「reaction substrate」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, dry hot air 23 is blown to and at the same time the surface is smeared with the compound by a coating apparatus 24 of such as sponge or a non-woven fabric to cause isolation reaction between the active hydrogen in the surface of the substrate and the hydrolyzable group of the compound and form covalent bonds.例文帳に追加

次にドライ温風23を吹き付けるとともにスポンジ又は不織布等の塗布装置24で擦りつけ、前記基材表面の活性水素と前記化合物の加水分解性基との間で脱離反応を起こさせ共有結合させる。 - 特許庁

To provide a method of bonding a solder ball and a substrate that lowers a reaction temperature, increases strength in a bonded surface, reduces a material cost, and is compatible with an existing manufacturing process, and to provide a method of manufacturing a package structure using the same.例文帳に追加

反応温度を低下させ、ボンディング面の強度を高め、材料コストを低減し、既存の製造プロセスと互換性があるハンダボールと基板とのボンディング方法、及びそのボンディング方法を使用したパッケージ構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the sputtering film deposition method, a metal target is sputtered by a sputtering gas in the presence of a reactive gas of CO_2 and/or CO, and the transparent thin film composed of the oxide of the metal is deposited on the substrate by setting the reaction mode during the sputtering as an oxidation mode.例文帳に追加

ＣＯ_２及び／又はＣＯの反応性ガスの存在下で金属ターゲットをスパッタガスによりスパッタリングし、当該スパッタリング中の反応モードを酸化モードとして基板上に前記金属の酸化物からなる透明薄膜を成膜する。 - 特許庁

The ratio A2/A1 of the sheath area A2 of the grounding electrode 14 to the sheath area A1 of the substrate is set so that the value (A2/A1)^n (where (n) is the n-th power of the coefficient determined by the pressure in the reaction vessel 2 is about 80 to 90).例文帳に追加

基板１０のシース面積Ａ１に対するアース電極１４のシース面積Ａ２の比率Ａ２／Ａ１を、反応槽２内の圧力によって定めた係数ｎ乗した値（Ａ２／Ａ１）^ｎが、約８０乃至９０となるように、構成されている。 - 特許庁

The method of optically splitting substrates containing an optical isomer is designed to perform a reaction of a substrate containing the optical isomer by an enzyme in a nonpolar solvent under microwave irradiation.例文帳に追加

本発明は、光学異性体を含む基質の光学分割方法であって、マイクロ波照射下において、非極性溶媒中での酵素による上記光学異性体を含む基質の反応を行うことを特徴とする光学分割方法である。 - 特許庁

To provide a catalyst capable of synthesizing an optically active β-hydroxy carbonyl compound using ketone as a reactive substrate and a method of synthesizing the optically active β-hydroxy carbonyl compound using the catalyst by a asymmetric aldol reaction.例文帳に追加

ケトンを反応基質として用いて光学活性β−ヒドロキシカルボニル化合物を合成することのできる触媒及びこの触媒を用いて不斉アルドール反応により光学活性β−ヒドロキシカルボニル化合物を合成する方法を提供する。 - 特許庁

Gas supply piping 11 is communicated to a reaction pipe 16, and for the epitaxial growth on the substrate W stock gas is blown out toward the center of the rotation of the susceptor on a wafer holding side of the susceptor 13 from the gas supply piping 11.例文帳に追加

反応管１６にガス供給配管１１が連通され、基板Ｗ上にエピタキシャル成長させるために、ガス供給管１１からサセプタ１３のウェハ保持側にサセプタの回転中心に向けて原料ガスを吹き出すようになっている。 - 特許庁

The hydrogen reacts to the substrate and the impurities through different reactions respectively, thereby, the selection ratios can be elevated in the cleaning process, and particles produced from the hydrogen reaction can be inhibited by utilizing the plasma of the second mixed gas.例文帳に追加

水素が基板及び不純物とそれぞれ異なる化学反応をさせて、クリーニング工程時にエッチング選択比を向上させることができ、第２混合ガスのプラズマを利用して水素反応によるパーティクルの生成を抑制することができる。 - 特許庁

