意味 | 例文 (999件) |
Solution toの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 29197件
The medical solution applicator kit is provided for storing a first medical solution and a second medical solution respectively in the same volume, applying a part of the first medical solution individually to a part to be applied, and then mixing and applying the second medical solution and the remaining first medical solution simultaneously and uniformly to the part to be applied.例文帳に追加
薬液塗布器具キットは、第1薬液および第2薬液を各々同一容量収容し、第1薬液の一部を個別に塗布対象部位に塗布した後、第2薬液と残りの第1薬液とを塗布対象部位に同時にかつ均等に混合塗布するための薬液塗布器具キットである。 - 特許庁
In this method, an additive for advancing the equilibrium reaction of the general formula: MF_6^2-+2H_2O=MO_2+4HF+2F^- to the right is further added to the solution.例文帳に追加
MF_6^2-+2H_2O=MO_2+4HF+2F^- 一般式 - 特許庁
To provide a solution to manage a plurality of software images.例文帳に追加
複数のソフトウェア・イメージを管理するためのソリューションを提供する。 - 特許庁
The traditional solution to examining snow layers is to dig a snow pit.例文帳に追加
積雪層を調べる従来の解決法は、雪穴を掘ることだ。 - 旅行・ビジネス英会話翻訳例文
To provide an adapter for replenishing a processing solution and a tank for a replenishing solution which can be easily used without spilling or splashing liquid and, further, contaminating the processing solution even for a beginner when replenishing the processing solution from a processing solution pack to the tank for replenishing solution of automatic development processing apparatus of photosensitive material.例文帳に追加
感光材料自動現像処理装置の補充液用タンクへ処理液パックから処理液を補充する際初心者でも、簡単にしかも液こぼし液はねもなく、更に処理液の混入のない処理液補充用アダプタ及び補充液用タンクを提供する。 - 特許庁
This method for treating laver comprises the following practice: a solution prepared by adding an ordinary or rock salt of sodium chloride to hydrochloric acid and/or phosphoric acid is diluted with seawater to adjust the resulting solution to pH 1 to 2.5, and this solution is contacted with laver or laver net(s).例文帳に追加
塩酸及び又は燐酸に塩化ナトリウムの並塩又は岩塩を添加した溶液を、海水で希釈してpH=1〜2.5に調整し、海苔及び海苔網に接触させる。 - 特許庁
This method for producing a haloiodoaniline compound is characterized by adding a hydrogen peroxide solution to a solution containing a haloaniline and molecular iodine as raw materials to iodize the haloaniline and then adding a reducing substance to the reaction solution to apply a reduction treatment.例文帳に追加
原料のハロアニリンと分子状ヨウ素を含む溶液に、過酸化水素水を添加し該ハロアニリンをヨウ素化した後、反応液に還元物質を加え還元処理する。 - 特許庁
The processing solution supply paths 7 and 9 supply the solution 10 to the surface to be processed of the substrate 4 so that the solution 10 may flow to the surface to be processed of the substrate 4 in a fixed direction.例文帳に追加
処理液供給路部材7、9は、基板4の被処理面上にほぼ一定の方向に流れるように、基板4の被処理面上に処理液10を供給する。 - 特許庁
This drive system is composed of an actuator using intercalation substance driven by solution change or solution thickness change, and a solution supply means to supply driving solution to the actuator.例文帳に追加
溶液交換または溶液濃度変化により駆動される、インターカレーション物質を用いたアクチュエータと、このアクチュエータに駆動用の溶液を供給する溶液供給手段とにより駆動システムを構成する。 - 特許庁
To remove gas dissolved in a processing solution with ease and reduce its cost, in a processing solution supply system for supplying the processing solution to a module for performing substrate processing using the processing solution.例文帳に追加
処理液を用いて基板処理を行うモジュールに対し処理液を供給する処理液供給システムにおいて、処理液に溶存する気体を容易に除去し、且つ、掛かるコストを低減する。 - 特許庁
An auxiliary tank 23 for storing urea aqueous solution is arranged separately from an existing urea aqueous solution tank 20 for storing urea aqueous solution to be supplied to an urea aqueous solution spray nozzle 19F of an NOx emission control device 19.例文帳に追加
