「oxidation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a liquid crystal display device provided with a source electrode or a drain electrode having high conductivity to prevent oxidation of wiring material or the like by forming an oxide covering film ensuring higher contact with a semiconductor layer or a pixel electrode, and to provide a manufacturing method of the same device.例文帳に追加

本発明は、半導体層あるいは画素電極との密着性が高い酸化被膜を形成して、配線材料等の酸化を防止できると共に、導電率が高いソース電極あるいはドレイン電極を備えた液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a multilayer ceramic capacitor, which prevents the oxidation of an electrode layer at baking by applying a Cu external electrode on the multilayer ceramic capacitor where the internal electrode is Ni and the dielectric ceramic is barium titanate, and which does not cause nonconformity in a plating process.例文帳に追加

内部電極がＮｉで誘電体セラミックがチタン酸バリウムである積層セラミックコンデンサにＣｕ外部電極を塗布し、焼き付ける際の電極層の酸化を防止するとともに、めっき工程においても不具合を生じない積層セラミックコンデンサの製造方法を得る。 - 特許庁

An insulation film 17 comprising a silicon oxide film is formed on the side face of an emitter opening 14 through oxidation, and then a silicon nitride film 11 is removed, so that the film is undercut to form an opening; and in this opening, an epitaxial layer 19 composed of SiGe is selectively grown.例文帳に追加

エミッタ開口部１４の側面に酸化処理によって酸化シリコン膜からなる絶縁膜１７を形成した後、窒化シリコン膜１１をアンダーカットされるように除去することで形成された開口内にＳｉＧｅからなるエピタキシャル層１９を選択成長するようにした。 - 特許庁

The catalyst ball 1 includes a spherical core made of aluminum oxide, a metal coating film that is disposed on the surface thereof and exhibits a catalytic function upon its oxidation, a coating film laid thereover of a metal having a oxygen-defficiency gradient structure, and a top layer of a coating film of an film.例文帳に追加

酸化アルミニウムにより形成されたコア球体の表面に対し、酸化により触媒機能を発揮する金属被膜を設け、さらに上層にその金属の酸素欠乏傾斜構造を有する被膜を設け、最上層は酸化被膜を設けた触媒ボール１を形成した。 - 特許庁

When the nanocarbons are carbon nanotubes, the oxidizing agent which is brought into the endothermic oxidation reaction is gaseous carbon dioxide, and one of the carbon impurities is amorphous carbon, the amorphous carbon 8 is oxidized and removed and only a layer 7 of carbon nanotubes remains at a heating temperature of ≤600°C, as shown in Fig.(c).例文帳に追加

ナノカーボンがカーボンナノチューブであり、吸熱酸化反応を生ずる酸化剤が二酸化炭素ガスであり、カーボン不純物がアモルファスカーボンである場合、６００℃以下の加熱温度で、（ｃ）に示すように、アモルファスカーボン７が酸化除去され、カーボンナノチューブの層７のみが残留する。 - 特許庁

To provide a copper bonding wire not oxidizing an alloy layer of an aluminum pad and a copper ball by forming the copper ball resistive to oxidation which does not allow lowering of reliability in coupling between the copper ball and aluminum electrode even during a short term of heavy current discharging by a wire bonder under an ultra high speed operating.例文帳に追加

超高速で動作するワイヤボンダの大電流短時間放電においても銅ボールとアルミ電極との接合信頼性を低下させない酸化しにくいボールを形成し、アルミニウムパッドと銅ボールとの合金層を酸化させない銅ボンディングワイヤを提供する。 - 特許庁

An oxidation preventive film 43 to compensate for the wear of the base material 31 is formed on the molding surface of the cutting worked layer 32 and the worn side surface of the base material 31 to have a thickness to become D1 diameter before the wear as a regenerating coating film in the base material 31 on which the coating film is removed.例文帳に追加

コーティング膜を除去された母材３１には、切削加工層３２上の成形面と磨耗した母材３１の側面に、母材３１の磨耗を補って、酸化防止膜４３が再生用コーティング膜として磨耗前の径Ｄ１となる厚さに成膜される。 - 特許庁

To provide a method for producing an oxide-coated copper particulate which has an extremely thin coating layer having excellent oxidation resistance, which can maintain the excellent properties of copper such as electrical conductivity and metallic luster while relaxing properties of copper apt to be oxidized.例文帳に追加

