意味 | 例文 (999件) |
defect inspectionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2367件
To provide a defect inspection method and apparatus therefore capable of detecting defects or contaminations on various circuit patterns to be repeatedly formed on inspection object substrates, discriminating from normal circuit patterns, without depending on optical conditions.例文帳に追加
被検査対象基板上に繰り返して形成される様々な回路パターン上に生じる欠陥または異物を、光学条件に依存せず、正常な回路パターンと弁別して欠陥を検出する欠陥検査方法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁
In addition, inspection systems, circuits, and methods are provided to enhance defect detection by reducing thermal damage to large particles by dynamically altering the incident laser beam power level supplied to the specimen during a surface inspection scan.例文帳に追加
加えて、表面検査の走査の間に試料に供給される入射レーザ・ビームパワー・レベルを動的に変更することによって大きな粒子に対する熱破損を削減することにより欠陥検出を強化するための検査システムや回路、方法が提供される。 - 特許庁
When an ultrasonic wave is incident from a flange side on a certain inspection area of a joined part of a lead column body and the flange, if a reflected echo from the joint part is greater than a predetermined threshold, it is judged that a joint defect is detected in the inspection area.例文帳に追加
鉛柱体とフランジの接合部の所定の検査領域に、フランジ側から超音波を入射した場合の、接合部からの反射エコーの大きさが所定のしきい値より大きい場合に、当該検査領域に接合欠陥が存在すると判定する。 - 特許庁
To provide an optical member inspection device having the capability of reasonably grouping a plurality of extracted elements having the same defect factors and separated at a binarization process after binarizing image data obtained by photographing an optical member as an inspection object.例文帳に追加
検査対象光学部材を撮像して得られた画像データを2値化した後で、同一の不良要因に起因しているが二値化の過程で分離されてしまった複数の抽出要素を合理的にグループ化することができる光学部材検査装置を、提供する。 - 特許庁
A coordinate difference information for each of defect inspection devices 41 and 42 is stored beforehand in an image observation SEM storage device 45, and the difference information is used to calibrate a defect position coordinate outputted from the devices 41 and 42 for a coordinate value as a coordinate value for the image observation SEM.例文帳に追加
像観察SEMの記憶装置45に、予め欠陥検査装置41,42毎の座標誤差情報を記憶しておき、その誤差情報を用いて欠陥検出装置41,42から出力された欠陥位置座標を像観察SEM用の座標値に校正する。 - 特許庁
To detect automatically with high sensitivity a print defect of a phosphor formed on a glass substrate such as a plasma display panel without being influenced by a phosphor applied pattern, and to realize low-cost and high-speed defect inspection by being installed easily on a manufacture line of the panel.例文帳に追加
プラズマディスプレイパネル等のガラス基板に形成された蛍光体の印刷欠陥を、蛍光体塗布パターンに影響されず、高感度に自動的に検出し、また、パネルの製造ラインに容易に設置でき、低価格、高速度の欠陥検査を実現したパターン欠陥検査方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a defect inspection device wherein detection sensitivity and throughput are improved by optimizing shape of illumination when detecting a defect such as foreign matter generated in a production process for forming a pattern on a substrate to manufacture a target object, and to provide a method therefor.例文帳に追加
基板上にパターンを形成し対象物を製作して行く製造工程で発生する異物等の欠陥を検出する際に、照明の形状を最適化することにより、検出感度およびスループットを向上する欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁
To provide a visual inspection method and a device for a defect part of a glass plate for simply creating conditions allowing visual observation from front without imposing impossible posture on an inspector, and reasonably, certainly, and safely detecting a defect part of a large-sized glass plate for FPD.例文帳に追加
検査者に無理な姿勢を強いることなく、正面視により目視しやすい条件を簡単に作り出すことができ、大型のFPD用ガラス板の欠陥部分を無理なく確実に安全に検出することのできる、ガラス板の欠陥部分の目視検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁
