「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

The defect inspection device of the present invention is equipped with a laser light source 1, emitting optical beam; a one-dimensional diffraction grating converting light into one-dimensional multi-beam; an objective lens 9 for converging multi-beams; a half-mirror 6a separating the optical beam reflected from a sample from the optical beam entering into the sample; and a wedge 17 bifurcating the separated optical beams.例文帳に追加

本発明にかかる欠陥検査装置は光ビームを発生するレーザー光源１と、光を１次元のマルチビームに変換する１次元回折格子と、マルチビームを集束する対物レンズ９と、試料で反射した光ビームを試料に入射する光ビームから分離するハーフミラー６ａと、分離された光ビームを分岐するウェッジ１７を備えている。 - 特許庁

Thus, target defect determination is carried out even when an inspection environment is not set to a low temperature.例文帳に追加

書き込み期間を自由に選択できる回路（９）を内蔵し、メモリセルに製品仕様の書込みタイミングよりも短いテスト用タイミングでデータの書込み期間を実施し、メモリセルに蓄えられる電荷量を制限した状態で書き込まれたデータが正常かどうかをチェックしてメモリセルの検査を行うことによって、検査環境を低温にしなくても、目的の不良判別を実現できる。 - 特許庁

Then the arithmetic processing unit compares mask pattern inspection data to the mask pattern image data so as to specify a defective portion of the mask pattern, generates positional information of the defective portion, and identifies a tendency of occurrence of the defect on the photomask, based on the positional information and the density information for the respective plurality of small regions.例文帳に追加

そして、前記演算処理部（２５）は、前記マスク検査用データ（１３）と前記マスクパターン画像データとを比較して前記マスクパターンの欠陥部分（Ｅ１〜Ｅ４）とし、前記欠陥部分（Ｅ１〜Ｅ４）の位置情報を生成し、前記位置情報と前記複数の小領域ごとの密度情報（［Ａ］〜［Ｃ］）とに基づいて、前記フォトマスクに発生する欠陥の発生傾向を特定する。 - 特許庁

A defect inspection device is provided with a first irradiating means S for irradiating a sample 9 by emitting primary electron beams, mapping optical mechanisms 11 to 13 or imaging secondary electrons emitted from the surface of the sample 9 irradiated with the secondary electron beams, a detector D for detecting the secondary electrons, and an image treatment mechanism 18 for treating signals from the detector D.例文帳に追加

欠陥検査装置は、一次電子線を放出して試料９を照射するための第１の照射手段Ｓと、一次電子線で照射された試料９の表面から放出された二次電子を結像させるための写像光学機構１１〜１３と、二次電子を検出するための検出器Ｄと、検出器Ｄからの信号を処理する画像処理機構１８とを具備する。 - 特許庁

The inspection method of a TFT substrate inspects the defect of the TFT array by applying a voltage to the TFT array of the TFT substrate and detecting the secondary electrons obtained by electron beam irradiation, in which the positive voltage and the negative voltage are alternately applied to the pixel electrodes of the TFT array in a prescribed period, and the potential of the pixel electrode is offset to the negative side.例文帳に追加

ＴＦＴ基板のＴＦＴアレイに対して電圧を印加し、電子線照射により得られる二次電子を検出することによりＴＦＴアレイの欠陥を検査するＴＦＴ基板の検査方法であって、所定周期内においてＴＦＴアレイの画素電極に正電圧および負電圧を交互に印加するとともに、画素電極の電位を負側にオフセットさせる。 - 特許庁

To provide a system and method for defect inspection which can discriminate various shaped scratches from adhered foreign substances, generated on the surface of any processed subject to be inspected, when implementing of grinding or polishing, such as Chemical Mechanical Polishing (CMP) on the processed subject (for example, insulating film on semiconductor substrate) is conducted, in the manufacturing of semiconductor or magnetic head.例文帳に追加

