「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

In the inspection method, when a defect where the measured width is larger than the size of a pixel is not detected, the blightness level of the circuit pattern or the spatial component is analyzed, more in detail, to detect a defect corresponding to an open circuit, a short circuit or a remaining copper foil.例文帳に追加

本発明の検査方法は、画素単位で映像データを獲得し、回路パターン又は空間成分の幅を測定する方向と垂直方向に測定して、測定された幅が基準幅より大きな場合の不良であると、ショートと検出する。 - 特許庁

To provide a foreign matter inspecting method and a foreign matter inspection device, for a wafer peripheral edge, which can accurately and quantitatively detect at which part of a wafer a defect is present and how large the defect is, and how large the foreign matter is and on which part the foreign matter sticks.例文帳に追加

ウェハのどの部分にどの程度の大きさの欠陥があるのか、又どの程度の異物がどの部分に付着しているのかを、正確、かつ定量的に検出可能なウェハ周縁端異物検査方法、及び異物検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask, manufacturing method of photomask and manufacturing method of semiconductor device which can improve a resist shape on a wafer after a photomask pattern exposure, and obtain sufficient defect detection sensitivity in the defect inspection of the photomask.例文帳に追加

フォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスクの欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a defect inspection according to the magnetic powder flaw detection method for applying ultraviolet rays to a test piece 1 and emitting fluorescence by a crack defect 2a, the image of the surface of the test piece 1 is picked up by a color television camera 3 via an ultraviolet ray cut filter 5.例文帳に追加

ここでは、試験体１に紫外線を照明し、割れ欠陥２ａで蛍光を発光させる磁粉探傷法による欠陥検査であるが、かかる試験体１の表面を、紫外線カットフィルタ５を介して、カラーテレビカメラ３で撮像する。 - 特許庁

The connecting conductive film 27 is formed of a material (e.g. ITO) of which the corrosion resistance upon the defect inspection of the display part 11 is higher than that of the detecting electrode 26.例文帳に追加

接続用導電膜２７は、表示部１１の欠陥検査時における耐腐食性が検査用電極２６よりも高い材料（例えばＩＴＯ）で形成される。 - 特許庁

To provide a technology that improves a substantial sensitivity by suppressing a misreport, while keeping the entire defect capture rate at a high rate in an appearance inspection.例文帳に追加

外観検査において、全体の欠陥捕捉率を高く維持しながら虚報を抑制することにより実質感度を向上する技術を提供することにある。 - 特許庁

To easily specify a defect type siding with samples such as patterned media for a hard disk on which a fine convex-concave pattern is formed, without increasing its inspection period of time.例文帳に追加

検査時間を増大させることなく、微細凹凸パターンが形成された、ハードディスク用のパターンドメディアなどの試料よりの欠陥種類の特定を容易に行うようにする。 - 特許庁

To easily determine a defect inspection condition that raises the average detection ratio or DOI detection ratio and can suppress the noise detection ratio.例文帳に追加

平均検出率を向上させ、又はＤＯＩ検出率を高める一方でノイズ検出率を抑制することが出来る欠陥検査条件を容易に決定する。 - 特許庁

To provide a method of inspecting defects and a defect inspection system, capable of updating a conforming article range of light and shade values at all times for optimization by relatively simple processing.例文帳に追加

比較的簡単な処理で、濃淡値の良品範囲を随時更新して最適化することができる欠陥検査方法および欠陥検査システムを提供する。 - 特許庁

To provide an omnidirectional flaw detection probe capable of executing flaw detection inspection of a defect in a wide area of a specimen, in a short time, by the single probe.例文帳に追加

本発明の目的は、単一のプローブで、被検体の広い領域における欠陥の探傷検査を短時間で実施することができる探傷プローブを提供することである。 - 特許庁

To provide a visual inspection method of a transparent sheet for reducing a frequency at which a defect is overlooked even if the transparent sheet is not inspected on front and back surfaces.例文帳に追加

透明シートを表裏反転させて検査しなくても、欠陥を見逃してしまう頻度を低下することができる透明シートの目視検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a light source for surface inspection easy to find the defect of an inspecting surface, having a sufficient illumination area despite the size held with the hand of an inspector.例文帳に追加

検査面の欠陥を見つけ易く、かつ、検査者が手で持つことのできる大きさでありながらも十分な照射面積を有する表面検査用光源を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light emitting device in which satisfactory image display can be performed by the inspection and repair of short circuits in defect portions of light emitting elements.例文帳に追加

発光素子の欠陥部におけるショートを検査して修理することにより、良質な画像表示を行うことができる発光装置の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection device that facilitates narrowing down of a defect part of an organic EL element from a wide range up to a high magnification.例文帳に追加

本発明は、有機ＥＬ素子の欠陥部について広範囲から高倍率までの絞込みを容易に行うことが可能な検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a display apparatus equipped with an inspection section capable of preventing the occurrence of a defect in reliability test and the degradation in production yield.例文帳に追加