銅の酸化されやすいという性質を緩和しつつ、電気伝導性、金属光沢等の優れた銅の性質を維持することができる、極めて薄く、かつ耐酸化性に優れた被覆層を有し、しかも分散性に優れた酸化物被覆銅微粒子を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a solid electrolytic capacitor capable of stably obtaining an excellent product by solving the problems that a uniform solid electrolytic layer cannot be formed by a residual elution constituent in electrolyte in anodic oxidation and variation in capacity and a leakage current are large.例文帳に追加

陽極酸化時の電解液の残留溶質成分により均質な固体電解質層が形成できず、容量バラツキと漏れ電流が大きいという課題を解決し、優れた製品を安定して得られる固体電解コンデンサの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing an excellent semiconductor device having an SOI structure by surely preventing a peeling resulting from an opening formed when forming a buried insulating layer by a thermal oxidation to a cavity section and by forming a superior SOI structure.例文帳に追加

空洞部に対して熱酸化を行い、埋め込み絶縁層を形成した際に生じる隙間に起因する剥がれを確実に防止し、良好なＳＯＩ構造を形成することによってＳＯＩ構造を有する優れた半導体装置を製造することのできる、方法を提供する。 - 特許庁

The film comprising a composite containing carbon particles in a silver layer is formed on a base material by performing electroplating by using a silver-plating solution in which carbon particles subjected to an oxidation treatment are added and further, a silver matrix orientation adjusting agent is added to adjust the orientation of a silver matrix.例文帳に追加

酸化処理を行った炭素粒子と銀マトリックス配向調整剤とを添加した銀めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、銀マトリックスの配向を調整して、銀層中に炭素粒子を含有する複合材からなる皮膜を素材上に形成する。 - 特許庁

The surface layer of the semiconductor substrate 1 exposed from the gate electrode 3a and the TEOS sidewall 5 is subjected to preprocessing based on a surface gas etching reaction in which processing of supplying a hydrofluoric acid gas and an ammonia gas and thermal processing are executed, thereby removing a natural oxidation film 6.例文帳に追加

ゲート電極３ａおよびＴＥＯＳサイドウォール５から露出された半導体基板１の表面層に対して、フッ酸ガスとアンモニアガスとを供給する処理とその後の熱処理とを行う表面ガスエッチング反応による前処理を行い、自然酸化膜６を除去する。 - 特許庁

The abundance ratio of a carboxy group to a hydroxy group at the surface layer part of the carbon fiber can be controlled by subjecting the carbon fiber after the electrolytic oxidation treatment to an alkali treatment in a step for preparing the carbon fiber surface-modified by the electrolysis treatment of the carbon fiber.例文帳に追加

炭素繊維を電解処理して表面改質される炭素繊維を調製する過程において、炭素繊維の電解酸化処理後にアルカリ処理を施すことにより、炭素繊維表層部のカルボキシル基とヒドロキシル基との存在比率を制御することが出来る。 - 特許庁

The manufacturing method of this invention includes the steps of forming a laminated structure including the electrodes 1 and 2 and the oxide layer 3, and applying voltage between the electrodes 1 and 2 by using each of them as a negative and a positive electrode to form an oxidation denaturation part 2a within the electrode 2.例文帳に追加

本発明の製造方法は、電極１，２および酸化物層３を含む積層構造を形成する工程と、電極１，２を各々負極および正極として当該電極間に電圧を印加することによって電極２内に酸化変性部２ａを形成する工程とを含む。 - 特許庁

A top face and a side face of a light semitransmitting film 2 comprising a material containing at least silicon atoms and nitrogen atoms deposited on a transparent substrate 3 is subjected to a contact process with silylation agent and a subsequent oxidation process to form a modified layer 5 in the manufacturing process of a photomask.例文帳に追加

フォトマスクの製造過程において、透明基板３上に設けられた珪素原子と窒素原子を少なくとも含む材料からなる光半透過膜２の上面や側断面に対し、シリル化剤による接触処理およびそれに続く酸化処理を施して変質層５を形成する。 - 特許庁

To provide a cleaning method, fouling separating method and cleaning unit which has high cleaning power, which prevents fouling from reattaching, which prevents oxidation and deterioration during cleaning under high temperature, which is low toxic, whose inflammability is low and which is favorable for high boiling point solvent that doesn't do the ozone layer any harm.例文帳に追加

