「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

A secondary candidate extraction part 12 binarizes the gradation image by a second threshold value set to separate wood grains and defects in a focused inspection target region, and extracts a secondary defect candidate region.例文帳に追加

二次候補抽出部１２は、着目する検査対象領域について木目と欠陥とを分離するように設定した第２のしきい値により濃淡画像を２値化し、二次欠陥候補領域を抽出する。 - 特許庁

In order to properly extract defect information from an inspection apparatus, a filtering function and a sampling function are prepared as a unit, and the defects as objects to be observed are narrowed down and extracted automatically by combining them.例文帳に追加

検査装置からの欠陥情報を適正に抽出するために、フィルタおよびサンプリング機能をユニット化して用意しておき、これらの組合せによって観察対象欠陥の絞込み抽出を自動的に行う。 - 特許庁

To obtain an apparatus and a method, for the inspection of a pattern, in which even abnormality of size can be recognized, irrespective of the problem of the number of measuring elements and in which the defect of a graphic to be inspected can be detected with high accuracy.例文帳に追加

計測子の数の問題と無関係に，かつ，寸法の異常についても認識でき，高精度に被検図形の欠陥を検出できるパターン検査装置およびパターン検査方法を提供すること。 - 特許庁

To realize a defect inspecting apparatus which eliminates the need for resetting of two or more different thresholds, conducts a stable inspection, improves detection precision of defective strength and enables defective strength values to be compared with one another.例文帳に追加

異なる複数の閾値の再設定の必要がなく、安定した検査ができると共に欠陥強度の検出精度を向上させ、欠陥同士の強度の比較を可能とする欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

To provide a color filter which brings about no light leakage or the like, when it is installed in a liquid crystal display, in which pseudo-defects are less likely to be detected in the defect inspection of the color filter, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、液晶表示装置とした際に光漏れ等がなく、またカラーフィルタの欠陥検査の際に擬似欠陥が検出されることが少ないカラーフィルタ、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the case where a defect is discovered by inspection or the like, the donor substrate 40 used for formation of a luminescent layer can be easily identified, and early discovery of a repeating failure caused by the donor substrate 40 and countermeasures against it are enabled.例文帳に追加

検査で欠陥を発見した場合などに、発光層の形成に使用したドナー基板４０を容易に特定することができ、ドナー基板４０に起因するリピーティング不良の早期発見および対策を可能とする。 - 特許庁

To provide a method of detecting a circumferential scratch defect, capable of efficiently detecting a circle scratch by an electric characteristic inspection without deteriorating yield in disk manufacturing, and to provide a magnetic disk certifier.例文帳に追加

ディスク生産の歩留を悪化させることなく、電気的な特性検査でサークルスクラッチを効率よく検出ができる円周方向のスクラッチ欠陥検出方法および磁気ディスクサーテファイアを提供することにある。 - 特許庁

To provide a technique capable of accurately evaluating a defect size in a piping inspection using a guide wave, by correcting a change of signal reception sensitivity for every installation of a sensor without installing a new reference reflection member.例文帳に追加

ガイド波を用いた配管検査において、新たな基準反射部材を設置せずに、センサの設置毎の受信感度変化を校正し、欠陥サイズを高精度に評価可能とする技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device which can perform stable detecting operation by reducing the influence of noise when detecting a defect that a repetitive pattern has without giving an ideal pattern in advance.例文帳に追加

あらかじめ理想パターンを与えることなく、繰り返しパターンに存在する欠陥を検出するにあたって、ノイズの影響を低減させて安定した検出動作を行うことが可能なパターン検査装置を提供する。 - 特許庁

In the case, for example, where it is detected by this inspection that a light emitting element Gp of the light emitting element array Lb has the pixel defect, light emission of the light emitting element array Lb is stopped, and the light emitting element array La is made to emit light.例文帳に追加

この検査によって、例えば発光素子列Ｌｂの発光素子Ｇｐに画素欠陥があることが検出された場合には、発光素子列Ｌｂの発光を停止し、発光素子列Ｌａを発光させる。 - 特許庁

A wafer data area 109 which stores information specifying a wafer and a manufacturing process is provided so that the defect information can be retrieved by only using the review data by similarly handling information on an inspection step and the information on a reviewing step.例文帳に追加

ウェハと製造工程を特定する情報を記憶するウェハデータ領域１０９を設け、検査工程とレビュー工程の情報を同様に扱うことでレビューデータのみで欠陥情報の検索を可能とする。 - 特許庁