The predetermined judgment conditions are, for example, such conditions that a defect shown by the inspection result is a serious defect, such conditions that the same defects continuously arise, and such conditions that the same defects arise discontinuously or different defects continuously or discontinuously arise.例文帳に追加
予め定める判定条件は、たとえば、検査結果が示す不良が、重欠陥であるという条件、同じ不良が連続して発生しているという条件、および同じ不良が不連続にまたは異なる不良が連続してもしくは不連続に発生しているという条件である。 - 特許庁
Further, a second sensor truck 200, mounted with a vertical tire type ultrasonic sensor, is connected to the pipe inspection truck 100 mounted with the oblique sensor 10 to detect a defect, and the vertical sensor measures the property of a detected defect, while the second sensor truck is decelerated and moved at a low speed.例文帳に追加
さらに、斜角センサ10を搭載して欠陥を検出する管内検査台車100に、垂直タイヤ型超音波センサを搭載した第2センサ台車200を連結し、減速して低速で移動しながら検出された欠陥の性状を、垂直センサが測定する。 - 特許庁
In the inspection method for surface defect, the surface image of a metal band 1 which is conveyed on a production line containing a hot rolling process is photographed by an optical system 20, and a defect which exists on the surface of the metal band 1 is detected on the basis of the photographed surface image.例文帳に追加
本発明は、熱間圧延工程を含む製造ライン上を搬送される金属帯1の表面画像を光学系20で撮影して、この撮影した表面画像に基づいて金属帯の表面に存在する欠陥を検出する表面欠陥検出方法に適用される。 - 特許庁
By having a structure in which a perfect Cr shading part is a self-alignment type, a dicing mark part is a Cr recessing type and a pattern part is a HT pattern, the resist shape on the wafer after photomask pattern exposure can be improved and the defect detection sensitivity in the photomask defect inspection can be sufficiently obtained.例文帳に追加
完全Cr遮光部はセルフアライン型、ダイシングマーク部はCr後退型、パターン部はHTパターンという構造を有することにより、フォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスク欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができる。 - 特許庁
The method and device inspect the defect generated in the outward appearance of the object to be inspected through the image processing and the defect is detected by comparing image data at respective inspection points of the object to be inspected with a specific mean value.例文帳に追加
検査対象物の外観に生じている欠陥を画像処理により検査する欠陥検出方法及び欠陥検出装置であって、検査対象物の各検査ポイントにおける画像データを、所定の平均値と比較することにより欠陥を検出するものである。 - 特許庁
As this device for inspecting water stain deposited on a transparent film, a water stain inspection device is used which is characterized by being equipped with a water stain imaging means imaging the water stain, a contrast improvement means improving the contrast of the water stain, and a defect determination means determining the water stain to be a defect.例文帳に追加
透明フィルムに付着した水しみを検査する装置において、水しみを撮像する水しみ撮像手段、水しみのコントラストを改善するコントラスト改善手段、水しみを欠陥として判定する欠陥判定手段を備えることを特徴とする水しみ検査装置を用いる。 - 特許庁
The image defect inspection device 10 of the present invention is provided with a correlation value calculating means 20 for calculating a correlation value between a differential image in the two collated images and at least one out of the two images, and the detection of the defect is restrained in response to an increase of the correlation value.例文帳に追加
画像欠陥検査装置10を、本発明では対比される2画像の差画像とこれら2画像のうちの少なくとも一方との間の相関値を算出する相関値算出手段(20)を備えて構成し、この相関値の増加に応じて欠陥の検出を抑制する。 - 特許庁
The surface of the steel sheet 100 flowing the production line is inspected by a surface inspection device 20, and the surface defect of the steel sheet 100 is automatically dressed by a grinding mechanism 20 according to the type and degree of a defect without stopping the production line.例文帳に追加