高い洗浄力を示すと共に汚れの再付着、高温下における洗浄時における酸化劣化を防止し、低毒性で、引火性が低く、オゾン層破壊のない高沸点溶剤に好適な洗浄方法、汚れ分離方法および洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern forming body with which a pattern with high fineness can be formed, oxidation decomposability of a photocatalyst-containing layer is constant even in continuously performing manufacturing of the pattern forming body, and the shape of the formed pattern can be controlled.例文帳に追加

高精細にパターンを形成することが可能であり、かつ連続してパターン形成体の製造を行う際にも、光触媒含有層の酸化分解力が一定であり、形成されたパターンの形状を制御することが可能なパターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The orientation of a silver matrix is regulated and the coating film comprising the composite material containing carbon particles in the silver layer is formed on the base material by performing electroplating by using a silver-plating liquid into which carbon particles subjected to an oxidation treatment and a silver matrix orientation regulating agent are added.例文帳に追加

酸化処理を行った炭素粒子と銀マトリックス配向調整剤とを添加した銀めっき液を使用して電気めっきを行うことにより、銀マトリックスの配向を調整して、銀層中に炭素粒子を含有する複合材からなる皮膜を素材上に形成する。 - 特許庁

A steam generating part 1A comprising a steam generating composition 2 containing metal powder, salts, and water and discharging steam accompanying oxidation of the metal powder is provided on a generator 10A of steam to be applied to the skin or the mucosa, and an adhesive layer 7 on the applying face of the skin or the mucosa.例文帳に追加

皮膚又は粘膜に適用される水蒸気発生体１０Ａに、金属粉、塩類及び水を含有し、金属粉の酸化に伴って水蒸気を放出する水蒸気発生組成物２からなる水蒸気発生部１Ａを設け、皮膚又は粘膜への適用面に粘着剤層７設ける。 - 特許庁

The element separation structure which separates the photodiodes from each other, e.g. an STI structure 7b is formed by a method other than the thermal oxidation of a substrate and a channel stopper layer 6 of a 2nd conductivity type is formed in a semiconductor substrate 1 of a 1st conductivity type surrounding the element separation structure 7b in contact therewith.例文帳に追加

フォトダイオード間を素子分離する素子分離構造、例えばＳＴＩ構造７ｂを基板の熱酸化によらない方法で形成し、素子分離構造７ｂに接してこれを取り囲む第１導電型の半導体基板１中に第２導電型のチャネルストッパ層６を形成する。 - 特許庁

To optimize an element structure, to realize mass production, to make capacity, a function and reliability to be high and to prolong a life by a simple and inexpensive manufacturing method in a plane emission-type semiconductor light emitting element forming a current constricting layer by lateral oxidation.例文帳に追加

横方向酸化により電流狭窄層を形成する面発光型半導体発光素子において、素子構造の最適化を図り、簡便かつ低コストな作製方法により量産化、高性能化、高機能化、高信頼性化、長寿命化を図ることを目的とする。 - 特許庁

The amorphous silicon film 12a is patterned to a width size of 45 nm three times as large as Wa in a photolithography processing, but slimming technique is employed to form the film to 30 nm and then the technique changes a surface layer into a silicon oxide film 15 through thermal oxidation, thereby forming the film to the size Wa of 15 nm.例文帳に追加

非晶質シリコン膜１２ａは、フォトリソグラフィ処理でＷａの３倍の幅寸法４５ｎｍでパターニングされるが、スリミング技術で３０ｎｍに形成した上で、熱酸化により表層をシリコン酸化膜１５に変質させ、これによって寸法がＷａである１５ｎｍに形成される。 - 特許庁

The film-covered member is produced by forming a high-temperature-oxidation-resistant alloy film comprising MCrAlX containing 3-24 mass% Al on the surface of a substrate made of a heat-resistant alloy and forming a Cr_2O_3 film alone or together with a Cr film on the above alloy film via an Al_2O_3 layer.例文帳に追加

耐熱合金製基材の表面に、Ａｌの含有量が３〜２４ｍａｓｓ％である下記ＭＣｒＡｌＸからなる耐高温酸化性合金皮膜が設け、その合金皮膜の上には、Ａｌ_２Ｏ_３層を介し、Ｃｒ_２Ｏ_３皮膜またはＣｒ_２Ｏ_３皮膜とＣｒ皮膜が積層形成させる。 - 特許庁

A fluoroplastic resin coating layer is formed on a surface of an open-cell porous molded article made of fused particles of a resin composition composed of polyethylene and containing 0.1-3 pts.mass of an oxidation inhibitor per 100 pts.mass of the resin component.例文帳に追加

