「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(38ページ目) - Weblio英語例文検索

In the surface defect data display management device 3, a risk level calculation part 33 calculates an influence degree of a defect upon yield of the final product on the basis of a defect size of the wafer detected by an appearance inspection device 12 and a review device 10 and a pattern density obtained from design data of a pattern figure corresponding to neighbors of the position of the defect.例文帳に追加

表面欠陥データ表示管理装置３において、危険率算出部３３は、外観検査装置１２やレビュー装置１０によって検出されたウェーハの欠陥サイズと、その欠陥の位置の近傍に対応するパターン図の設計データから得られるパターン密度とに基づき、その欠陥が最終製品の歩留まりに影響を及ぼす影響度を表面欠陥の危険率として算出する。 - 特許庁

To facilitate management of a manufacturing process by supplying inspection data capable of inspecting the electrical characteristics of a TFT formed on the same substrate and the formation defect of a contact hole provided on a transparent organic insulating film to an inspection apparatus.例文帳に追加

同一基板上に形成されたＴＦＴの電気的特性及び透明有機絶縁膜に設けられたコンタクトホールの形成不良を検査可能な検査データを検査装置に供給し、製造プロセスの管理を容易にすることを課題とする。 - 特許庁

The defect inspection method is thereby obtained which improves the inspection sensitivity to a short in the bottom part between wiring, and which detects even a short of a pattern in the bottom part between a plurality of wiring, which form a miniaturized pattern and are arranged in parallel.例文帳に追加

これにより、配線間の底部のショートに対する検査感度を向上させ、微細化されたパターンであり、平行に並んだ複数の配線間の底部におけるパターンショートであっても検出可能な欠陥検査方法を実現することができる。 - 特許庁

To provide an inspection device and an inspection method that precisely detect a shape defect part of an electrode pattern formed on a glass plate through a small number of times of measurement, and a method of manufacturing a panel for image display using the same.例文帳に追加

ガラス板上に形成された電極パターンの形状欠陥部を少ない測定回数で精度よく検出できる検査装置、検査方法およびこれらを用いた画像表示用パネルの製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

The outgas 28 generated by the application of the light 29 to the resist 7a is forcibly exhausted outside the sealed space 31 so as to prevent the deterioration of the inspection apparatus and allow the resist defect inspection in a mid-flow of a mask manufacturing step.例文帳に追加

これにより、レジスト７ａへの光２９の照射により発生するアウトガス２８を密閉空間３１外に強制的に排出させ検査装置の劣化を防ぐと共に、マスク製造途中工程でのレジスト欠陥検査を可能とする。 - 特許庁

To improve throughput, and to perform accurate inspection by capturing a highly accurate image, by imaging a substrate by an imaging device in the state where a substrate is held by a conveyance member conveying the substrate, when performing defect inspection of the substrate.例文帳に追加

基板の欠陥検査を行なうにあたり，基板を搬送する搬送部材に基板が保持された状態で撮像装置によって基板の撮像を行ない，スループットを向上させるとともに，高精度の画像を取り込んで正確な検査を行なう。 - 特許庁

To provide a means of carrying out the inspection of a fine defect at a high throughput and high reliability, and a manufacturing method of a device in which the yield of device manufacturing is improved by carrying out mask inspection by such a device.例文帳に追加

本発明は、細かい欠陥を高スループット、高信頼性で検査を行う手段を提供し、そのような装置でマスク検査を行う事によりデバイス製造の歩留りを向上させるデバイス製造方法を提供する事を目的とする。 - 特許庁

This device of the present invention is an improved pixel inspection device wherein a desired inspection pattern is displayed on the display equipment to be inspected, wherein light from the pixel of the display equipment is detected by a plurality of photoreceiving elements, and wherein the defect of the pixel of the display equipment is inspected.例文帳に追加

本発明は、被検査表示機器に所望の検査パターンを表示させ、表示機器の画素からの光を複数の受光素子で検出し、表示機器の画素の欠陥を検査する画素検査装置に改良を加えたものである。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a defect in a water purifying cartridge which can simultaneously carry out a leak inspection of a hollow fiber membrane module and an airtightness inspection of a case and a lid simply, highly accurately and in a short time, and can be easily applied to control of quality of the water purifying cartridge.例文帳に追加

