

Disclosed is a method of producing a non-woven web of fibrous or particulate material comprising: formation of a foam slurry; deposition of that slurry 116 onto a foraminous element 128 having a three-dimensional mold; and formation of a web 143 having a three-dimensional shape that is not substantially planar by removal of foam from the slurry through the foraminous element and drying the web.例文帳に追加

発泡スラリーの形成、三次元モールドを有する有孔部材１２８上への該スラリー１１６の投与、および有孔部材を通してスラリーから泡を除去し、ウェブを乾燥させることによる実質的に平面形でない三次元形状のウェブ１４３の成形を含む繊維または特定材料から不織ウェブを製造する方法。 - 特許庁

The assembled body comprises an upper case member 2 and lower case member 3 removably connected to each other by deposition, and dismantling member 10 separating the upper case member 2 and lower case member 3 which are recovered to a designated memorized shape under a shape recovering temperature and are connected by shape recovering force generated by recovery to the memorized shape.例文帳に追加

分離可能に互いに溶着によって結合された上側ケース部材２，下側ケース部材３と、形状回復温度下において所定の記憶形状に回復し、当該記憶形状への回復により発生する形状回復力によって結合された上側ケース部材２，下側ケース部材３を分離する分解用部材１０とを有する。 - 特許庁

To provide a low pressure CVD device capable of suppressing total film thickness by properly specifying an end point of gas cleaning for removing a deposition film, even if an oxide film (BTO) of SiO_2 which is identical with quartz of a reactive tube is formed on the reactive tube as a precoat film for suppressing peeling of nitride film (BTN) of BTBAS (bis tertiary butylamino silane) base.例文帳に追加

ＢＴＢＡＳ（ビス３級ブチルアミノシラン）ベースの窒化膜（ＢＴＮ）の剥離を抑えるため、反応管の石英と同じＳｉＯ_2からなる酸化膜（ＢＴＯ）をプリコート膜として反応管上に形成していても、堆積膜を除去するためのガスクリーニングの終点を適当に定め、総膜厚を抑えることのできる減圧ＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

The particulate is entrained by vortexes generated by the gas flowing through free channels on the screens towards a zone that is occupied by the screens, the vortexes are damped and the dust is deposited at the meshes of the screens (and metal belts provided on upper edges of the screens) here, subsequently, the deposited particles drop to the bottom of the device after a sufficiently thick deposition is formed.例文帳に追加

スクリーンが占めているゾーンに向かってスクリーン上の自由な通路を通って流れる気体に生じる渦によって、微粒子は連行され、ここで渦は減衰しそして塵はスクリーンの網目（およびスクリーンの上縁にある金属ベルト）に沈着し、次に、十分な厚さの沈着が形成された後に、沈着された粒子はこの装置の底に落下する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for forming a deposition film by a microwave plasma CVD method in which any breakage of a microwave introduction window or film adhesion thereto caused by the heat of the plasma can be prevented, and the uniform plasma can be generated in a large area by the conversion of the microwave into a plane wave with arranged phases or into the microwave approximate to the plane wave.例文帳に追加

マイクロ波導入窓のプラズマの熱による破損、または膜付着を防止すると共に、頭波の揃った平面波、または平面波に近似したマイクロ波に変換し、大面積で均一なプラズマの生起が可能となるマイクロ波プラズマＣＶＤ法による堆積膜形成方法および堆積膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To suppress, when phosgene is produced, the increase of pressure drop and the deterioration of a solid catalyst due to the deposition of a nickel-containing solid compound on a solid catalyst layer and the clogging of the solid catalyst layer with the compound, so that the renewal frequency of the solid catalyst is reduced, and to provide a method for producing phosgene in a cost-wise advantageous manner with excellent production efficiency.例文帳に追加

ホスゲンを製造する際、ニッケルを含有する固体の化合物が固体触媒層上への堆積や固体触媒層の間隙に詰まりによる圧力損失上昇および固体触媒の劣化を抑制し、固体触媒の更新頻度を少なくして、コスト的に有利で、かつ生産効率に優れたホスゲンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat exchanger for a water heater having improved space efficiency and high reliability with no leakage from a joint between a refrigerant pipe and a water circuit while suppressing the corrosion due to water and the deposition of mineral components including calcium carbonate in water at a high temperature and eliminating the need for installing a heat insulating cover to prevent the radiation of heat, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

スペース効率が向上し、冷媒配管と水回路の継ぎ目の漏れ等がなく信頼性が高く、水による腐食、高温時の水中の炭酸カルシウム等ミネラル成分の析出を抑制することができ、放熱防止用の断熱カバーの設置が不要となる給湯器用の熱交換器及びその製造方法を得る。 - 特許庁

The suction platen assembly for a fluid ejector comprises a platen (101) having a plurality of suction holes (102) wherein at least one (102B) of the plurality of suction holes has a side wall (208A, 208B) shaped to avoid clogging thus substantially avoiding deposition of fragments of a medium and aerosol containing fluid particles on the the side wall.例文帳に追加

