「formation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

It is preferred that the layer 2 be integrated for the formation of a composite part by fusion through co- crosslinking with other parts, such as an internal electrode 1 or an insulating layer 3, made of a rubber composition mainly comprising an ethylene-propylene rubber or silicone rubber.例文帳に追加

この部品は、エチレン・プロピレンゴムまたはシリコーンゴムを主体とするゴム組成物からなる内部電極１や絶縁層３などの他の部品と共架橋して融着一体化した複合部品であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a wiring layer formation method which can increase the surface flatness of a wiring layer and also eliminates a composition which changes a magnetic field in an extended wiring interval region, and a semiconductor device manufacturing method.例文帳に追加

配線層の表面の平坦度を高めることができ且つ配線間隔が広い領域において磁界を変動させる構成を無くした配線層の形成方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, by conducting the oxygen deposition nucleus formation process, such a silicon wafer 38 can be obtained that has the DZ layer 35 covering the surface and contains in an inner part the BMD layer 37 containing the oxygen deposition nuclei in high concentration.例文帳に追加

以上のような酸素析出核形成工程を経て、表面はＤＺ層３５に覆われ、内部に高密度に酸素析出核を含むＢＭＤ層３７を有する本発明のシリコンウェーハ３８を得ることができる。 - 特許庁

Meanwhile, unlike the case of formation using the crystal growth, since the diffusion protection layer 31 is formed uniformly with a small thickness of several monolayers, the diffusion protection layer 31 is also inhibited from becoming a current leakage path.例文帳に追加

一方、拡散防止層３１は、結晶成長を用いて形成する場合とは異なり、数モノレイヤの薄さで一様に形成されるので、拡散防止層３１自体が電流リークパスとなることも抑制される。 - 特許庁

To provide a core board manufacturing method and a wiring board manufacturing method which suppress the unevenness of the thickness of a conductive layer on the surface of a core board and reduce the conductive layer into a thin film to enable the formation of microwiring.例文帳に追加

コア基板表面の導電層の厚みのバラツキを抑えた上で導電層を薄膜化し、微細配線を形成できるコア基板の製造方法及び配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

Through these procedures, the formation of potential barrier by the surface shield layer 17 is suppressed for facilitating reading of the charge accumulated in the photodiode layer 16, thereby enabling the read out voltage to be lowered.例文帳に追加

こうして、サーフェスシールド層１７による電位障壁の形成を抑えて、フォトダイオード層１６内に蓄積された電荷を読み出しやすくすることで、読み出し電圧の低電圧化を可能にする構成となっている。 - 特許庁

To provide a magnetic head having electric-magnetic conversion characteristics improved by preventing the formation of a machined deformation layer or the like in the electric-magnetic conversion element of the magnetic head, or eliminating the formed machined deformation layer.例文帳に追加

磁気ヘッドにおける電気−磁気変換素子において加工変質層等の発生を防止し、あるいは発生した加工変質層の除去することとし、電気−磁気変換特性に優れた磁気ヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method enabling easy manufacturing of ink jet recording sheets and capable of preventing cracks of a fixing layer after drying and of enhancing preservation stability of a coating slip for fixing layer formation before coating.例文帳に追加

乾燥後の定着層のひび割れを防止できる上に、塗工前の定着層形成用塗工液の保存安定性を高くできるインクジェット記録用シートを簡便に製造できる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical waveguide that prevents formation of a lower clad layer and a core groove from failing due to bubbles remaining in the lower clad layer, and to provide a die used for the method.例文帳に追加

光導波路において、下部クラッド層中に残留する泡に起因する下部クラッド層およびコア溝の形成不良が生じ難い光導波路の製造方法およびそれに用いる型を提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing a thin film transistor having an oxide semiconductor as a semiconductor layer including a channel formation region includes; forming an oxide insulating film to come into contact with the oxide semiconductor layer.例文帳に追加

チャネル形成領域を含む半導体層を酸化物半導体層とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体層に接する酸化物絶縁膜を形成する。 - 特許庁

To provide an organic EL element having an element structure that reduces damage to an organic light-emitting layer etc. during electrode formation and facilitates electric charge injection into the organic light-emitting layer etc. from an electrode.例文帳に追加

電極形成時に有機発光層等に与えるダメージを低減するとともに、電極から有機発光層等への電荷注入を容易にすることができる素子構造を備えた有機ＥＬ素子を提供する。 - 特許庁

Here, the capacitor element is provided with a resist formation portion 25 formed of a resist layer 13 between the anode electrode piece 17 connected to the end of the anode body and an end of a cathode portion, and the silver electrode layer 36.例文帳に追加

ここでコンデンサ素子において、その陽極体の端部に接続された陽極電極片１７と陰極部の端部および銀電極層３６との間に、レジスト層１３によりレジスト形成部２５を設ける。 - 特許庁