簡便かつ高精度で、しかも短時間に、中空糸膜モジュールのリーク検査とケースと蓋部の気密性検査を同時にでき、浄水カートリッジの品質管理に容易に適用できる、浄水カートリッジの欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

Back light illumination 11 is put out and a liquid crystal cell substrate 8 is projected from above by coaxial vertical illumination 7, by which the image of the part coated with a sealing material is acquired when carrying out the defect inspection of the liquid cell substrate 8 before sticking of the polarizing plate with this cell inspection apparatus.例文帳に追加

偏光板貼付前の液晶セル基板８の欠陥検査を行う際、バックライト照明１１を消灯すると共に同軸落射照明７によって液晶セル基板８を上方から投射し、シール剤塗布部の画像を取得する。 - 特許庁

Performing defect inspection with the TFT substrate that is set in the temperature condition when it is actually operating in the array inspection in the array process allows defects, which are usually detected in and after the cell process, to be detected in the early stages of the array process.例文帳に追加

アレイ工程でのアレイ検査において、ＴＦＴ基板を実際に駆動したときの温度状態として欠陥検査を行うことによって、通常、セル工程以降で検出される欠陥をアレイ工程の早い段階で検出する。 - 特許庁

By combining the design intention information 6 and the hot spot information 7, an inspection place of high occurrence possibility of systematic defects with respect to the characteristic of the semiconductor integrated circuit, and the defect inspection time can be significantly shortened.例文帳に追加

これら設計意図情報６とホットスポット情報７を組み合わせることによって、半導体集積回路の特性に対して、システマティックな欠陥が発生可能性の高い検査場所を限定し、欠陥検査時間を大幅に短縮することができる。 - 特許庁

To overcome the problem in a circuit pattern inspection apparatus using an electrode contactlessly or capacitively coupled to the conductor pattern, wherein it is difficult to determine a defect since an obtained inspection signal value is small if a conductor pattern to be inspected is microfabricated.例文帳に追加

導体パターンに非接触で容量結合した電極を用いた回路パターン検査装置においては、検査対象の導電パターンの微細化が進むと共に、得られる検査信号値が小さくなり、欠陥の判定が難しくなっている。 - 特許庁

To provide an inspection device for a photomask capable of carrying out preferable performance evaluation and defect inspection of a large photomask while suppressing the increase in an installing area of the device, and capable of ensuring safeness and handling property for a large photomask.例文帳に追加

装置の設置面積の増大を抑えつつ、大型のフォトマスクの性能評価及び欠陥検査を良好に行うことができ、また、大型のフォトマスクに対する安全性やハンドリング性が確保されたフォトマスクの検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a flaw inspection method for a steel plate in which an excess inspection caused by the zigzag running of a shape defect on the steel plate can be prevented, in which an undetected range can be reduced as far as possible, and in which a flaw can be detected with satisfactory accuracy.例文帳に追加

鋼板の形状不良部の蛇行走行に起因する過検出を防止することができ、更には未検出範囲を極力少なくして精度よく疵の検出を行うことができる鋼板の疵検査方法を提供すること。 - 特許庁

An inspection device 1 gets a reference image obtained by picking up an image of a model having no defect prior to inspection, executes extension processing and reduction processing and stores obtained extended and reduced images in an image memory 3 built in the device 1.例文帳に追加

検査装置１は、検査に先立ち、欠陥のないモデルを撮像して得られた基準画像を取り込み、膨張処理および収縮処理を行い、得られた膨張画像および収縮画像を装置内の画像メモリ３内に保存する。 - 特許庁

To provide an inspection device capable of performing a defect inspection of a display panel not only for an image forming surface but also other areas, and capable of performing reduction in size and reduction in cost, and to provide a method therefor.例文帳に追加

表示パネルの欠陥検査を表示パネルの画像形成面等に限られることなく実施でき、かつ欠陥検出の精度を大きく向上させることができ、そのうえ、小型化および低コスト化が可能な検査装置および検査方法の提供。 - 特許庁