NOx浄化装置19の尿素水噴射ノズル19Fに供給する尿素水を貯える既存の尿素水タンク20とは別個に、尿素水を貯える補助タンク23を設ける。 - 特許庁
A SC1 solution (mixed solution containing aqueous ammonia and hydrogen peroxide solution) is supplied to the substrate surface Wf to form the liquid film 11 composed of the SC1 solution on the substrate surface Wf.例文帳に追加
基板表面WfにSC1溶液(アンモニア水と過酸化水素水とを含む混合溶液)を供給して基板表面WfにSC1溶液で構成された液膜11を形成する。 - 特許庁
The coating apparatus includes the circular arc-shaped solution receiving pan installed for the purpose of transferring the coating solution to the gravure roll and concentrically arranged with respect to the gravure roll and a solution injection port for injecting the coating solution to the solution receiving pan from a position present in the downstream side of the rotating direction of the gravure roll and higher than the liquid level of the coating solution in the solution receiving pan.例文帳に追加
グラビアロールに塗工液を転写させるために設置した前記グラビアロールと同心円上に配置された円弧状の液受けパンと、グラビアロールの回転方向の下流側で、前記液受けパン内の塗工液の液面より高い位置から塗工液を、液受けパンに注液する注液口を有したことを特徴とする塗工装置である。 - 特許庁
To provide a coater for applying a coating solution that is transparent in some cases to a cylindrical member and measuring an amount of the solution to be applied.例文帳に追加
透明体である場合を含む塗布液を円筒状部材に塗布し、その塗布量を測定する装置を提供する。 - 特許庁
To provide an apparatus which removes a copper ion and an antimony ion contained in an electroless plating solution with a minimum facility and enables the resultant plating solution to be used again, and to provide a method therefor.例文帳に追加
無電解めっき溶液内の銅イオン及びアンチモンイオンを除去するための装置及び方法を提供する。 - 特許庁
A test solution, for example, a hybridization solution or the like being a target object is allowed to flow to the flow channel of the detector 1 to perform a test.例文帳に追加
この検出体1の流路に試験対象の、例えばハイブリダイゼーション溶液等の試験液を流し試験を行う。 - 特許庁
To enable silicon compound to be removed from waste etching solution at a high removal rate and waste etching solution to be recycled without disposing it.例文帳に追加
エッチング液から高い除去率でケイ素化合物を除去することができ、エッチング液を処分することなく再利用する。 - 特許庁
To provide an inkjet ink having resistance to a metal etching solution, peelability by a peeling liquid, or resistance to a plating solution.例文帳に追加
金属エッチング液耐性、剥離液に対する剥離性、又はめっき液耐性を有するインクジェット用インクが求められている。 - 特許庁
To prepare a tin plating solution or tin alloy plating solution which obviates the generation of whiskers even if an object to be plated is not subjected to heat treatment.例文帳に追加
被めっき物の加熱処理をしなくともウィスカーが発生しない、錫めっき液又は錫合金めっき液を提供する。 - 特許庁
A coating solution supply apparatus 30 has a coating solution supply source 40 and a pump 70 for forcibly feeding the coating solution supplied from the coating solution supply source 40 to a coating nozzle 20.例文帳に追加
塗布液供給装置30は、塗布液供給源40と、塗布液供給源40から供給された塗布液を塗布ノズル20に圧送するポンプ70とを有している。 - 特許庁
To provide a substrate processor preventing or suppressing: dropping of a processing solution from a discharge port of a processing solution nozzle; and crystallization of the processing solution in the processing solution nozzle.例文帳に追加
処理液ノズルの吐出口からの処理液のぼた落ち、および処理液ノズルにおける処理液の結晶化を防止または抑制することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To precisely discharge a minute amount of a sub pl-fl order of a solution by a simple structure on a minute solution discharge member, a minute solution discharge device and a minute solution discharge method.例文帳に追加
微少溶液吐出部材、微少溶液吐出装置、及び、微少溶液吐出方法に関し、簡単な構成によりサブpl〜flオーダーの微少量の溶液を精度良く吐出する。 - 特許庁