To provide a proximity effect correction method for decreasing the number of times of proximity effect correction which induces defects in judging the accuracy of proximity effect correction and thereby, for decreasing works in conventional defect judgment inspection.例文帳に追加

近接効果補正の精度判定において、欠陥となる近接効果補正の回数を低減し、これにより従来の欠陥判定検査における作業を軽減することができる近接効果補正方法を提供する。 - 特許庁

By forming a lens from which an interference part is removed, aperture size of the lens can be made larger than 10b, and defect inspection capability and the lens performance are improved simultaneously while the low elevation angle α2 is kept.例文帳に追加

干渉部分を削除したレンズの創作により低仰角α２を保持してレンズの開口寸法を１０ｂより大とすることができ欠陥検出能力の向上とレンズ性能の向上が同時に成立する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its inspection method for inspecting a large scale semiconductor device in a short time, and detecting any defect in a semiconductor device and/or bad wiring with high sensitivity.例文帳に追加

規模の大きな半導体装置を短時間で検査でき、かつ、半導体装置における欠陥及び／又は不良配線を高感度で検出することができる半導体装置及びその検査方法を提供する。 - 特許庁

This defect inspection device of the optical system is equipped with a light-receiving device 5 arranged on a screen 4 for receiving projected light via the hologram color filter 1, and an image-processing device 8 connected to the light-receiving device 5.例文帳に追加

光学システムの欠陥検査装置は、スクリーン４上に配置されホログラムカラーフィルタ１を経た投影光を受光する受光装置５と、受光装置５に接続された画像処理装置８とを備えている。 - 特許庁

A second inspection light 7a (8a) incident inside a face part 2 from a side of the face part 2 becomes scattered light P2a having irregular reflection at a part of an interior defect P2 when there is one P2 inside the face part 2.例文帳に追加

フェース部２の側方からフェース部２の内部に入射した第２検査光７ａ（８ａ）は、フェース部２の内部に欠陥Ｐ２があると、この内部欠陥Ｐ２の箇所で乱反射を起こして散乱光Ｐ２ａとなる。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit capable of detecting a mounting defect without deteriorating input/output characteristics of an input/output terminal, and an inspection method capable of specifying a defective terminal.例文帳に追加

入出力端子の入出力特性を劣化させることなく実装不良の検出を行うことを可能とする半導体集積回路、および、その不良端子の特定を可能とする検査方法を提供する。 - 特許庁

To inspect an element over the entire area without excluding its external frame part and separation part from the inspection area even if the circuit pattern of an IC is present in the background of a defect such as foreign matter.例文帳に追加

異物などの欠陥の背景にＩＣの回路パターンがあっても、エレメントの外枠部や分離部を検査領域から除外せずに全域にわたって検査できる外観検査方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a visual inspection device and its visual inspection method of an aluminium extruded profile which determines easily and objectively whether an inspected aluminium extruded profile is a quality product or a defective product, by inspecting the aluminium extruded profile on whether a visual defect such as a streak is generated on the aluminium extruded profile.例文帳に追加

アルミニウム押出形材にストリーク等の外観欠陥が発生していないかどうかについてアルミニウム押出形材を検査し、検査したアルミニウム押出形材が良品か不良品かを容易にかつ客観的に判定することができるアルミニウム押出形材の外観検査装置及びその外観検査方法を提供する。 - 特許庁

An electronic microscope 5, for observing defects detected by an optical defect inspection apparatus or an optical visual inspection apparatus, is configured in such a manner that an optical microscope 14 for redetecting defects is mounted thereupon and that a distribution polarization element and a spatial filter are inserted in its pupil surface, when the optical microscope 14 is used to observe dark field.例文帳に追加

光学式欠陥検査装置または光学式外観検査装置で検出した欠陥を観察する電子顕微鏡5において、欠陥を再検出する光学顕微鏡14を搭載し、この光学顕微鏡14で暗視野観察する際に瞳面に分布偏光素子及び空間フィルタを挿入する構成とする。 - 特許庁

The defect inspection apparatus is provided with various optical functions according to the type (shapes, materials, close patterns, etc.) of defects to be inspected, accumulates the difference in shade between defects desired to be detected and pseudo-defects desired to be not detected for each optical function, and efficiently selects conditions advantageous for highly sensitive and low-pseudo-rate inspection.例文帳に追加