To provide a printed matter inspecting system and others which enable a retrieval of a defective spot on the basis of an inspection result by increasing no working burden even when a form of printed matter changes between the time of inspection and the time of repair of a defect.例文帳に追加

検査時と欠陥除去時との間で印刷物の形態が変化した場合であっても、作業負担を増大させることなく検査結果に基づいて欠陥箇所の探索を行うことを可能とする印刷物検査システム等を提供する。 - 特許庁

To provide a quality inspection device and a quality inspection method for detecting a failure, even when overlapping of a punched product is generated, or when a defect called as a removal residue or a scum residue is generated in the punched product.例文帳に追加

打ち抜き加工品の重なりが発生した場合や、打ち抜き加工品に除去残り或いはカス残りと呼ばれる欠陥が発生した場合でも、それらの不具合を検出することが可能な品質検査装置及び品質検査方法を提供する。 - 特許庁

A liquid cell post-assembly inspection method includes a step for inputting an inspection signal and a step for on/off-controlling a signal input to the gate driver 500 and on/off-controlling the gate scanning signal, to determine a defect location of the liquid crystal display panel.例文帳に追加

液晶セル組立後検査方法は、検査信号を入力するステップと、ゲート駆動器５００に入力される信号のオン/オフを制御して、ゲート走査信号のオン/オフを制御して液晶表示パネルの不良位置を確定するステップとを備える。 - 特許庁

It is thereby possible to improve inspection sensitivity to short-circuits of a bottom part between wirings and provide the defect inspection method detect even short-circuits of patterns, miniaturized patterns, at a bottom part between a plurality of wirings arranged in parallel.例文帳に追加

これにより、配線間の底部のショートに対する検査感度を向上させ、微細化されたパターンであり、平行に並んだ複数の配線間の底部におけるパターンショートであっても検出可能な欠陥検査方法を実現することができる。 - 特許庁

To defect-inspect a flat display panel, using a line sensor of high resolution to verify a degree of the defect in detail and precisely, and to efficiently conduct measurement to shorten the inspection time.例文帳に追加

平面表示パネルを高分解能のラインセンサを用いて欠陥検査し、欠陥の程度を詳細かつ精度よく検証することができ、効率よく測定を行うことにより、検査時間を短縮する平面表示パネルの欠陥検査装置および方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an inspection device capable of obtaining a focused and clear enlarged image of a surface of a metal mold for anti-glare treatment having surface unevenness, and thereby capable of detecting a defect and determining whether the metal mold is a defect or not, with high accuracy.例文帳に追加

表面凹凸を有する防眩処理用金型の表面について焦点の合った鮮明な拡大画像を取得することができ、もって、欠陥の検出および欠陥か否かの判別を精度良く行なうことができる検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a system for defect classification capable of shortening the work time of the visual examination of a product determined to be defective by an automatic inspection machine in a manufacturing process of a color filter or the like and capable of efficiently performing the input work of defect classification data.例文帳に追加

カラーフィルタ等の製造工程において、自動検査機で不良と判定された製品についての目視検査の作業時間を短縮するとともに、不良区分情報の入力作業を効率良く行うことができる不良分類システムを提供する。 - 特許庁

Also, a high speed defect inspection can be performed by configuring the system of these image processing parts with a task control part for performing the partition of an image and the task generation so as to perform the defect determination process in parallel or sequentially in accordance to the task.例文帳に追加

また、これらの画像処理部のシステム構成を、画像の分割，タスクの生成を行うタスク管理部とからなり、タスクに応じて並列もしくは時系列に欠陥判定処理を行う構成とすることにより，高速な欠陥検査を行えるようにした。 - 特許庁

To provide an abnormality inspection method in a computer device for detecting a defect inherent in the computer device without being actualized by more exactly monitoring variations in starting time to determine a defect of a hardware and its sign, and the computer device using the method.例文帳に追加

コンピュータ装置に顕在化することなく内在する障害を、起動時間のバラツキをより正確に監視することで検出し、ハードウェアの障害やその予兆を判断するためのコンピュータ装置の異常検査方法及びそれを用いたコンピュータ装置を提供する。 - 特許庁