生産ラインを流れる薄鉄鋼100の表面を表面検査装置204により検査し、この検査により発見された薄鋼板100の表面欠陥を、生産ラインを止めず、かつ欠陥の種類や程度に応じて、研磨機構207により自動的に手入れする。 - 特許庁
The TFT array inspection device 1 for inspecting a TFT array based on two-dimensional measured data obtained by driving each pixel of a TFT substrate 2, comprises a data processing means 5 determining a defect point of line defect from the two-dimensional measured data of the TFT substrate 2.例文帳に追加
TFTアレイ検査装置1は、TFT基板2の各画素を駆動して得られる二次元の測定データに基づいてTFTアレイを検査するTFTアレイ検査装置において、TFT基板2の二次元の測定データから線欠陥の欠陥点を求めるデータ処理手段5を備える。 - 特許庁
Moreover, as this method for inspecting water stain deposited on a transparent film, a water stain inspection method is used which is characterized by comprising a water stain imaging process for imaging the water stain, a contrast improvement process for improving the contrast of the water stain, and a defect determination process for determining the water stain to be a defect.例文帳に追加
また、透明フィルムに付着した水しみを検査する方法において、水しみを撮像する水しみ撮像工程、水しみのコントラストを改善するコントラスト改善工程、水しみを欠陥として判定する欠陥判定工程を有することを特徴とする水しみ検査方法を用いる。 - 特許庁
To provide a joint inspection method by which the end part of a joint interface of metallic pipes joined by a diffusion joining method, especially the presence or absence of a difference level and a defect on the inner peripheral surface side can be detected in the non-destructive condition and also the size of the difference in level and the defect can be detected with high accuracy.例文帳に追加
拡散接合法により接合された金属管の接合界面の端部、特に、内周面側における段差及び欠陥の有無を非破壊で検出でき、しかも段差及び欠陥の大きさを高い精度で検出することが可能な接合部の検査方法を提供すること。 - 特許庁
In a device 1 for detecting the defect, a reference image showing a pattern of a die as a reference on the substrate 9 in a reference image inspection circuit 42 is compared with a plurality of selected images showing the patterns of selected dies, and a defect included in the reference image is detected.例文帳に追加
欠陥検出装置1では、基準画像検査回路42において基板9上の基準とされるダイのパターンを示す基準画像と、それぞれが選択されたダイのパターンを示す複数の選択画像とが比較され、基準画像が有する欠陥が検出される。 - 特許庁
To provide an inspection method of hydrogen separation film capable of reliably removing a hydrogen separation film having a film defect by detecting a pinhole being the film defect with high precision in order to manufacture a high-quality hydrogen separation film module, and capable of improving the efficiency of manufacturing the hydrogen separation film module.例文帳に追加
品質の高い水素分離膜モジュールを製造すべく、膜欠陥となるピンホールを高い精度で検出して、膜欠陥を有する水素分離膜を確実に取り除くことができ、水素分離膜モジュールの製造効率を改善可能とする水素分離膜の検査方法を提供する。 - 特許庁
Troubles for presetting detailed conditions before review are saved, and proper conditions are automatically decided in a short time based on defect information delivered from a defect inspection device and information obtained in actual review.例文帳に追加
欠陥検査装置から送られてくる欠陥情報及び実際のレビュー中に得られる情報に基づき、種々の条件を自動的に決定することによって、レビュー前に予め詳細条件を設定する手間を省き自動的かつ短時間で適正な条件を決定する。 - 特許庁
To provide a reflection-type mask blank and a reflection-type mask for EUV exposure that eliminate the need for a low-reflection layer made of TaBO etc., which is difficult to work, are adaptive to a shorter wavelength of inspection light, and have a black defect corrected without requiring any complicated process even when the black defect is found through process inspection, and to provide a manufacturing method and an inspecting method thereof.例文帳に追加
本発明は、加工の困難なTaBO等からなる低反射層を不要とし、検査光の短波長化にも対応可能で、工程検査で黒欠陥が見つかった場合でも、複雑な工程を要することなく欠陥修正が可能なEUV露光用の反射型マスクブランクス及び反射型マスク、その製造方法、並びに検査方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