Satisfactory sensitivity can be obtained, while preventing a reaction layer insoluble in a developer from being formed in the interface between the under layer 2 and the inorganic resist layer 3 at exposure by providing the under layer 2 between the substrate 1 and the inorganic resist layer 3.例文帳に追加

基板１と無機レジスト層３との間に下地層２を設けることにより、良好な感度を得ることができると共に、露光時に下地層２と無機レジスト層３との界面に現像液に不溶な反応層が形成されることを防止できる。 - 特許庁

To provide a film forming device which prevents fluctuations of the gas supply amounts of acid dianhydride and diamine on a surface of a substrate and stably and continuously forms a polyimide film formed through a polymerization reaction of acid dianhydride and diamine.例文帳に追加

基板の表面における酸二無水物及びジアミンのそれぞれのガスの供給量の変動を防止し、酸二無水物とジアミンとの重合反応により成膜されるポリイミド膜を連続して安定に成膜できる成膜装置を提供する。 - 特許庁

Then, gaseous reagent containing precursor and porogens chosen from a group comprising organosilane and organosiloxane is introduced to a vacuum chamber, energy is added to the gaseous reagent to produce the reaction of the gaseous reagent, and a preparative film is accumulated on a substrate.例文帳に追加

オルガノシランおよびオルガノシロキサンからなる群より選ばれる前駆体ならびにポロゲンを含むガス状試薬を真空チャンバに導入し、ガス状試薬にエネルギーを加え、ガス状試薬の反応を生じさせて基体上に予備的な膜を堆積させる。 - 特許庁

The functional group is formed e.g. by ozone water-treating the resin substrate material surface, and chemically bonded by the reaction with the reactive substituents of a light-emitting substance having light-emitting groups emitting the light by the light of near ultraviolet light region.例文帳に追加

該官能基は、例えば樹脂基材表面をオゾン水処理することにより形成され、さらに近紫外領域の光により発光する発光基を有するにより発光物質の反応性置換基との反応により化学結合する。 - 特許庁

To provide a detection element capable of highly sensitively sensing a reaction between the acquisition matter in the detection element and a target matter, the detection device using the same, detection method, detection kit and a substrate for obtaining the detection element.例文帳に追加

検出素子の有する捕捉体と標的物質との反応を高感度にセンシングすることが可能な検出素子、これを用いた検出装置、検出方法及び検出用キット、ならびにこの検出素子を得るための基板を提供する - 特許庁

To provide a method for producing containers, by which the containers having well-like reaction portions and/or well-like reagent-receiving portions can surely and uniformly be subjected to surface treatments in the wells in good production efficiency without damaging a substrate.例文帳に追加

ウェル状反応部及び／又はウェル状試薬収容部を有する容器において、基板にダメージを与えずにウェル内部に生産効率よく確実かつ均一に表面処理をできる容器の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Subsequently, the temperature of the reaction chamber is again raised up to 1,040°C and a GaN single crystal film with a thickness of about 20 μm is obtained on the base crystal substrate through the CrN film and the GaN buffer layer by growing the GaN single crystal film.例文帳に追加

次いで、再び反応室の温度を１０４０℃まで上げ、ＧａＮ単結晶膜を成長させることにより、下地結晶基板上にＣｒＮ膜、ＧａＮバッファー層を介して厚さが約２０μｍのＧａＮ単結晶膜を得た。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition, excellent in light transmissivity, excellent in dry-etching tolerance, high in reaction efficiency by an acid catalyst, and excellent in adhesiveness to a substrate, and a pattern forming method giving an excellent pattern shape.例文帳に追加

光透過性に優れ、ドライエッチング耐性に優れ、酸触媒による反応効率が高く、かつアルカリ溶解性、基板との密着性に優れる感光性組成物と、表面粗さの小さい、優れたパターン形状が得られるパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a means for efficiently bringing a substrate into contact with a lipase in the surface layer of a yeast cell by giving to the cell a cellular affinity to an organic solvent in order to apply a yeast presenting a phospholipid-metabolizing enzyme in the surface layer to the synthetic reaction of a functional phospholipid.例文帳に追加