Wafer transfer images estimated by the wafer transfer simulator 400 are sent to a comparing circuit 301 and, when it is determined that there is a defect, the coordinate and the wafer transfer image as a basis for the defect determination are stored as transfer image inspection results 206.例文帳に追加

ウェハ転写シミュレータ４００で推定されたウェハ転写像は比較回路３０１に送られ、比較回路３０１で欠陥と判定されると、その座標と、欠陥判定の根拠となったウェハ転写像とが、転写像検査結果２０６として保存される。 - 特許庁

To surely mark a defect position so as to encircle a defect of pressing flaw, scratch, etc., generated in rolling and to easily identify presence/absence and the defective positions of a steel plate in visual inspection.例文帳に追加

圧延時に生じた押し疵や擦り疵等の欠陥を囲むように欠陥位置を示すマーキングを鋼板表面に確実に施すことができ、この結果、客先での鋼板の目視検査時において、鋼板に存在する欠陥の有無および位置を容易に認識することができる。 - 特許庁

At the time of inspection a pixel brighter than a corresponding pixel on the extended image and a pixel darker than a corresponding pixel on the reduced image about the image to be inspected are extracted and the existence of a defect is discriminated from a defect extraction image obtained by integrating the extracted results.例文帳に追加

検査時には、検査対象画像について、膨張画像上の対応画素よりも明るい画素と収縮画像上の対応画素よりも暗い画素とを抽出し、その抽出結果を統合した欠陥抽出画像から欠陥の有無を判別する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a substrate, which can reduce the number of pseudo-defects that are erroneously detected and detect a real defect that should normally be detected without deteriorating a defect detection sensitivity, and a method for creating a filter image for the substrate inspection.例文帳に追加

誤って検出される擬似欠陥の数を低減できるとともに、欠陥の検出感度を落とすことなく、本来検出されるべき真の欠陥を検出できる基板検査方法及びその基板検査用のフィルタ画像の画像作成方法を提供する。 - 特許庁

In the defect inspection method for a display device, a defect is detected on the basis of lightness differences D1, D2 in an image domain of a display panel on the occasion of application of an intermediate voltage B between a first voltage A for making the transmittance approximately maximum and a second voltage C for making the transmittance approximately minimum.例文帳に追加

透過率を略最大とする第１電圧Ａと透過率を略最小とする第２電圧Ｃとの間の中間電圧Ｂを表示パネルに印加した際の表示パネルの画像領域における明度差Ｄ１，Ｄ２に基づいて、欠陥を検出する。 - 特許庁

To provide an oscilloscope for automobile inspection which can accurately measure an object to be inspected without depending upon the ability of an operator and easily specify an electric component where a defect is generated or electric component having a defect always in a short time.例文帳に追加

作業者の能力に依存することなく検査対象の的確な測定が可能で不良が発生した電気部品、或いは欠陥を持った電気部品が常に短時間で容易に特定できるようにした自動車検査用オシロスコープを提供すること。 - 特許庁

The control part 401 discriminates a scanning finished domain from a scanning unfinished domain, based on the defect inspection result data, displays the result on a monitor 402, discriminates a defect detection position in the scanning finished domain, and displays the result on the monitor.例文帳に追加

制御部４０１は、欠陥検査結果データに基づいて、走査終了領域及び走査未終了領域を識別して、モニタ４０２上に表示させるとともに、走査終了領域中の欠陥検出位置を識別して、モニタ上に表示させる。 - 特許庁

To provide a printed board inspection device constituted to make a defect appear clearly on a photographed image, as to the defect with a length direction thereof near to a moving direction of a printed board in the same direction, out of the defects such as flaws existing on a surface of the printed board.例文帳に追加

プリント基板の表面に存在する傷など欠陥のうち、その欠陥の長さ方向がプリント基板の移動方向と同一方向に近似するものについて、その欠陥が撮影画像上に明確に表れるようにしたプリント基板検査装置の提供 - 特許庁

To provide an inspecting device and an inspecting method that remove a fine defect desirous of being ignored which originates from an OPC pattern of a scattering bar etc., in defect inspection of a mask with a pattern, and a manufacturing method for a pattern substrate using the inspecting device and inspecting method.例文帳に追加