To detect a fine defect with higher sensitivity, in a surface inspection device for detecting automatically the fine defect generated on the surface by imaging by an image sensor the surface which is an inspection object irradiated with parallel light by a surface light source device, and by detecting that an image signal level is lowered from a high signal level corresponding to the normal surface.例文帳に追加
面光源装置により平行光を照射された検査対象となる表面をイメージセンサで撮像して、その画像信号レベルが、正常な表面に対応する高信号レベルから低下するのを検出して表面に生じている微小欠陥を自動的に検知するための表面検査装置において、微小欠陥をさらに高感度で検出可能にする。 - 特許庁
Defects imaged in the respective selected inspection images are correlated, and processing is carried out to compose one two-dimensional composition image 100 from the respective selected inspection images, based on defect position information input as information indicating positions of the defects imaged in the respective selected inspection images, when receiving an instruction to select at least two out of the two or more of inspection images, and the composition image 100 is displayed.例文帳に追加
また、そのうち少なくとも2枚を選択する指示が受け付けられると、選択された各検査画像に写っている欠陥の位置を示す情報として入力される欠陥位置情報に基づいて、選択された各検査画像に写っている欠陥同士を関連付けて、選択された各検査画像から1枚の2次元合成画像100を合成する処理が行われ、合成画像100が表示される。 - 特許庁
This visual inspection system has a recording means for recording information including at least defect coordinates provided from an inspection result in an automatic inspection means arranged at least one portion or more in a manufacturing process while combined to an identification code imparted on a device substrate, and a visual inspection terminal for reading out the information recorded in the recording means by the identification code to be informed to a visual inspector.例文帳に追加
製造工程の少なくとも1箇所以上に配置された自動検査手段の検査結果から得た、少なくとも欠陥座標を含む情報をデバイス基板上に付された識別コードと結び付けて記録する記録手段を有し、該記録手段に記録された情報を該識別コードによって読み出して目視検査員に通知する目視検査端末を有することを特徴とする目視検査支援システム。 - 特許庁
On the basis of data of defect inspection obtained in a process for forming a circuit pattern in a wafer 1 and of the shape of a circuit pattern wherein a poor conductive region 7a is found by a VC inspection, when performing DSA by using the data of VC inspection after forming the circuit pattern, a rectangular DSA region 8 is formed so as to surround the circuit pattern.例文帳に追加
ウェハ1に配線パターンを形成する過程で得られる欠陥検査のデータと、配線パターン形成後のVC検査のデータを用いてDSAを行う際、VC検査によって導通不良領域7aが見つかった配線パターンの形状を基に、その配線パターンを囲むようにして矩形形状のDSA領域8を設定する。 - 特許庁
The visual inspection method conducted in the inspection of the construction work comprises establishing plane coordinates on the surface or on the floor of the object to be inspected such as individual room or a section of the divided partition, and the position of a defect found in the inspection is specified by numerals according to the coordinates.例文帳に追加
建築工事の検査において実施する目視検査方法であって、検査の対象となる1室ごとに、または分割された1区画ごとにその床面に、あるいは検査の対象となる面ごとに平面座標を設定し、検査にて発見された不具合の位置を前記座標上の数値で特定することを特徴としている。 - 特許庁
To provide a titanium alloy billet having excellent defect detectability in an ultrasonic crack inspection test, even in a large-sized billet with a diameter of ≥ϕ150 mm, for which the inspection of internal defects can be performed by a generally used ultrasonic crack inspection method similarly to the case of the other metal products, and which can be mass-produced as well.例文帳に追加
直径がφ150mm以上の大型のビレットであっても、他の金属製品の場合と同様に、一般的に用いられている超音波探傷法で、内部欠陥の検査を行うことができ、しかも、量産することが可能な、超音波探傷試験における欠陥検出能力に優れたチタン合金ビレットを提供する。 - 特許庁
In the angle probe 0 and the inspection device, a shoe 2 having acoustic characteristics changed by temperature to the same degree of the inspection object 4 is used, whereby the incident angle θ1 of ultrasonic wave to the shoe is equalized to the refraction angle θ2 to the inspection object 4, so that defect detection can be performed by direct scan technique.例文帳に追加