リン脂質代謝酵素表層提示酵母を機能性リン脂質の合成反応に適用するために、有機溶媒に対する細胞の親和性を付与し、表層のリパーゼと基質とを効率的に接触させる手段を提供すること。 - 特許庁

The separator substrate 1 includes a separator body part 11, having a reaction part arranged opposite to an anode and a cathode which compose the unit cell of the fuel cell, and a heat-sink part formed integrally, in at least a part of the periphery of the separator body part 11.例文帳に追加

セパレータ基板１は、単位電池セルを構成するアノード及びカソードに対向して配置される反応部を有するセパレータ本体部１１と、セパレータ本体部１１の周縁の少なくとも一部に一体に形成されたヒートシンク部とを有する。 - 特許庁

This method of manufacturing a semiconductor device includes processes of: supplying a hydrogen chloride gas into a reaction chamber simultaneously with supply at least a B source out of a material gas including the B source containing Cl and a Si source containing H when growing a polysilicon film doped with B on a semiconductor substrate by supplying the material gas into the reaction chamber; and supplying a purge gas into the reaction chamber to discharge the material gas and the hydrogen chloride gas.例文帳に追加

Ｃｌを含むＢ源と、Ｈを含むＳｉ源を有する原料ガスを反応室内に供給して、半導体基板上にＢがドープされたポリシリコン膜を成長させる際に、前記原料ガスのうち、少なくともＢ源の供給と同時に塩化水素ガスを前記反応室内に供給する工程と、パージガスを前記反応室内に供給して、前記原料ガス及び前記塩化水素ガスを排出する工程と、を具備してなることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

Carbon nanotubes are deposited on a titanium substrate containing dispersed fine cobalt particles by plasma CVD process using a mixture of methane gas and hydrogen gas and keeping the substrate temperature at 500°C and the substrate holding the deposited carbon nanotubes is subjected to substitution reaction with boron oxide in nitrogen stream at 1500-2000°C to obtain the boron nitride nanofibers having a long-period structure consisting of 12-layer period and 24-layer period.例文帳に追加

コバルトの微粒子を分散させたチタン製基板を用いて、メタンガスと水素ガスの混合物を、基板温度を５００℃に維持して、プラズマＣＶＤ法により、カーボンナノチューブを基板上に堆積させ、次に、このカーボンナノチューブの堆積した基板と酸化ホウ素を窒素気流中で、１５００℃から２０００℃で置換反応させることにより、１２層周期および２４層周期の長周期構造を有する窒化ホウ素ナノ繊維を製造する。 - 特許庁

The liquid treatment apparatus applying a chemical reaction treatment to a cover film 21 by dipping stripping liquid 51 to the cover film 21 on a substrate 20, is provided with rollers 30 conveying the substrate 20, first shower heads 50 spraying the stripping liquid 51, and baffle plates 40 installed between the shower heads 50 and the rollers 30 and preventing direct spray of the stripping liquid 51 to the substrate 20.例文帳に追加

基板２０上のカバーフィルム２１に対して剥離液５１を浸すことによって、このカバーフィルム２１に化学反応処理を施す液処理装置において、基板２０を搬送するローラー３０と、剥離液５１を噴出する第一シャワーヘッド５０と、この第一シャワーヘッド５０とローラー３０との間に設けられ、剥離液５１が基板２０に直接噴射されるのを防止する邪魔板４０とを有するフィルム膨潤剥離区間を備える。 - 特許庁

A plasma deposition apparatus for manufacturing solar cells comprises: a conveyor having a longitudinal axis for supporting at least one substrate; at least two modules each having at least one plasma torch for depositing a layer of a reaction product on the at least one substrate and located a distance from the at least one substrate; a chamber containing the conveyor and the at least two modules; and an exhaust system.例文帳に追加

少なくとも１つの基板を支持するための長手方向軸を持つコンベヤと、少なくとも１つの基板上に反応生成物の層を堆積するためのそれぞれ少なくとも１つのプラズマトーチを持つ少なくとも２つのモジュールと、前記コンベヤと前記少なくとも２つのモジュールとを含むチャンバと、排気システムとを備え、前記少なくとも１つのプラズマトーチは、少なくとも１つの基板から離れて置かれている、太陽電池を製作するためのプラズマデポジション装置。 - 特許庁