信頼性試験における不良の発生及び製造歩留まりの低下を防止することが可能な検査部を備えた表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a marking device not required to remove after inspection a marking marked for the surface defect of a steel sheet by manual work or a separate removing device.例文帳に追加

鋼板の表面欠陥に施したマーキングを検査後に手作業で除去したり、個別の除去装置で除去したりする必要のないマーキング装置を提供する。 - 特許庁

The defect D such as reduction of the thickness of the inspection object 101 is inspected by comparing arrival times of the surface wave received by the receiving element 4 at respective scanning positions.例文帳に追加

そして、受信子４による受信波の到達時間を各走査位置で比較することにより検査対象部１０１の減肉等の欠陥Ｄを検査する。 - 特許庁

To provide a visual inspection device equipped with an image processing device capable of performing defect detection processing highly accurately, even when the image width of an input image is changed.例文帳に追加

入力画像の画像幅が変化しても、高い精度にて欠陥検出処理を行うことができる画像処理装置を備えた外観検査装置を提供する。 - 特許庁

The size of an image or the number of pixels in re-detection is changed in accordance with the accuracy distribution of defect position information in an external inspection device without changing resolution.例文帳に追加

解像度を変更することなく、外部の記検査装置における前記欠陥位置情報の精度分布に応じて再検出の際の画像サイズまたは画素数を変更する。 - 特許庁

In defect detection of conductor patterns 20, 21, there is a case that defects cannot be detected by a comparative inspection, using a periodic pitch, in each outermost pattern 22, 23, 26, and 27.例文帳に追加

導体パターン２０，２１の欠陥検出において、最外部パターン２２，２３，２６，２７での周期ピッチを用いた比較検査では、欠陥を検出できない場合がある。 - 特許庁

To inspect floating defect of a component electrode by using a color image produced by a color highlight-type optical system similar to that used in inspection of soldering.例文帳に追加

はんだ検査に使用されるのと同様のカラーハイライト方式の光学系により生成されたカラー画像を用いて、部品電極の浮き不良を検査できるようにする。 - 特許庁

By irradiating an inspection surface A with each irradiation light LA1, LB1 from mutually different directions, each position on the domain showing a defect in each image is deviated slightly.例文帳に追加

照射光ＬＡ１，ＬＢ１が互いに異なる方向から被検査面Ａを照射することにより、各画像において欠陥を示す領域の位置がわずかにずれる。 - 特許庁

A plurality of pieces of grouping information can be registered to a plurality of inspection data in one defect, and the grouping information of defects as an analyzing object can be selected arbitrarily.例文帳に追加

ひとつの欠陥に複数の検査データに対する複数の分類情報を登録可能とし、解析対象である欠陥の分類情報を任意に選択可能とした。 - 特許庁

To provide a pattern drawing device which is capable of early finding out a defect having a high urgency level on a mask and of shortening the inspection time of the mask.例文帳に追加

マスク上の緊急性の高い欠陥を早期に発見することができるとともに、マスクの検査時間を短縮することができるパターン描画装置を提供する。 - 特許庁

The defect inspection device is mainly formed of only the light condensing lens 13 and the CCD sensor 25 as major components, and thus the device can be reduced in size and in cost.例文帳に追加

また、集光レンズ１３およびＣＣＤセンサー２５のみを主要構成として欠陥検査装置を構成できるため、欠陥検査装置を小型化、低コスト化できる。 - 特許庁

To provide a steel plate surface inspection apparatus and device each of which is capable of surely detecting a minute defect occurring on a steel plate immediately after casting.例文帳に追加

鋳造直後の鋼板に発生する微細な欠陥を確実に検出することができる、鋼板表面検査方法および装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide an inspection device and method capable of inspecting an optical film by simple constitution, and capable of detecting easily a defect automatically.例文帳に追加

光学フィルムの検査を簡単な構成で行うことが可能であり、欠陥の自動検出も容易に行うことが可能な検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern layout method for a photo-mask for pattern transfer by which a mask defect inspection is easily done with enhancement of resolving power contriving by providing auxiliary patterns.例文帳に追加

補助パターンを設けることによって解像力の向上を図りつつ、マスク欠陥検査が容易に行なえるパターン転写用フォトマスクのパターンレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface defect inspection device for a band like body using a time delay integration type video camera capable of carrying out image pickup by an optional angle.例文帳に追加

時間遅延積分型ビデオカメラを用いた表面欠陥検査装置であって、任意の角度で撮像することができる帯状体の表面欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

The image of the resist pattern is picked up only with the light of a visible wavelength area from an exposed metal part by a CCD camera 4, the image of high contrast is provided, and a defect inspection is performed.例文帳に追加

金属露出部分からの可視波長域の光のみによりレジストパターン像をＣＣＤカメラ４により撮像し、高いコントラストの画像を得て欠陥検査を行う。 - 特許庁

To accurately execute inspection of a defect where a part that should be a conductive part becomes an insulation part to a substrate formed with a circuit pattern including an insulation part and a conductive part.例文帳に追加