温度による音響特性変化が被検査物4と同程度のシュー2を用いることで、温度変化に関係なく超音波のシューへの入射角θ1と被検査物4への屈折角θ2が等しくなるようにし、直射法で欠陥検出ができるように斜角超音波探触子0および検査装置を構成する。 - 特許庁
This inspection method has a process S3 for extracting reference pattern information of an inspection object, a process S4 for forming a two-dimensional Fourier transform filter for canceling the reference pattern information based on the reference pattern information, and a process S5 for inspecting a defect pattern other than a reference pattern of the inspection object by using the two-dimensional Fourier transform filter.例文帳に追加
また、検査方法において、検査対象物の基準パターン情報を抽出する工程(S3)と、基準パターン情報に基づき、この基準パターン情報をキャンセリングする二次元フーリエ変換フィルタを形成する工程(S4)と、二次元フーリエ変換フィルタを使用し、検査対象物の基準パターン以外の欠陥パターンを検査する工程(S5)とを備える。 - 特許庁
When the number of pixels each brightness value of which is over a specified separation threshold is smaller than a specified determination number, relative to pixels in an inspection domain by using the striped bright domain Db in a density image acquired by the imaging apparatus 3 as the inspection domain, an image processing device 4 determines to be a void defect wherein a void amount occupied in the inspection object is excessive.例文帳に追加
画像処理装置4は、撮像装置3により得られた濃淡画像のうち縞状明領域Dbを検査領域とし検査領域内の画素について、輝度値が規定の分離閾値以上である画素の個数が規定した判定個数以下のときに、検査対象に占めるボイドの量が過剰であるボイド不良と判定する。 - 特許庁
The metal ring inspection apparatus having a defect inspection section for inspecting the surface defects of a metal ring after performing both of or one of perimeter correction and perimeter measurement comprises a determination reference generation means (threshold value selection section 49) for generating generating criteria for inspecting defects at the defect inspection section, on the basis of perimeter correction information or perimeter measurement information or other pieces of information related to the information.例文帳に追加
周長補正と周長測定の両方又はいずれか一方を行った後の金属リングの表面欠陥を検査する欠陥検査部を有する金属リング検査装置において、前記欠陥検査部における欠陥検査のための判定基準を、周長補正情報又は周長測定情報若しくはそれらの情報に密接に関連する他の情報に基づいて発生する判定基準発生手段(しきい値選択部49)を備えたことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a board for a display device that comprises wiring for repair to restore disconnection defect occurring in a data bus line, actualizes a repaired data bus line when the wiring for repair is short-circuited, and easily performs discrimination with line defect occurring due to another cause, and to provide a liquid crystal display panel and device as well as a defect inspection method of wiring for repair.例文帳に追加
本発明は、データバスラインに生じた断線欠陥を修復するリペア用配線を備え、リペア用配線が短絡した場合にはリペア処理を施したデータバスラインを顕在化させ、他の原因で生じる線欠陥との識別を容易に行える表示装置用基板、液晶表示パネル及び液晶表示装置並びにリペア用配線の欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
Since the page identifier 95 includes monochrome parts 951a to 951d printed by only each of inks of a plurality of colors used in the printer, it is possible to immediately detect a printing defect in inspection of the first page on which the printing defect occurs even when the printing defect of ink of any color in the plurality of colors occurs.例文帳に追加
ページ識別子95は、印刷装置にて使用される複数色のインクのそれぞれのみにより印刷された単色部951a〜951dを含んでいるため、当該複数色のうちいずれの色のインクにおいて印刷欠陥が発生した場合であっても、印刷欠陥が発生した最初のページの検査において当該印刷欠陥を速やかに検出することができる。 - 特許庁