To provide a resin composition curable by condensation reaction, excellent in transparency and heat resistance, and also in thermal stability, hardness(curability) and adhesiveness to substrate, thus suitable to light-emitting diode element-processing applications including transparent sealing materials and adhesives.例文帳に追加

縮合反応により硬化が可能であり、透明性、耐熱性に優れ、なおかつ、耐熱安定性、硬度（硬化性）、基材との密着性にも優れた、透明封止材料や接着剤など発光ダイオード素子加工用途として好適な樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A predetermined part of a photosensitive material layer having a predetermined thickness formed on the surface of a substrate W is irradiated with a laser beam while controlling the beam intensity and the scanning speed so as to expose while locally controlling the reaction time constant of the photosensitive material.例文帳に追加

基板Ｗの表面に形成された所定厚さの感光性材料の層の所定箇所にビーム強度と走査速度を制御しながらレーザビームを照射することにより感光性材料の反応時定数を局所的に制御しながら露光を行う。 - 特許庁

In a method for selectively anisotropically etching a silicon nitride film with respect to a silicon oxide film, a polysilicon film and a silicon, the temperature of a substrate is kept at 10°C or below, and a mixed gas of a compound gas, containing fluorine, carbon and hydrogen, and a carbon monoxide (CO) is used as a reaction gas.例文帳に追加

シリコン窒化膜をシリコン酸化膜、ポリシリコン膜、シリコンに対して選択的に異方性エッチングする方法において、基板温度を１０℃以下とし、フッ素、炭素及び水素を含む化合物気体と一酸化炭素（ＣＯ）との混合ガスを反応ガスとして使用する。 - 特許庁

A modified layer which is made up by applying a radical reaction process to a modified layer forming-use composition including a radical reactive compound having a polar group and a vinyl group, is disposed on a thin film which is composed of a semiconductor or conductor diamond and formed on a substrate.例文帳に追加

基板上に設けられる半導体又は導電体ダイヤモンドからなる薄膜上に、極性基とビニル基とを有するラジカル反応性化合物を含む修飾層形成用組成物をラジカル反応させて形成された修飾層を設ける。 - 特許庁

To provide a dielectric composition which is free from toxic lead or chromium and is capable of forming a dense fired film on a vapor-deposited aluminum electrode on a soda-lime glass substrate without foaming as a result of reaction with the electrode, to provide a dielectric paste composition, and to provide a dielectric obtained therefrom.例文帳に追加

有害な鉛やクロムを含ないで、ソーダライムガラス基板上のアルミニウム蒸着電極と反応して発泡せずに緻密な焼成膜を得ることができる誘電体組成物、誘電体ペースト組成物、およびそれを用いて得られる誘電体を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical reaction apparatus wherein a thin film heater used in a microreactor and a protective film covering heater wiring are well flattened, and a manufacturing method capable of enhancing the surface flatness of a substrate in a protective film forming process.例文帳に追加

マイクロリアクタに用いる薄膜ヒータ及びヒータ配線を被覆する保護膜が良好に平坦化された化学反応装置を提供するとともに、該保護膜の形成工程において、基板表面の平坦性を向上させることができる製造方法を提供する。 - 特許庁

In the evernescent wave exciting fluorescence observation, a liquid layer thickness adjusting member comprising a light transmitting plate-like object is placed on the probe solution in a reaction tank provided on a waveguide substrate and the thickness of the probe solution layer is reduced to reduce background light.例文帳に追加

エバネッセント波励起蛍光観察において、導波路基板上に設けた反応槽中のプローブ溶液上に、光透過性の板状体からなる液層厚調整部材を載置し、プローブ溶液層の厚みを薄くすることにより背景光を低減する。 - 特許庁

Gas pipes 208 for introducing the raw material gas and substrate holders 203 with a cylindrical base 202 for forming the deposited film are arranged on the circumference around an electrode 205 at equal intervals inside a reaction container 201 of a vacuum airtight structure.例文帳に追加