パターン付きマスクの欠陥検査において、スキャッタリングバーなどのＯＰＣパターンに由来する微小な無視したい欠陥を除去する検査装置及び検査方法とその検査装置及び検査方法を用いたパターン基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a painting defect inspection method, capable of determining accurately and easily existence of a painting defect, when irradiating with light, a base material having an irregular surface, on which a paint film is formed on the irregular surface, and when detecting reflected light from the paint film, to thereby detect a painting defect based on intensity of the reflected light.例文帳に追加

凹凸面を有しこの凹凸面に塗膜が形成された基材に対して光を照射すると共に前記塗膜からの反射光を検出し、この反射光の強度に基づいて塗装不良を検出するにあたり、塗装不良の有無を正確且つ容易に判定することができる塗装不良検査方法を提供する。 - 特許庁

Then the scattered light P2a of the inspection light 7a (8a) at the position of the interior defect P2 is visually recognized in a condition recognizing a position of the inner surface 2a by the reflection light 10a1.例文帳に追加

そして、反射光１０ａ１により内表面２ａの位置を認識した状態で、内部欠陥Ｐ２の箇所での検査光７ａ（８ａ）の散乱光Ｐ２ａを視認する。 - 特許庁

To discover properly an irregular defect or the like formed on the surface of an inspection object having roughness in the degree of visible light, and to apply the result properly onto a manufacture line of a steel plate.例文帳に追加

可視光程度の粗度を有する被検査体の表面に生じた凹凸欠陥等を適切に発見することができ、鋼板の製造ライン上において好適に適用すること。 - 特許庁

For defect inspection or the like of a pixel, on the other hand, constitution which keeps the capacity signal output to the capacity line at a fixed level is formed on a substrate at the same time with a pixel circuit etc.例文帳に追加

一方で、画素の欠陥検査などにおいては、容量ラインに出力する容量信号を固定レベルとする構成を画素回路などと同時に基板上に形成しておく。 - 特許庁

To obtain an unevenness defect detection method for enhancing unevenness constituents only and detecting unevenness more reliably, to provide a device for detecting unevenness defects automatically, and to provide an inspection system, or the like.例文帳に追加

ムラ成分だけを強調でき、より確実なムラ検出を行うことができるようなムラ欠陥検出方法、自動的にムラ欠陥検出を行うための装置、検査システム等を得る。 - 特許庁

To constitute an inspection light irradiation device for a painted surface for suitably detecting a defect without being influenced by bending of the painted surface, even if the painted surface is bent.例文帳に追加

塗装面の検査光照射装置において、塗装面が湾曲していても、塗装面の湾曲の影響を受けることなく、欠陥を適切に検出することができるように構成する。 - 特許庁

To provide an eddy current examination method and an eddy current examination sensor capable of improving detection accuracy relative to a defect having a possibility of existing on the inspection surface of a work.例文帳に追加

ワークの被検査面に存在し得る欠陥に対する検出精度を向上させることができる渦流探傷方法、渦流探傷センサを提供することを課題とするにある。 - 特許庁

Coating/developing equipment 1 provided with a development processing unit for subjecting development processing to a wafer W is provided with an inspection device 48 for detecting a defect generated in the wafer W.例文帳に追加

ウエハＷに対して現像処理を施す現像処理ユニットを具備した塗布現像処理装置１に，ウエハＷに生じた欠陥を検出する検査装置４８を備える。 - 特許庁

By making the characteristic of the color filter 83 consistent with the optical system of the actual device, inspection of the defect of the panel conforming with the actual device is carried out with the picture on the screen 85.例文帳に追加

カラーフィルタ８３の特性を実機の光学系に一致させることによって、スクリーン８５上の画像によって実機に即したパネル欠陥検査を実施することができる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for inspecting a shape defect of patterned media, enabling inspection of the whole area throughout the total number of patterned media manufactured in the order of one sheet per a few seconds.例文帳に追加

数秒／枚程度で生産されるパターンドメディアを全面を全数に亘って検査することを可能にするパターンドメディアの形状欠陥検査方法及びその装置を提供する。 - 特許庁