絶縁部及び導電部を含む回路パターンが形成された基板に対して、導電部であるべき部位が絶縁部となっている欠陥の検査を高精度に行うこと。 - 特許庁

The defect inspection apparatus for metal materials thereby inspects defects which occur in the surface and inside of the metal material 1 as continuously feeding the metal material 1.例文帳に追加

これにより、金属材料の欠陥検査装置は、金属材料１を連続的に送りながら、金属材料１の表面や内部に生じる欠陥を検査することができる。 - 特許庁

To provide a periodic defect inspection method and device for a strip-shaped material, which appropriately determines the degree of harmfulness of periodic defects occurring in the strip-shaped material.例文帳に追加

帯状材料に発生する周期性欠陥の有害度を適正に判定することができる帯状材料の周期性欠陥検査方法および装置を提供する。 - 特許庁

Depending on a detected position state at inspection, the position coordinates of a detected defect or contamination is corrected based on the central coordinates of the workpiece.例文帳に追加

そして、検出された被検査時の位置状態に応じて、検出された異物や欠陥の位置座標を、被検査物の中心座標を基に補正するように構成した。 - 特許庁

To provide an inspection method for normally fetching an instruction which is recorded in a rewritable non-volatile memory, and for inspecting before delivery a defect that the instruction is not performed.例文帳に追加

書き換え可能な不揮発性メモリに記録された命令を、正常に命令フェッチし実行できない不具合を、出荷前に検査する検査方法を提供する。 - 特許庁

Improvement in the accuracy of the defect inspection can be attained, because the signal can be detected by irradiating the laser light 5a at each irradiation position, while controlling the effect of the ambient temperature.例文帳に追加

各照射位置に周囲温度の影響を抑えてレーザ光５ａを照射して信号を検出することができ、欠陥検査の精度向上が図られる。 - 特許庁

To enable brazing defect inspection in a tube for a heat exchanger equipped with a tubular member, and an inner fin having a thickness of the same or more as the tubular member.例文帳に追加

筒状部材と、筒状部材と同等以上の板厚を有するインナーフィンとを備える熱交換器用チューブにおいて、ろう付け不良検査を可能とする。 - 特許庁

Defect candidate data, which is image data of an object to be inspected, development data, which is image data of master data, and inspection area data are inputted to a mismatch counting circuit 132.例文帳に追加

不一致計数回路１３２には，検査対象の画像データである欠陥候補データと，マスターデータの画像データである展開データと，検査領域データとが入力される。 - 特許庁

To provide an electron beam inspection method and device quick in identification without contamination and static charge, and with high accuracy in identification of a substance with structural defect.例文帳に追加

同定の時間が早く、コンタミネーションおよび帯電が無いと共に、構造欠陥の物質を同定する精度の高い電子ビーム検査方法および装置を実現する。 - 特許庁

A differential interference microscope 3 and a CCD camera 4 of the surface defect inspection apparatus 1 image the surface of an information recording medium to be inspected M for acquiring differential interference images.例文帳に追加

表面欠陥検査装置１の微分干渉顕微鏡３とＣＣＤカメラ４で検査対象物Ｍの情報記録媒体表面の微分干渉画像を撮像する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor-device analytical system for investigating an influence of a semiconductor device on the generation of a defect without being collated with an inspection result of an actual semiconductor device.例文帳に追加

実際のデバイスの検査結果と照合させることなく、不良発生に対する半導体デバイスの影響を調べることが可能な半導体デバイス解析システムを得る。 - 特許庁

To provide a machine for inspecting a glass container, capable of performing a pair of different inspections for inspecting a defect in a bottom part of a bottle in a single inspection station.例文帳に追加

単一の検査ステーションにおいてボトルの底部内の欠陥を検査する一対の異なる検査を行うことができるガラス容器を検査するための機械の提供。 - 特許庁

To make reduction in time for photographing images and high image quality photographing compatible in a scanning electron microscope for measurement, inspection, and defect review or the like of semiconductor wafers.例文帳に追加

半導体ウェーハの測定、検査、欠陥レビュー用などの走査電子顕微鏡において、画像を撮像する時間の短縮と高画質撮像の両立を実現する。 - 特許庁

A light shielding plate 18 is installed so as to shut off part of an optical path 12 of the argon laser beam past the collector lens 16, by which the phase difference defect inspection device described above is obtained.例文帳に追加

このコレクターレンズ１６を通過したアルゴンレーザー光の光路１２の一部を遮断するように遮光板１８を設置し、本発明の位相差欠陥検査装置を得る。 - 特許庁

A recipe setting GUI for presetting a parameter required for determining the pattern region and the defect inspection method and sensitivity corresponding to each pattern region are provided.例文帳に追加

また、上記パターン領域の判定に必要なパラメータやパターン領域毎に対応する欠陥検査方式及び感度を予め設定するレシピ設定ＧＵＩを設ける。 - 特許庁