検査対象となる欠陥種(形状,材料,近接するパターンなど)に対応して、多様な光学機能を備えており、各光学機能別に検出したい欠陥及び検出したくない擬似欠陥の濃淡差などを蓄積し、高感度、低擬似率検査に有利な条件を効率的に選択する。 - 特許庁

To provide: an inspection method capable of specifying the portion where junction leak defect is occurred, by irradiating a semiconductor device with an electron beam at a predetermined interval a plurality of times, and optimizing conditions of junction forming process by carrying out the inspection using wafer under a semiconductor manufacturing process; a device; and the method of manufacturing the semiconductor.例文帳に追加

半導体装置に電子線を所定の間隔で複数回照射して、接合リーク不良発生箇所を特定でき、半導体製造工程途中のウエハで本検査を実行することにより接合形成プロセス条件の最適化を行うことができる検査方法及び装置、半導体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester film allowing a worker to detect a defect, foreign matter or the like with high precision in a visual inspection by a crossed Nicol method which is one of inspection methods for polarizing plate and favorably usable as a mold releasing film hardly scratched in a manufacturing process for the mold releasing film and a process by use of the mold releasing film.例文帳に追加

偏光板の検査方法の一つであるクロスニコル法による目視検査において、欠点や異物等の検出を高精度で実施することができ、離型フィルムの製造工程内や離型フィルムが使用される工程内でキズの入りにくい離型フィルム用として好適なポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a stick bar defect inspection device, capable of stably executing inspection over long times, even if object stick bars are inputted continuously at a high speed, and inspecting accurately defective parts comprising fine split, chip, irregularities, crack, breakage, dirt, non-standard width size, or the like of the object stick bar.例文帳に追加

対象スティックバーが連続して高速に送り込まれた場合でも、長時間安定して検査が行うことができ、しかも対象スティックバーにおけるささくれ、欠け、凹凸、ひび、割れ、汚れ、幅寸法規格外等からなる不良部分を正確に検査することができるスティックバー不良検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a transparent resin sheet that is executable on a continuous production line and is based on a simple and low-cost device, and a transparent resin sheet of excellent quality by means of the inspection method capable of sufficiently detecting a defect even upon execution on a continuous production line.例文帳に追加

連続生産ライン上で実施でき、且つ簡便で、安価な装置による透明樹脂シートの検査方法および連続生産ライン上で実施しても十分に欠点が検出される検査方法により、品質に優れた透明樹脂シートを得ることができる透明樹脂シートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspection/analysis system which can use an infrared imaging device or both it and a laser imaging device to automatically measure the float or both the floats and cracks of wall surface in a single process and then automatically analyze the pick-up image to extract/determine a defect, in failure check of wall surface for tunnels, etc. by using an inspection vehicle.例文帳に追加

計測車によるトンネル等の壁面の不具合計測において、赤外線撮像装置或は該撮像装置とレーザ撮像装置の両方を使用して壁面の浮き或は浮きとひび割れの両方を１工程で自動計測し、撮像画像を自動解析して不具合を抽出・判定できるシステムを提供する。 - 特許庁

To provide an optical member inspection method for inspecting quality of an optical member such as a lens in an image inspection apparatus and capable of exactly evaluating defect factors of an object to be inspected whose shot image indicates a parallel stripe density pattern.例文帳に追加

レンズ等の光学部材の品質を検査するための画像検査装置における光学部材検査方法であって、撮影した画像に平行縞状の濃淡模様が現れるような被検物に対しても不良要因の評価をより厳密に行うことが可能な光学部材検査方法を提供することである。 - 特許庁

An inspection target is irradiated with a plurality of light sources for irradiating light having a different wavelength from a different direction, and crack images are imaged by the light source of either wavelength by selectively imaging the light having different wavelengths by a transparent plate defect inspection apparatus.例文帳に追加

本発明の透明板欠陥検査装置によれば、異なる波長の光を照射する複数の光源を異なる方向から検査対象物に照射し、これらの複数の異なる波長の光を選択的に撮像することによりいずれかの波長の光源により、クラックの画像の撮像が可能となる。 - 特許庁

To provide an IC handler capable of grasping an abrasion state between a guide pin and a guide hole, and previously preventing occurrence of an inspection defect caused by abrasion, concerning the IC handler for performing position adjustment when mounting an IC chip on an inspection socket by engaging the guide pin with the guide hole.例文帳に追加

ＩＣチップを検査ソケットに装着する際の位置調整を、ガイドピンとガイド孔とを係合させることによって行うＩＣハンドラにおいて、該ガイドピンと該ガイド孔との摩耗状態を把握することができ、摩耗による検査不良を未然に起こさないようにすることができるＩＣハンドラを提供する。 - 特許庁