流体噴射装置用吸引プラテンアセンブリは、複数の吸引孔（１０２）を有するプラテン（１０１）を備え、前記複数の吸引孔の少なくとも１つ（１０２Ｂ）はそれぞれ、目詰まり回避形状を有する側壁（２０８Ａ，２０８Ｂ）を有して、前記側壁における媒体破片および流体粒子を含むエアゾールの堆積を実質的に回避する。 - 特許庁

To obtain an electrophotographic photoreceptor excellent in deposition, wear and scuffing resistances, having very good electrophotographic characteristics such as sensitivity and residual potential and capable of exhibiting stable performance even in repetitive use and to obtain a process cartridge with the photoreceptor and an electrophotographic device.例文帳に追加

耐析出性、耐摩耗性及び耐傷性に優れた効果を有し、更に感度や残留電位等の電子写真特性も非常に良好であり、また繰り返し使用時にも安定した性能を発揮することができる電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ、電子写真装置及び該電子写真感光体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat-resistant display panel applicable to ceramic industry, iron industry, fields requiring high temperature treatment processes like glass industry, a TV cathode-ray tube manufacturing process having processes of, e.g., sealing at 400-600°C or annealing, and to deposition materials exposed to high temperature in metallic product working process after hot rolling and heat molding.例文帳に追加

窯業、製鉄業、ガラス工業等の高温処理工程を必要とする工業分野、例えば４００〜６００℃の封入、焼き鈍し工程を有するテレビジョン用ブラウン管製造工程や熱圧延、熱成形後の金属製品の加工工程などで高温に曝される被着材料に対しても使用可能な耐熱表示ラベルを提供すること。 - 特許庁

The solar cell module backsheet laminate is characterized in that an anchor coat later, a vapor deposition thin film layer of inorganic oxide and a gas barrier coating layer are sequentially laminated on one side or both sides of a fluororesin base layer, and the gas barrier coating layer is constituted of a water-soluble polymer and at least one kinds of metal alkoxide and/or hydrolyzate thereof.例文帳に追加

フッ素系樹脂基材層の片面もしくは両面にアンカーコート層、無機酸化物の蒸着薄膜層、ガスバリア性被膜層が順次積層された積層体において、ガスバリア性被膜層が、水溶性高分子と一種以上の金属アルコキシド及び／またはその加水分解物からなることを特徴とする、太陽電池モジュールバックシート用積層体 - 特許庁

To provide a highly practical gas barrier film excellent in flexibility, excellent in transparency, having high gas barrier properties and reduced in the deterioration of gas barrier properties after bag making or molding processing after bonded to other material or the like, by incorporating the component of the gas barrier film layer of the gas barrier film in a vapor deposition thin film layer to bond the same.例文帳に追加

ガスバリアフイルムのガスバリア性被膜層の成分を蒸着薄膜層の中に入り込ませ結合させることにより、透明性に優れ、かつ、高いガスバリア性を有すると共に、他の材質等と貼り合わせた後の製袋加工や成形加工後もガスバリア性の劣化の少ない可撓性に優れた実用性の高いガスバリアフイルムを提供することにある。 - 特許庁

By providing a laser beam distributor 16 in a vacuum chamber 1 of a film deposition apparatus 100 with a target 12 and the base material 13 facing each other and disposed therein, the laser beam 20 emitted from a laser beam generator 3 is distributed to the laser beam 20a to heat the base material 13 and the laser beam 20b to evaporate the target 12.例文帳に追加

内部に対向するようにターゲット１２と基材１３とが配置された成膜装置１００の真空チャンバ１内にレーザ光分配装置１６を設けることにより、レーザ光発生器３から出射されたレーザ光２０を基材１３を加熱するためのレーザ光２０ａとターゲット１２を蒸発させるためのレーザ光２０ｂとに分配するものである。 - 特許庁

To provide a method and system for depositing a metal oxide, in which deposition is performed with good film characteristics on an organic layer while making effective use of the excellent features of the film structure by ordinary sputtering by reducing the kinetic energy possessed by the sputter particles (thin film-constituting atoms) in sputtering and a method and apparatus for manufacturing an organic EL element.例文帳に追加

スパッタリングにおけるスパッタ粒子（薄膜構成原子）の持つ運動エネルギーを軽減することにより、通常のスパッタリングによる優れた膜構造の特徴を活かしつつ有機層上に特性の良い成膜を可能にする、金属酸化物の成膜方法および成膜装置、有機ＥＬ素子の製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

The thin film deposition system 1 is so constituted that a mask 5 having apertures 5a and 5b opened with the regions on the substrate 3 corresponding to erosion regions 7a and 7b moves together with a magnet 4 for generating the erosion regions 7a between a target 2 and the substrate 3 when the magnet 4 moves to the plane direction of the target 2.例文帳に追加

薄膜形成装置１を、ターゲット２と基板３との間にエロージョン領域７ａ，７ｂを発生させるマグネット４をターゲット２の平面方向に移動する際に、エロージョン領域７ａ，７ｂに対応する基板３上の領域が開口された開口部５ａ，５ｂを有するマスク５がマグネット４と共に移動するように構成する。 - 特許庁