半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

In the defect-inspecting apparatus for inspecting the defects to be inspected by applying image processing, which uses a captured signal outputted from a capturing section for capturing an inspection target, the capturing section has at least two cameras having different resolutions, defects are detected by the high-resolution camera, and the color of the defects is detected by a low-resolution camera.例文帳に追加

検査対象を撮像する撮像部から出力された撮像信号を用いて画像処理を行い前記検査対象の欠陥検査を行う欠陥検査装置において、 前記撮像部は、解像度の異なる少なくとも２台のカメラを有し、 高解像度のカメラで欠陥を検出し、低解像度のカメラで前記欠陥の色の検出を行うように構成する。 - 特許庁

To provide method and apparatus for manufacturing a semiconductor application device and method and apparatus for inspecting/analyzing a semiconductor application device, in which the cause of electrical defect in the semiconductor application device product can be localized in a short period while lessening the burden on a device designer and inspection can be carried out effectively as compared with a conventional TEG while reducing the cost.例文帳に追加

装置設計者の負担を軽減しながら、製品となる半導体応用装置の電気的な不良の原因を短期間で絞り込むことができ、従来のＴＥＧと比して検査を効果的に行うことができ、そのコストを低減することができる半導体応用装置の製造装置、製造方法、検査解析装置、及び検査解析方法を提供する。 - 特許庁

To provide a tomographic method and apparatus for a piping inspection, which implements an image reconstruction operation from imperfect projection data only in a very small angle range since it is difficult for a conventional CT to obtain required perfect data when an image of plant piping is captured in the field, visualizes a minute defect such as a thickness reduction within a specimen, and generates a high-quality tomographic image.例文帳に追加

現地プラント配管撮影のように、従来ＣＴで必要な完全データの取得が困難であり、非常に小さい角度範囲での不完全投影データのみから画像再構成演算を実施し、被検体内部の浅い減肉のような微小欠陥などを画像化できる高画質な断層画像を作成できる配管検査用断層撮影方法および装置を提供することにある。 - 特許庁

The apparatus for inspecting character blur is provided with a binary image generating means for generating a binary image by binarizing an inspection object image by a predetermined threshold, an independent region counting means for counting the number of independent regions in the binary image, and a judging means for judging that it is a character blur defect when the number exceeds a criterion number.例文帳に追加

検査対象画像を所定のしきい値で２値化し２値化画像を生成する２値化画像生成手段と、前記２値化画像における独立領域の個数を計数する独立領域計数手段と、前記個数が判定基準個数を超えているときに文字カスレ不良であると判定する良否判定手段とを具備するようにした文字カスレ検査装置。 - 特許庁

The defect inspection apparatus includes a probe image processing means for displaying the plurality of probes on a display means; a means for selecting a probe to be operated among the plurality of probes displayed on the display means; and a means for simultaneously displaying the means for selecting the probe the selected probe as being an operable probe and a probe in an unselected state.例文帳に追加

不良検査装置は、複数のプローブを前記表示手段に表示するプローブ画像処理手段を有し、前記表示手段に表示した前記複数のプローブの内、操作のなされるプローブを選択する手段を有し、該プローブを選択する手段、選択されたプローブが操作可能なプローブであることおよび非選択状態のプローブであることを同時に表示する手段を有する。 - 特許庁

This hologram product defect detection device is equipped with an imaging part 18 for irradiating inspection light h from the whole direction on the surface side excluding the normal direction to the surface of the hologram product 60, and acquiring image data by imaging light k emitted from the hologram product and proceeding along the normal direction, and a recognition part 38 for recognizing the hologram region based on reference image data.例文帳に追加

本発明のホログラム製品欠陥検出装置によれば、ホログラム製品６０の表面に対する法線方向を除く表面側全方向から検査光ｈを照射し、このホログラム製品から発せられ法線方向に沿って進む光ｋを撮像して画像データを取得する撮像部１８と、基準画像データに基づいてホログラム領域を認識する認識部３８とを備える。 - 特許庁