To provide a laser beam welding machine capable of inspecting a work with an X-ray without taking down the work from the welding machine by arranging an X-ray inspection device to the welding machine, continuously conducting the repair welding as necessary, and easily specifying a cause of the occurrence of a defect because an inspection is possible, immediately after welding, and a laser beam welding method therefor.例文帳に追加

溶接機にＸ線検査装置を付加することにより、ワークを溶接機から取り降ろさずにＸ線検査ができ、必要に応じて連続して補修溶接ができ、かつ、直ちに検査できることから欠陥の生じた原因の特定がし易いレーザ溶接加工機およびレーザ溶接加工方法を提供する。 - 特許庁

A step between a reflection portion which reflects EUV light and an absorption portion which absorbs the EUV light is adjusted to a size which is an odd multiple of a 1/4 wavelength of the inspection light used for defect inspection that is carried out utilizing edge light shield effect by a phase difference between reflected light from the reflection portion and reflected light from the absorption portion when a reflection-type mask blank is irradiated perpendicularly with the inspection light.例文帳に追加

ＥＵＶ光を反射する反射部とＥＵＶ光を吸収する吸収部との段差を、欠陥検査に使用する検査光の１／４波長の奇数倍の大きさに調整し、検査光を垂直に照射した際の、反射部からの反射光と、吸収部からの反射光の位相差によるエッジ遮光効果を利用して欠陥検査を行うことにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

An organic layer forming part 110 forming an organic layer, a second electrode forming part 120 forming a boundary layer and a second electrode, and a defect inspection part 130 inspecting defect in vacuum or in an inert gas atmosphere are combined through a middle chamber 140 and a base plate transferring mechanism 160 without being exposed in the air.例文帳に追加

有機層を形成する有機層成膜部１１０と、界面層および第２電極を形成する第２電極成膜部１２０と、真空中あるいは不活性ガス雰囲気中で欠陥検査を行う欠陥検査部１３０とが、中間室１４０および基板授受機構１６０を介して大気開放せずに結合されている。 - 特許庁

To reliably discriminate a main surface of a magnetic disk substrate, where a defect is detected in a magnetic recording layer in the defect inspection of a process for manufacturing the magnetic disk substrate, in a subsequent film-forming process, and to reduce costs by preventing the use of an expensive material for a substrate surface obviously not to be used as a recording surface.例文帳に追加

磁気ディスク基板の製造工程における欠陥検査で磁気記録層に不適切な欠陥が検出された磁気ディスク基板の主表面を、後の成膜工程において確実に判別することができ、初めから記録面として用いられないことが判っている基板面にまで高価な材料を用いることを回避してコストの削減を図ること。 - 特許庁

The preserving device of the image (called 'the defective image') to be inspected and decided to include a defect by a comparison inspection of the image to be inspected with a reference image comprises a reference image preserving means, a defective part extracting means, a defective part preserving means, a defect coordinate preserving means, and a positional deviation amount preserving means.例文帳に追加

基準画像と検査対象画像との比較検査により欠陥を含むと判定された検査対象画像（欠陥画像と呼ぶ）の保存装置であって、基準画像保存手段と、欠陥部分抽出手段と、欠陥部分保存手段と、欠陥座標保存手段と、位置ずれ量保存手段とから成るようにした欠陥画像保存装置。 - 特許庁

This semiconductor crystal screening method is equipped with steps of: inducing a defect in the imperfect portion of the semiconductor crystal by applying an electron beam or light to the semiconductor crystal; and then, performing defect inspection on the semiconductor crystal by a cathode luminescence method or photoluminescence method to screen the semiconductor crystal based on a result thereof.例文帳に追加

本発明の半導体結晶のスクリーニング方法は、半導体結晶に電子線又は光を照射することによって半導体結晶の不完全部分での欠陥を誘起し、その後、カソードルミネッセンス法又はフォトルミネッセンス法により半導体結晶の欠陥検査を行い、その結果に基づいて半導体結晶のスクリーニングを行う工程を備える。 - 特許庁

To provide a practical method and device for detecting a small surface irregularity defect, capable of detecting surely a small concave and convex defect having a contour of the irregularity of several micrometers which is difficult to an automatic detection like the detection by a grinding stone, in an object to be inspected with a coarse surface roughness and a visual inspection which is usually difficult.例文帳に追加