An insulation inspection part 7 determines an insulation defect between the coil and the stator in the case that the current detection sensor 62 detects a discharge current, an insulation defect between the coil and the rotor in the case that the current detection sensor 63 detects a discharge current, and an insulation defect between the coil and the case in the case that the current detection sensor 64 detects a discharge current.例文帳に追加
そして,絶縁検査部7では,電流検出センサ62にて放電電流が検出された場合には,コイル−ステータ間の絶縁不良とし,電流検出センサ63にて放電電流が検出された場合には,コイル−ロータ間の絶縁不良とし,電流検出センサ64にて放電電流が検出された場合には,コイル−ケース間の絶縁不良とする。 - 特許庁
To enable high-speed, stable, and accurate inspection of circuit pattern having insulating materials in a method for inspection by detecting a defect, contamination, residue, or the like appearing on the circuit pattern of a semiconductor-device wafer, by radiating an electron beam onto the wafer and comparing the secondary electron image with a reference image.例文帳に追加
半導体装置等基板上で発生した回路パターンの欠陥、異物、残渣等を電子線をウエハに入射して二次電子像を比較することにより検査する方法において、絶縁材料を有する回路パターンを高速に且つ安定して高精度に検査可能とする。 - 特許庁
This defect inspection device 1 is equipped with a gray level difference detecting part 25 for detecting a gray level difference between corresponding pixels, relative to pixels whose both gray level values of the corresponding pixels are smaller than a prescribed threshold, among each pixel included in the inspection image and each pixel of the reference image, respectively corresponding to the pixel.例文帳に追加
欠陥検査装置1は、検査画像に含まれる各画素とこれら画素にそれぞれ対応する参照画像の各画素のうち、対応する画素の両方のグレイレベル値が所定の閾値より小さいものについて、対応する画素間のグレイレベル差を検出するグレイレベル差検出部25を備える。 - 特許庁
This sensor is acquired by improving a magnetic flaw detection sensor formed from a ferromagnetic material core and a search coil wound thereon which are used for detection of a magnetic flux leaking from a defect existing on a magnetized inspection material arranged between magnetic poles of a magnet disposed along a running line of the inspection material.例文帳に追加
被検査材の走行ラインに沿って配設した磁石の磁極間に配置され、磁化された該被検査材に存在する欠陥から漏洩する磁束の検出に用いられる強磁性体コアとそれに巻回したサーチコイルとで形成された磁気探傷用センサを改良した。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a substrate adaptable to a fine patterning, a mask blank and a transfer mask at a high yield, by detecting an internal defect (an optically non-uniform part) of a substrate for a mask blank at low maintenance cost and at a low inspection cost using an inspection device manufactured at low cost.例文帳に追加
低コストで製造可能な検査装置を用いて、低メンテナンスコスト及び低検査コストで、マスクブランク用基板の内部欠陥(光学的不均一部分)を検出して、微細なパターニングに適応した基板、マスクブランク及び転写用マスクを高い歩留まりで製造する方法を提供する。 - 特許庁
A defect marking device is equipped with an inspection machine 21 which detects defects that a long filmy product 1 has, block by block, a laser marker device 22 which prints marks corresponding to the defects detected by the inspection machine 21, and a control unit 23 which controls the laser marker device 22.例文帳に追加
欠陥マーキング装置は、長尺フィルム状製品1に存在する欠陥をブロック毎に検出する検査機21と、検査機21によって検出された欠陥に対応してマークを印字するレーザマーカ装置22と、このレーザマーカ装置22を制御する制御部23とを備える。 - 特許庁
A picture image fetched by a camera as analog data is converted into digital data by an analog-to-digital converter, and an inspection standard area and an inspection objective area different in accordance with the type of the defect are each set on the picture image by a matrix setting means 18.例文帳に追加
カメラによってアナログデータとして取り出された画像のアナログデータの画像がA/D変換器によってデジタルデータに変換されると、マトリクス設定手段18によって、画像上にて、欠陥の種類に応じて異なった検査基準領域および検査対象領域がそれぞれ設定される。 - 特許庁
To provide the analyzing method of result of inspection in the manufacturing process of the semiconductor device, which predicts quality of chips with high accuracy, based on the result of inspection of a defect, an analyzing device, an analyzing program, a recording medium for recording the analyzing program and the manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加