The coil-on-chip semiconductor is constituted of an IC element 1 having an input/output terminal 2, an insulating layer 3 formed on the circuit formation surface of the IC element 1, and an antenna 4 formed on the insulating layer 3.例文帳に追加

入出力端子２を有するＩＣ素子１と、ＩＣ素子１の回路形成面に形成された絶縁層３と、絶縁層３上に形成されたアンテナ４とをもって、コイルオンチップ形の半導体装置を構成する。 - 特許庁

To provide a color filter allowing formation of a color layer by an inkjet method, preventing invasion of the color layer into an adjacent pixel and preventing color performance variation among pixels, and having high brightness.例文帳に追加

本発明により、インクジェット方式を用いて着色層が形成され、隣接する画素への着色層の侵入を生ぜず、画素間の色性能のばらつきがない、輝度の高いカラーフィルタを提供することができる。 - 特許庁

If another PEDTT layer is formed by applying a solution of PEDTT on the composite conductive layer, the number of repeated polymerizations required for the formation of the electrolyte can be reduced, thus simplifying a process.例文帳に追加

さらに前記複合導電層にさらにＰＥＤＴＴ層を溶液塗布により形成することにより、電解質形成のために必要な重合繰り返し回数を減少させ、工程を簡略化するものである。 - 特許庁

To provide a new manufacturing method which eliminates the need of posterior processes such as CMP in wiring formation process when manufacturing a wiring board having at least one conductor layer and one resin insulation layer.例文帳に追加

導体層と樹脂絶縁層とをそれぞれ少なくとも一層有する配線基板を製造するに際し、配線形成プロセスにおいてＣＭＰ等の後加工を必要としない新規な製造方法を提供する。 - 特許庁

The mirror 130 is formed with the same copper as that of a conductor pattern layer 111, and is formed simultaneously with formation of the conductor pattern layer 111 before the optical waveguide 120 is formed on the printed wiring board 110.例文帳に追加

ミラー１３０は、導体パターン層１１１と同じ銅で形成されており、プリント配線板１１０上に光導波路１２０が形成される前に、導体パターン層１１１の形成と同時に形成されている。 - 特許庁

When the high resistance layer 3A is formed after the lower electrode 2, superfluous oxygen in the high resistance layer 3A is discharged by performing annealing at a temperature equal to or higher than the annealing temperature in subsequent annealing (after formation of element).例文帳に追加

下部電極２に続いて高抵抗層３Ａを形成する際に、その後（素子形成後）に施される熱処理温度と同等以上の熱処理を施し、高抵抗層３Ａ内の過剰な酸素を放出させる。 - 特許庁

The plated resist film 25 for columnar electrode formation is formed by laminating a dry film resist on upper surfaces of an upper metal layer 9 and a base metal layer 8 by a thermocompression method using a laminate roller.例文帳に追加

上部金属層９および下地金属層８の上面に、ドライフィルムレジストをラミネートローラを用いた熱圧着方法によりラミネートすることにより、柱状電極形成用メッキレジスト膜２５を形成する。 - 特許庁

In a method of manufacturing a three-dimensional semiconductor circuit, a conductive layer possessing a doped polysilicon layer at its upper part is formed, patterned, and annealed for the formation of the first single grain polysilicon terminal 16 of a semiconductor device.例文帳に追加

三次元半導体回路の製造方法は、ドープ・ポリシリコンを上側に有する導電層（１３）を設け、パターニングし、アニールすることによって、半導体素子の第１単粒子ポリシリコン端子（１６）を形成する。 - 特許庁

The surface of a polyimide film 1 is formed as a coarse surface 1a through formation of many fine recessed areas 2 where the internal diameter is expanded and an electrically copper plated layer 5 is formed on the surface described above via a sputtered nickel layer 3.例文帳に追加

ポリイミドフィルム１の表面が、内部が拡径している多数の微小凹部２の形成により粗化面１ａに形成され、上記表面にスパッタリングニッケル層３を介して電気銅めっき層５が形成されている。 - 特許庁

The site-specific chemical modification of a pillar can be performed by forming the second layer with a chemically desirable composition or by chemically modifying a cross-section of the second layer after formation of the pillar.例文帳に追加

この２番目の層を事前に化学的に所望の組成にしておくか、もしくは、ピラーを形成した後に第２番目の層の断面を化学的に修飾することにより、部位特異的なピラーの化学修飾が可能となる。 - 特許庁

To provide a display for enhancing image quality by forming a pixel electrode without being affected by a semiconductor layer, while provided with the semiconductor layer divided by film formation on a partitioning wall and patterned finely.例文帳に追加