表面粗さの粗い被検査対象物において通常視認困難で、砥石がけ検査により検出しているような自動検出が困難な凹凸が数μm程度でなだらかな輪郭を持つ微小凹凸性疵を確実に検出できる実用的な微小凹凸表面欠陥の検出方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a charged particle beam defect inspecting device and method for correcting a dislocation of a focal position due to a charged-up state of a sample to be observed without troubling an operator, and resultingly ensure a focused clear observation and a precise defect inspection even under a charged-up state of the sample.例文帳に追加

観察対象の試料に生ずるチャージアップに起因する焦点位置のずれを操作者の手を煩わすことなく補正することができ、その結果として試料がチャージアップしている場合であっても焦点のあった鮮明な観察及び高精度の欠陥検査を行うことができる荷電粒子ビーム欠陥検査装置及び方法を提供する。 - 特許庁

An ultrasonic beam B is emitted toward an artificial defect 200 formed in a position corresponding to a point of inspection object 300 in advance, and a driving electric signal S3 in which a difference in delay time is set based on the reflected wave R is prepared.例文帳に追加

事前に、検査対象箇所３００に対応した位置に形成した人工欠陥２００に向けて超音波ビームＢを発し、その反射波Ｒに基づいて遅延時間の差を設定した駆動用電気信号Ｓ３を用意する。 - 特許庁

To provide a glass inspection system for detecting particle and defect inside or on a glass sheet (14) using relatively-low cost optical component which easily is integrated into a compact type device easily-deployable to manufacturing environment.例文帳に追加

ガラスシート (１４)内または上の粒子及び欠陥を検出するためのガラス検査装置において、製造環境に容易に配備され得るコンパクトな装置に容易に集成することができる比較的低コストの光学コンポーネントを用いる。 - 特許庁

To prolong the lifetime of products and the intervals of inspection and maintenance by preventing the degradation in reflectivity of a deflective reflecting surface of a rotary deflecting means by adhesion of dirt and by suppressing exposure unevenness and the defect in synchronous detection for controlling exposure timing.例文帳に追加

汚れの付着による回転偏向手段の偏向反射面の反射率の低下を防ぎ、露光ムラや露光タイミングを制御するための同期検出不良を抑え、製品寿命や点検保守間隔を長くする。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for the inspection of a motor, where at least one from among the defect and the absence of a varistor arranged and installed at an armature can be determined, and to provide a method of manufacturing the motor.例文帳に追加

本発明の目的は、アーマチャに配設されるバリスタの欠損と欠品の有無のうち少なくとも一方を判定することができるモータ検査装置及びモータ検査方法並びにモータ製造方法を提供することにある。 - 特許庁

This defect inspection device is provided with a camera 12 picking up an image of a transparent sheet film 1 and an image processing device 14 detecting foreign matter 19 of the transparent film 1 by processing the pick-up image.例文帳に追加

透明シート状の透明フィルム１の画像を撮像するカメラ１２と、撮像された画像を画像処理を行うことにより透明フィルム１の異物１９を検出する画像処理装置１４とを有する欠陥検査装置である。 - 特許庁

To provide a wafer inspection device which can achieve high-speed, high-resolution visual test of semiconductor wafer and consistently prepares samples for TEM observation or various analyses with high accuracy of position from the area where any foreign material or defect exists.例文帳に追加

半導体ウエハの高速で高分解能な外観検査と、異物や欠陥の存在部位からＴＥＭ観察や各種分析のための試料を高い位置精度で一貫して作製することのできる検査装置を提供すること。 - 特許庁

When an inspection result of a previous step is included in the chip ID, level identification on a defective or acceptable chip can be carried out by only reading the chip ID and thus this can quickly cope with the defect-cause analysis, shipping by characteristics, or the like.例文帳に追加

チップＩＤに前工程の検査結果を含ませる事で、不良品や良品のレベル識別がチップＩＤの読み取りをおこなうだけで可能となり、不具合の原因解析や特性別の出荷などに迅速に対応できる。 - 特許庁

In a manufacturing method of a lithography original, a continuous pattern of periodic patterns 4 which appear on a circuit pattern 3 is formed over the substantially whole area of a substrate, and defect inspection is performed to detect defects in the continuous pattern.例文帳に追加

実施の形態のリソグラフィ原版の製造方法は、回路パターン３に表れる周期的パターン４を連続させた連続パターンを基板の略全面にわたって形成し、連続パターンの欠陥を検出する欠陥検査を行う。 - 特許庁