欠陥の検出結果に基づいてチップの良/不良を高い精度で予測することができる半導体装置の製造工程中の検査結果の分析方法、分析装置、分析プログラム及び分析プログラムを記録した記録媒体並びに半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a surface and internal defect inspection device, capable of enhancing inspection precision by reducing the influence of the sensitivity difference and phase noise, caused by the incident position of the reflected light from the surface of an object to be inspected (or transmission light passed through the inside of the object to be inspected).例文帳に追加
被検査物の表面からの反射光(又は、被検査物の内部を透過した透過光)の入射位置による感度差や位相ノイズの影響を小さくすることにより検査精度を向上することができる表面および内部欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method and device for visual inspection of electronic components which can securely surely decide only a real defect, without being affected by unevenness, sealed characters, etc., included in a photographed image of the package of electronic components and the recording medium, where the program for enabling a computer to actualize the visual inspection processing is recorded.例文帳に追加
電子部品のパッケージの撮影画像に含まれるむらや捺印文字等の影響を受けず、真の欠陥のみを確実に判別できる、電子部品の外観検査方法、外観検査装置及び外観検査処理をコンピュータに実現させるためのプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁
By optical inspection for defects in the glass substrate, it is found that: the substrate 1 has no defect dependent on the propagation direction of the inspection light; the substrate 1 has no stria inside; and flaws present on the substrate surface have the width (length in the direction of the minor axis) smaller than 1 μm.例文帳に追加
光学的なガラス基板の欠陥検査によって、基板1には検査光の進行方向に依存性をもった久陥は存在せず、基板1内部には脈理がなく、また基板1表面に存在する傷は、その幅(短軸方向の長さ)が1μmより小さいことが確認されたものである。 - 特許庁
To provide a defect inspection method that can appropriately control a charge amount of a surface of a sample even when the irradiation current value for enlarging the throughput or the like is increased, obtains clear image data with small distortion, and can perform an inspection with high reliability.例文帳に追加
スループットを大きくする等のため照射電流値を増加する場合にも試料表面の帯電量を適切に制御することができ、歪の小さい鮮明な画像データが取得され、信頼性の高い検査を行うことができる欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁
The inspection device allows defective image during inspection to be displayed, by searching similar defects on images in case of a plurality of sheets of defective data, performing trend display of a search result, displaying a defective map by designating a sheet on the trend, and designating a defect on the defective map.例文帳に追加
複数枚の欠陥データの場合には、画像上で類似の欠陥を検索、検索結果をトレンド表示すること、トレンド上の1枚を指定することでその欠陥マップを表示し、欠陥マップ上の欠陥を指定することで検査時の欠陥画像の表示を可能とする。 - 特許庁
In an electronic microscope 5 for observing the defects detected by an optical defect inspection apparatus or an optical visual inspection apparatus, an optical microscope 14 for redetecting defects is mounted thereupon and a distribution filter is inserted in its pupil surface, when the optical microscope 14 is used to observe dark field.例文帳に追加
光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布フィルタを挿入する構成とする。 - 特許庁
To provide an ultrasonic inspection device that responds to inspection of a fillet weld section between a socket section of a small diameter elbow and a pipe, for example, and detects a defect occurring so as to become substantially parallel to an elbow-side boundary near the elbow-side boundary of the fillet weld section.例文帳に追加
例えば小口径エルボのソケット部と配管との隅肉溶接部の検査に対応することができ、隅肉溶接部のエルボ側境界付近でエルボ側境界に対しほぼ平行方向となるように生じた欠陥を検出することができる超音波検査装置を提供する。 - 特許庁
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