ポリエチレンを樹脂成分の主成分として含有し、かつ酸化防止剤を樹脂成分１００質量部当たり０．１〜３質量部含有する樹脂組成物の粒子同士を粒子表面で融着させて得た連通多孔質成形体の表面に、フッ素樹脂のコーティング層を形成した。 - 特許庁

In the electric dust collector provided with a discharge electrode A and the dust collecting electrode C, the electric dust collector in which a catalyst layer E having an oxidation-activity is provided on the discharge electrode A and/or the dust collecting electrode C and at the same time preferably a heating means F is installed inside the dust collecting electrode C is provided.例文帳に追加

放電極Ａと集じん極Ｃを備えた電気集じん装置において、該放電極および／または集じん極に酸化活性を有する触媒層Ｅを設ける共に好ましくは集じん極Ｃの内部に加熱手段Ｆを付設した電気集じん装置。 - 特許庁

A recessed part 23 of a circular arc-shape in a side view is formed at the protruding corner part 22 of the workpiece 20 containing aluminum as a main component, and a hard coating layer 30 is formed by anodic oxidation on the surface of the workpiece 20 having the recessed part 23, to obtain a reinforced protruding corner part 40.例文帳に追加

アルミニウムを主体とする被加工材２０の突角部２２に側面視円弧状の凹部２３が形成され、該凹部２３を含む被加工材２０表面に陽極酸化による硬質皮膜層３０を形成して強化突角部４０とされていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a substrate processing device by which throughput of substrate processing is enhanced by performing oxidation treatment with plasma-activated radical, in the substrate processing device in which adsorption and oxidization for a molecular layer are alternately repeated, and to provide a substrate processing method using the substrate processing device.例文帳に追加

分子層の吸着および酸化を交互に繰り返す基板処理装置において、前記酸化処理をプラズマ励起されたラジカルにより行うことにより、基板処理のスループットを向上させることができる基板処理装置、およびかかる基板処理装置を使った基板処理方法を提供する。 - 特許庁

In the processes shown in (f) to (g) in selected figures, the Ga_2O_3 thin film 4 and part of the GaAs substrate 1 are closely fixed by the electronic beams irradiated onto the surface of the three-layer inorganic resist oxidation film 10 in vacuum, thus to form a heat-resistant modified mask portion 17.例文帳に追加

選択図の（ｆ）から（ｇ）に示す工程では、真空中で３層無機レジスト酸化膜１０の表面に照射した電子ビームによって、Ｇａ_2Ｏ_3薄膜４とＧａＡｓ基板１の表面の一部が密着し、熱耐性を有する改質マスク部１７が形成される。 - 特許庁

The element isolating structure for isolating the photodiodes from each other, such as an STI structure 7b, is formed by a method not using the thermal oxidation of a substrate, and a second conductive type channel stopper layer 6 is formed so as to have contact with and surround the element isolating structure 7b in the first conductive type semiconductor substrate 1.例文帳に追加

フォトダイオード間を素子分離する素子分離構造、例えばＳＴＩ構造７ｂを基板の熱酸化によらない方法で形成し、素子分離構造７ｂに接してこれを取り囲む第１導電型の半導体基板１中に第２導電型のチャネルストッパ層６を形成する。 - 特許庁

Thus, its high temperature oxidation resistance is improved, simultaneously, the difference in the average linear expansion coefficients from 20 to 900°C between the stainless steel sheet and crystallized glass for a weight detection sensor can be controlled to <10%, and its adhesion with the crystallized glass layer can be improved.例文帳に追加

高Ａｌとすることにより、高温耐酸化性を改善し、同時にステンレス鋼板と重量検知センサー用結晶化ガラスの２０から９００℃までの平均線膨張係数の差が１０％未満とすることができ、結晶化ガラス層との密着性を向上する。 - 特許庁

To solve the conventional problem that the continuation of electrolysis is no more possible or electric efficiency is remarkably degraded due to peeling of a silicon substrate from a diamond layer and the corrosion of the substrate starts from this portion during electrode oxidation treatment by a diamond electrode using the silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板を用いたダイヤモンド電極による電極酸化処理中に、ダイヤモンド層と基板が剥離し、その部分から基板が腐食することにより、電解が継続できなくなる、又は、電気効率が著しく悪くなるという従来の問題を解決するためのものである。 - 特許庁