隔壁上からの成膜によって分断され、微細化パターニングされた半導体層を備えながら、半導体層に影響されずに画素電極を形成できることで画質の向上が図られた表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high reliability thin film capacitor by preventing the exfoliation of the periphery of a thin film upper electrode and a dielectric layer from a support substrate, in a photolithographic etching process, after the formation of the thin film upper electrode layer.例文帳に追加

薄膜上部電極層形成後のフォトリソエッチング工程において、薄膜上部電極及び誘電体層の外周部の支持基板からの剥離を防止し、信頼性の高い薄膜コンデンサを提供する。 - 特許庁

The metal layer 3 for electric wiring formation is laminated at least on one face side of the supporting material 1, and the supporting material 1 and the metal layer 3 are bonded with an adhesive 2 provided only at the peripheral part of their boundary.例文帳に追加

支持材１の少なくとも一面側に電気配線形成用の金属層３を積層すると共にその界面の周縁部にのみ設けた接着剤２によって支持材１と金属層３を接着する。 - 特許庁

While the excellent shape controllability is secured, the copper wiring layer 53 is prevented from having its surface roughened owing to etching etc., during the formation of the metal diffusion preventive film 51, thereby suppressing the oxidation of the copper wiring layer 53 and the diffusion of copper.例文帳に追加

良好な形状制御性を確保しつつ、金属拡散防止膜51の形成時のエッチングなどによる銅配線層53の表面荒れなどを防止して、銅配線層53の酸化および銅の拡散を抑制できる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a field-effect transistor which suppresses erosion or damage of a conductive layer upon formation of a contact hole to an insulating layer, and to provide the field-effect transistor, a display device, and an electromagnetic wave detector.例文帳に追加

絶縁層へのコンタクトホール形成時における、導電層の浸食や破損の抑制された電界効果型トランジスタの製造方法、電界効果型トランジスタ、表示装置、及び電磁波検出器を提供する。 - 特許庁

The charging member 23 has a conductive support 49, an electric resistance adjusting layer 50 formed on the conductive support 49, and the gap formation member 52 disposed on both ends of the electric resistance adjusting layer 50.例文帳に追加

帯電部材２３は、導電性支持体４９と、該導電性支持体４９上に形成された電気抵抗調整層５０と、該電気抵抗調整層５０の両端に設けられたギャップ形成部材５２とを有している。 - 特許庁

The nonmagnetic substrate is once taken out from the film deposition system after the formation up to the soft magnetic backing layer, and the nonmagnetic substrate is washed, and then introduced again into the film deposition system to deposit films from the intermediate layer.例文帳に追加

軟磁性裏打ち層までを成膜後に一旦成膜装置から非磁性基板を取り出し、この非磁性基板の洗浄を行なった後に再び成膜装置内に導入して中間層からの成膜を行なう。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern-like thin film layer which has a mask layer material having a high heat resistance by a lift-off process and has a good stripping property, while preventing generation of a decomposed gas at its processing temperature upon formation of the thin film.例文帳に追加

マスク層材料の耐熱性が高く、又薄膜形成時の処理温度下での分解ガスの発生もなく、さらに、剥離性が良好なリフトオフ方式のパターン状薄膜層の形成方法を提供する。 - 特許庁

Moreover, by including a heat treatment process in the formation of an element, hydrogen is released and emitted from the carbon-hydrogen bonds in an outside base layer 6, which increases the density of carriers in the outside base layer 6 and thereby realizes a low base resistance.例文帳に追加

さらに、素子形成時に熱処理工程を入れることにより、外部ベース層中のＣ−ＨのＨを解離、放出することにより、外部ベース層中のキャリア濃度を増加させ、低いベース抵抗を実現する。 - 特許庁

As the area rate of the product portion-side conductor layer to the product formation area 28 is larger and larger, the area rate of the frame portion-side conductor layer 54 to the frame portion 29 in the same plane therewith is set smaller and smaller.例文帳に追加

製品形成領域２８に占める製品部側導体層の面積率が大きいものほど、それと同一面内に存在する枠部２９に占める枠部側導体層５４の面積率が小さく設定される。 - 特許庁

Prior to the formation of an upper layer circuit pattern, position information of the positioning pattern 103 is detected and the upper layer circuit pattern 103 is formed on the basis of a resultant detection value while correcting a recording position.例文帳に追加

更に、上層の回路パターンの形成に先立って位置決めパターン１０３の位置情報を検出し、得られた検出値に基づいて記録位置を補正しながら上層の回路パターン１０３を形成する。 - 特許庁

The insulator layer 10 at the part where the 2nd insulator layer 20 is formed is etched away with the aforementioned solution to expose the circuit pattern 13 of the part on the reverse side of the circuit formation surface.例文帳に追加