真空気密構造をなしている反応容器２０１の内部には、原料ガスを導入するガス管２０８と、堆積膜形成用の円筒状基体２０２を装着する基体ホルダ２０３とが電極２０５を中心とした円周上に等間隔で配列されている。 - 特許庁

To provide a method for producing a sugar, which comprises subjecting an amorphous cellulose prepared by lowering a cellulose I type crystallinity from a cellulose-containing raw material, as a substrate, to an enzymatic reaction using a cellulase or the like, and by which the sugar can efficiently be produced in excellent productivity.例文帳に追加

セルロース含有原料から得られるセルロースＩ型結晶化度を低下させた非晶化セルロースを基質としてセルラーゼ等の酵素反応を行うことで、糖を効率的に得ることができる、生産性に優れた糖の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a sugar, which comprises subjecting an amorphous cellulose prepared by efficiently lowering a cellulose I type crystallinity from a cellulose-containing raw material, as a substrate, to an enzymatic reaction using a cellulase or the like, and by which the sugar can efficiently be produced in excellent productivity.例文帳に追加

セルロース含有原料から効率的にセルロースＩ型結晶化度を低下させた非晶化セルロースを基質としてセルラーゼ等の酵素反応を行うことで、糖を効率的に得ることができる、生産性に優れた糖の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The random copolymer including a phosphonic acid group having a plurality of hydroxy groups has a covalent bond formed through a dehydration reaction between a substrate or particles and the plurality of hydroxy groups, and thereby, the process time for forming a neutral layer is reduced.例文帳に追加

複数のヒドロキシ基を有するホスホン酸基を含む本発明のランダム共重合体は、基板又は粒子と複数のヒドロキシ基との脱水反応により形成される共有結合を有するため、中性層を形成するための工程時間が短縮される。 - 特許庁

In the method for manufacturing a siliceous film, a composition containing the polysilazane compound and a silica conversion reaction accelerating compound is applied to the surface of a substrate, a polysilazane coating film treatment liquid is applied to the obtained coating film and the polysilazane compound is converted into a siliceous film at 300°C or less.例文帳に追加

基板の表面上に、ポリシラザン化合物およびシリカ転化反応促進化合物を含んでなる組成物を塗布し、得られた塗膜に、ポリシラザン塗膜処理液を塗布し、３００℃以下でポリシラザン化合物をシリカ質膜に転化させるシリカ質膜製造方法。 - 特許庁

To deposit a homogeneous thin film of excellent film quality in a film thickness direction when forming the thin film by depositing a reaction product by relatively rotating a reactant gas supply unit for supplying a reactant gas to a table on which a substrate is placed.例文帳に追加

基板が載置されたテーブルに対して反応ガスを供給する反応ガス供給手段を相対的に回転させて反応生成物を積層して薄膜を成膜するにあたり、膜厚方向に亘って膜質が良好で均質な薄膜を成膜すること。 - 特許庁

The method for reducing impurities comprises reducing impurities in an organic polymer resin through one of the following processes after patterning and curing an organic polymer resin on a substrate and vaporizing a part of the organic polymer resin by a chemical reaction.例文帳に追加

基板上にパターン加工、硬化した有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、下記（１）〜（３）のいずれかの処理を行うことによって、有機ポリマー樹脂中に含まれる不純物を低減することを特徴とする不純物の低減方法である。 - 特許庁

The furan ring-containing compound can be synthesized efficiently under such reaction conditions as at ordinary temperatures and ordinary pressures by using an allyl compound-based substrate represented by the chemical formula 1 and a carboxylic ester-based reactant represented by the chemical formula 2 in the presence of a palladium-based catalyst.例文帳に追加

化学式１で表されるアリル化合物系基質と、化学式２で表されるカルボン酸エステル系反応剤を使用し、パラジウム系触媒を使用することで、常温常圧の反応条件で、効率的にフラン環含有化合物の合成が可能になった。 - 特許庁

To provide a method for producing a thin composite film comprising a nano-sheet and a polymer through a self-organization reaction irrespective of the hydrophilicity and hydrophobicity of the surface of a substrate and a thin composite film comprising a nano-sheet and a polymer.例文帳に追加