To provide a substrate which can be used as a substrate and can solve problems that the substrate itself is corroded during an electrochemical oxidation treatment, or the electrolysis cannot be continued by separating a diamond layer from the substrate, or the electrolytic efficiency is considerably degraded, and an electrode.例文帳に追加

電極として使用が可能で、電気化学的酸化処理中に基板自体が腐食する、又はダイヤモンド層と基板が剥離することにより電解が継続できなくなる、又は電解効率が著しく悪くなるという問題を解決する基板及び電極を提供する。 - 特許庁

A light-shielding film having oxidation resistance properties is further provided after forming an active layer pattern in a manufacturing process of a bottom gate top contact type field effect transistor and after forming source/drain electrode patterns in a manufacturing process of a bottom gate bottom contact type field effect transistor.例文帳に追加

ボトムゲート型トップコンタクト型の電界効果トランジスタの製造工程においては活性層パターン形成後に、またボトムゲート型ボトムコンタクト型の電界効果トランジスタの製造工程においてはソース／ドレイン電極パターン形成後に、耐酸性を有する遮光膜を一層設ける。 - 特許庁

To allow an electrode short circuit to occur by cutting the surface of an HSG silicon layer together with a natural oxidation film and producing HSG grain peeling due to lack of mechanical strength of a lower electrode when a wet etching process is performed before formation of a dielectric film in a manufacturing method of a capacitor utilizing HSG formation.例文帳に追加

ＨＳＧ形成を利用したキャパシタの製造方法で、誘電体薄膜の形成前にウェットエッチング工程を行うと自然酸化膜と一緒にＨＳＧシリコン層の表面も削られて、下部電極の機械的強度不足によりＨＳＧ粒剥がれが発生して電極短絡が起こる。 - 特許庁

In the method for manufacturing the planographic printing plate, after an aluminum plate subjected at least to surface roughening treatment and to anodic oxidation treatment is cleaned with water, a liquid containing physical developing nuclei is applied on the plate while the surface of the aluminum plate is in a wet state, and then a silver halide emulsion layer is applied thereon.例文帳に追加

少なくとも粗面化処理及び陽極酸化処理を施したアルミニウム板を水洗した後、アルミニウム板表面が湿潤状態で、物理現像核を含む液を塗布し、次いで、ハロゲン化銀乳剤層を塗布することを特徴とする平版印刷版の製造方法。 - 特許庁

An adhesive film consisting of titanium nitride (TiN) is formed in a contact hole where an upper electrode of the ferroelectric capacitor is exposed after thermal treatment is performed on it in an oxidation atmosphere, and the contact hole is filled by depositing a W layer with the CVD process while using the TiN film as a hydrogen barrier.例文帳に追加

強誘電体キャパシタの上部電極を露出するコンタクトホールに、酸化雰囲気での熱処理の後、ＴｉＮよりなる密着膜を形成し、かかるＴｉＮ密着膜を水素バリアとして使いながら、Ｗ層をＣＶＤ法により堆積し、コンタクトホールを充填する。 - 特許庁

To solve the problem that the uniformity in film thickness becomes poor when a treatment temperature is reduced in the so called dry oxidation method for obtaining a silicon oxide film, by supplying oxygen and hydrogen chloride gases into the reaction tube of, for example, a vertical heat-treating device and oxidizing the silicon layer of a semiconductor wafer.例文帳に追加

例えば縦型熱処理装置の反応管内に酸素ガスと塩化水素ガスとを供給して半導体ウエハのシリコン層を酸化し、シリコン酸化膜を得るいわゆるドライ酸化法において、処理温度を低くしようとすると膜厚均一性が悪くなることを解決する。 - 特許庁

At least, parts of a shaft part 4 and a head part 1 constituting this golf club are composed of titanium of 88-92 atom% and the rest, titanium alloy consisting of tin and molybdenum; and the outer circumference of the shaft part 4 is treated with oxidation to form a color layer composed of oxide coating.例文帳に追加

ゴルフクラブを構成するシャフト部分４、ヘッド部分１の少なくとも一部を、８８〜９２原子％のチタンと残部がスズとモリブデンからなるチタン合金により構成し、シャフト部分４の外周に酸化処理を施すことで、酸化被膜からなる着色層を形成する。 - 特許庁

In the manufacturing apparatus 101 for the particulate material of which a surface is coated with a ferrite layer, the manufacturing apparatus 101 comprises mechanisms 6, 7 for bringing an oxidation medium containing a reactive solution containing at least ferrous ions, at least an oxidizing agent or at least oxygen into contact with a substrate.例文帳に追加