第２絶縁体層２０を形成した部分の絶縁体層１０を前記溶液によるエッチング処理で除去することで、当該部分の回路パターン１３を前記回路形成面の裏面側に露出させた。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device which prevents dispersion of the thickness of alignment film due to different formation state of a layer-thickness adjusting layer and causes less display faults, to provide a manufacturing method of the liquid crystal device, and to provide electronic equipment provided with the liquid crystal device.例文帳に追加

層厚調整層の形成状態が異なることによる配向膜の膜厚のバラつきを防ぎ、表示不良の発生が少ない液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器を提供する。 - 特許庁

This can be realized by forming a CVD oxidized film 11 covering the transistor TrB and then forming the high-concentration impurity diffusion layer 106 in the transistor TrA prior to formation of the silicide layer 108.例文帳に追加

これは、トランジスタＴｒＢを覆うＣＶＤ酸化膜１１の形成後で、かつ、シリサイド層１０８を形成する前にトランジスタＴｒＡに高濃度不純物拡散層１０６を形成することで実現できる。 - 特許庁

Part of the fuel gas passing in the fuel gas passages 24P, particularly the gas forming a boundary layer on the surface of the anode 22, is sucked via the suction paths 60, and the formation of the boundary layer is suppressed.例文帳に追加

したがって、この吸引路６０を介して、燃料ガス流路２４Ｐ内を通過する燃料ガスの一部、特に、アノード２２表面で境界層を形成するガスが吸引され、境界層の形成が抑えられる。 - 特許庁

Inverting the PXLED to expose the pattern of the masking layer or using the Talbot effect to create an aligned second patterned masking layer allows the formation of PXLEDs with low defect density.例文帳に追加

マスク層のパターンを露出させるためにＰＸＬＥＤを逆にするか、又は、「タルボット」効果を用いて整列した第２のパターン化マスク層を作り出すことにより、欠陥密度の低いＰＸＬＥＤを形成することができる。 - 特許庁

In order to solve the problem, the formation of the Ge layer is prevented, and an Si layer is preferentially formed when deviations are generated in the supply of a raw material due to the opening or the shutting of a gas valve or a shutter.例文帳に追加

上記課題を解決するため、本発明によれば、ガスバルブやシャッター開閉に起因して原料供給のずれが生じた場合、Ge層の形成を回避し、Si層が優先的に形成されるようにする。 - 特許庁

To provide a current collecting foil or the like, in which formation of interfacial delamination between a carbon coated layer and an active material layer formed on a metal foil can be suppressed and the battery characteristics of which can be improved.例文帳に追加

金属箔上に形成されたカーボンコート層と活物質層との間で界面剥離が生じるのを抑制できると共に、電池特性を向上させることができる集電箔等を提供すること。 - 特許庁

When the lubricant layer of the magnetic recording medium is formed by the vacuum deposition method, the amount of a lubricant used for one time of film formation is totally evaporated by one time of heating operation to deposit a lubricant layer.例文帳に追加

磁気記録媒体の潤滑層を真空蒸着法により成膜する際、１回の成膜に使用する量の潤滑剤を１回の加熱で全て蒸発させ、潤滑層を蒸着することを特徴とする。 - 特許庁

In this case, the SiO2 layer 14 is formed by plasma-oxidizing the surface of the probe base material 13, and thereby volume increase caused by SiO2 layer formation is suppressed in comparison with the case of forming by film deposition.例文帳に追加

その際、ＳｉＯ２層１４を、探針素材１３の表面をプラズマ酸化して形成することにより、成膜によって形成する場合に比べて、ＳｉＯ２層形成に伴う体積の増大を抑制する。 - 特許庁

To provide the manufacture of a semiconductor element which makes it possible to easily form an episilicon layer while preventing the loss and crystal lattice collapse of a substrate due to etching in spacer formation when an upper-layer source/drain area is formed.例文帳に追加

上層ソース／ドレイン形成の際、スペーサ形成時のエッチングによる基板の損失及び結晶格子崩壊を防止してエピシリコン層を容易に形成しうる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

When a light emission material is formed on the pixel electrode layer, this spacer supports a mask for selective formation and prevents the light emission material from being in contact with the pixel electrode layer due to twist or deflection of the mask.例文帳に追加

このスペーサによって、発光材料を画素電極層上に形成する際、選択的に形成するためのマスクは支持され、マスクのよじれやたわみなどによって画素電極層に接することを防止する。 - 特許庁

The coating film formation article is prepared by laminating the water-repellent resin layer made of a resin composition containing a water-repellent resin having a polar group via a primer layer containing inorganic silicon compound on the surface of a stainless steel base material.例文帳に追加

ステンレス基材の表面に、無機珪素化合物を含むプライマー層を介して、極性基を有する撥水性樹脂を含む樹脂組成物からなる撥水性樹脂層が積層されている塗膜形成品とする。 - 特許庁