基材表面が親水性および疎水性のいずれであっても、自己組織化反応によってナノシートとポリマーとの複合薄膜を形成することのできるナノシートとポリマーとの複合薄膜の製造方法、およびナノシートとポリマーとの複合薄膜を提供すること。 - 特許庁

A thin film on a semiconductor substrate is dry-etched by selectively generating desired dissociated species through interaction between an inert gas that is excited to a quasi-stable state in plasma and a fron-family gas, to accurately control the composition of the dissociated species from the reaction gas.例文帳に追加

半導体基板上の薄膜をドライエッチングするに際し、プラズマ中で準安定状態に励起させた不活性ガスと、フロン系ガスとを相互作用させて所望の解離種を選択的に得ることにより、反応ガスの解離種の組成制御を精密に行う。 - 特許庁

The probe card uses a polyimide resin having a tensile elastic modulus between 5-15 GPa and a linear expansion coefficient between 1-8 ppm/°C acquired by the reaction between diamines having a benzooxazole skeleton and aromatic tetracarboxylic acids as an insulating material of a probe substrate constituting the probe card.例文帳に追加

プローブカードを構成するプローブ基板の絶縁材料に、ベンゾオキサゾール骨格を有するジアミン類と芳香族テトラカルボン酸類とを反応させて得られる引張弾性率が５〜１５ＧＰａ、線膨張係数が１〜８ｐｐｍ／℃のポリイミド樹脂を使用したプローブカード。 - 特許庁

Si plates 2 disposed to surround a substrate 1 adsorb and trap the radicals produced by the decomposition of an etching gas by plasma so that the radical reaction on the pattern side faces of the etched film can be decreased and so that etching on the pattern side face can be suppressed.例文帳に追加

基板１を包囲するように配置されたＳｉ板２が、プラズマによりエッチングガスが分解されて発生したラジカルを吸着してトラップすることにより、被エッチング膜のパターン側面でのラジカル反応の確率が低下し、パターン側面でのエッチングが抑制される。 - 特許庁

To provide a method for forming a deposited film, by which the reactivity at the surface of a substrate of reaction gas atoms and raw material particles are increased, the deviation from the stoichiometric composition of a formed film is reduced, and the high quality compound film can be formed at a high speed.例文帳に追加

基板表面での反応ガス原子および原料粒子の反応性を高め、形成膜の化学量論組成からのずれを低減し、高品質化合物膜を高い成膜速度で形成することが可能な堆積膜形成方法を提供する。 - 特許庁

A heating stage 6 provided in the chamber 1 has a mechanism for holding a substrate 5 and a heater cover 10 is provided around the heating stage 6 for inhibiting the heating stage 6 from corrosion by the waste gas or adhesion of a reaction product in the waste gas.例文帳に追加

チャンバー１に設置された加熱ステージ６は、基板５を保持するための機構を有し、その周囲に、加熱ステージ６を原料ガス及び廃棄ガスによる腐食あるいは廃棄ガス中の反応生成物の付着を防止するためのヒーターカバー１０が設置されている。 - 特許庁

A substrate is coated with the fluorine-containing copolymer <a> including the unsaturated double bond produced by the reaction of a specific fluorine-containing copolymer [A] containing a hydroxyl group with unsaturated isocyanate [B] and is irradiated with the electron beam under a specific condition to form the coating film.例文帳に追加

特定の水酸基含有含フッ素共重合体［Ａ］と、不飽和イソシアネート［Ｂ］との反応により生成される、不飽和二重結合を含有する含フッ素共重合体＜ａ＞を基体に塗布し、特定の条件下で電子線を照射し、塗膜を形成する。 - 特許庁

A second insulating film 102 is then formed on the first insulating film 101 by causing a chemical reaction of insulating film deposition gas as second gas supplied to the vicinity of the substrate to be processed 100 with oxygen radical as active species produced from surface wave plasma.例文帳に追加

表面波プラズマから生成された活性種としての酸素ラジカルにより被処理基板１００近傍に供給された第２のガスとしての絶縁膜成膜用ガスを化学反応させて、第１の絶縁膜１０１上に第２の絶縁膜１０２を形成する。 - 特許庁