表面がフェライト層で被覆された粒子状物の製造装置１０１であって、前記製造装置は少なくとも第一鉄イオンを含む反応液、少なくとも酸化剤もしくは少なくとも酸素を含んだ酸化媒体を基体に接触させる機構６，７を備えている。 - 特許庁

To provide an electric connector 1 wherein a solder paste and its oxidation impurity are hard to be adhered to a surface treatment layer of an electric contactor 30 and a poor contact is hard to be generated even if a contact (insertion and release) between an electric contact 12 of the first connector 10 and the electric contactor 30 of the second connector is repeated several thousand times.例文帳に追加

第１コネクタ１０の電気接点１２と第２コネクタの電気接触子３０とが数千回の接触（挿抜）を繰り返しても、電気接触子３０の表面処理層に半田及びその酸化不純物が付着し難く、かつ、接触不良が起こり難い電気コネクタ１を提供する。 - 特許庁

To provide a solid electrolytic capacitor and a method of manufacturing the same in which the surface of a terminal reinforcing material is prevented from being oxidized by forming an oxidation preventing coating layer surrounding the surface of the terminal reinforcing material on the lower side of a capacitor element, when the capacitor is manufactured in a high temperature chamber.例文帳に追加

コンデンサ素子の下側に端子補強材の表面を取り囲む酸化防止コーティング層を形成することによって、コンデンサが高温のチャンバ内で製造される時、該端子補強材の表面が酸化されることを防止する、固体電解コンデンサ及びその製造方法が提供する。 - 特許庁

When the hinge ball 13 and the driving shaft 7 are made of iron alloy, the inner circumference surface of the hole 13a of the hinge ball 13 is subjected to chemical conversion coating electroless plating method process, or low-temperature sulfide permeation treatment, so that an oxidation film, plating 37, or an iron sulfide diffusion layer is formed on the inner circumference of the hole 13.例文帳に追加

ヒンジボール１３及び駆動軸７を鉄系合金で形成した場合に、ヒンジボール１３の孔１３ａの内周面表面に、化成処理、無電解メッキ法又は低温浸硫処理を施すことにより、酸化皮膜、メッキ３７又は硫化鉄の拡散層を形成する。 - 特許庁

This variable optical attenuator has electrochromic layers (an oxidation colored layer 3 and a reduction colored layer 5) containing an electrochromic material arranged between transparent electrodes 2 and 6 and impresses voltage to the electrochromic layers to attenuate the light transmitted therethrough by color development of these layers and changes the attenuation quantity of the light by changing the impressed voltage.例文帳に追加

透明電極２、６の間に配置されたエレクトロクロミック材料を含むエレクトロクロミック層（酸化着色層３、還元着色層５）を備え、電圧を印加してエレクトロクロミック層を発色させることによって透過する光を減衰させ、かつこの印加電圧を変化させることにより、光の減衰量を変化させるものであることを特徴とする可変光アッテネータを構成する。 - 特許庁

The oxidation-resistant composite reverse osmosis membrane comprises a porous support and a polyamide layer formed on the support in which the polyamide layer is modified by a persulfate agent so that the membrane retains a salt rejection of at least 85% after being subjected to an aqueous solution of NaClO with a concentration of about 2,000 to 30,000 ppm for about one hour.例文帳に追加

多孔質支持体と、前記支持体の上に形成されるポリアミド層とを備える複合逆浸透膜であって、ポリアミド層を過硫酸塩系薬剤によって改質することで、約２，０００ｐｐｍから３０，０００ｐｐｍの濃度を持つＮａＣｌＯ水溶液に約１時間さらされた後に少なくとも８５％の塩排除を保持する、酸化抵抗性を有する複合逆浸透膜となる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, in which segregation of impurity in an offset impurity diffusion layer at LOCOS oxidation is suppressed and good element isolation is made with a LOCOS oxide film and the offset impurity diffused layer, so that superior and stable properties of the semiconductor device formed in an element region is obtained.例文帳に追加

本発明は、ＬＯＣＯＳ酸化時におけるオフセット不純物拡散層の不純物の偏析を抑制して、ＬＯＣＯＳ酸化膜及びオフセット不純物拡散層によって良好な素子分離を行い、素子領域に形成する半導体装置の特性を良好かつ安定したものにすることができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