In the development processing, a mixed solution prepared by mixing a developing solution and a solution having a smaller specific gravity than the developing solution has with each other is supplied to the surface of a substrate, and the substrate is left as it is for a fixed period of time.例文帳に追加
現像処理時、現像液と現像液より比重の小さい溶液とが撹拌されてなる混合液を基板表面に供給し、一定時間放置する。 - 特許庁
To provide a high purity cobalt chloride aqueous solution at a high actual yield when obtaining a nickel chloride aqueous solution and the high purity cobalt chloride solution from a nickel chloride aqueous solution containing cobalt.例文帳に追加
コバルトを含有する塩化ニッケル水溶液から、塩化ニッケル水溶液と高純度塩化コバルト液とを得るに際して、高実収率で高純度の塩化コバルト水溶液の提供。 - 特許庁
This production method comprises the steps of: preparing an alkaline colloidal solution formed of a dispersive colloidal solution of Pd and Ag, a reducing agent and an alkaline substance; and adding an aqueous solution of a Ni salt into the colloidal solution to produce Ni particles.例文帳に追加
PdとAgの分散コロイド溶液と還元剤とアルカリ性物質とからなるアルカリ性コロイド溶液にNi塩水溶液を添加して、Ni粒子を生成させる。 - 特許庁
When the substrate 10 is pulled up from the impregnated solution 12, the same solution as the dipped solution 12 is supplied to the surface of the substrate so that the solution film is formed on the entire surface of the substrate.例文帳に追加
基板10を浸漬した液12から引上げる際に、浸漬した液12と同一の液をその液膜が基板表面全体に形成されるように基板表面に供給する。 - 特許庁
Alcohol is added to the ethylenediaminetetraacetic acid ammonium solution to be heated to 60 to 90°C.例文帳に追加
エチレンジアミン4酢酸アンモニウム溶液にはアルコ−ルを添加し、60〜90℃に加熱する。 - 特許庁
To provide a drug solution injector which is easily operable and can dose a small volume of other drug solution midway drug solution dosing.例文帳に追加
操作が簡単で、薬液投与の途中で少量の別の薬液を連続的に投与することが出来る薬液注入器を提供する。 - 特許庁
To provide a drug solution injector by which a small amount of another drug solution can continuously be given in the middle of giving drug solution with simple operation.例文帳に追加
操作が簡単で、薬液投与の途中で少量の別の薬液を連続的に投与することが出来る薬液注入器を提供する。 - 特許庁
In the chemical solution application step 53, the chemical solution is applied to both the sides of the laminated continuous sheet S2 from chemical solution application portions 53A and 53B.例文帳に追加
薬液塗布工程53では、積層連続シートS2の両面に薬液付与部53A及び薬液付与部53Bから薬液が付与される。 - 特許庁
To provide a certifying method of a medicinal solution capable of accurately certifying the right and wrong of the medicinal solution (resist solution) for use in manufacture of a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の製造に用いられる薬液(レジスト溶液)の良否を正確に認定できる薬液の認定方法を提供する。 - 特許庁
The resultant doped source solution is mixed 22 with the preliminary precursor solution to form a doped silicon oxide precursor solution.例文帳に追加
不純物が添加された原料溶液を準備的な前駆溶液と混合22して、不純物が添加されたシリコン酸化物の溶液を調製する。 - 特許庁
As the point C is at the upside of the solubility curve, the third solution is a supersaturated solution to make the solute deposit from the third solution.例文帳に追加
点Cは溶解度曲線の上側であるから、第3溶液は過飽和溶液であり、第3溶液からは溶質が析出することになる。 - 特許庁
A grinding solution transport device 1 comprises a grinding solution transport pipe 36 to transport the grinding solution 16 used for the CMP device 14, and a vibration generator 50 which is fitted to the grinding solution transport pipe 36 to apply the vibration to the grinding solution transport pipe 36.例文帳に追加
本発明は、CMP装置14に用いられる研磨液16を輸送するための研磨液輸送管36と、研磨液輸送管36に取り付けられ、該研磨液輸送管36に振動を加える振動発生器50とを備える研磨液輸送装置10を特徴としている。 - 特許庁
The rubber cap is closely fitted to the interdentium to prevent the dispersion of the medical solution to the whole oral cavity.例文帳に追加
護謨キャップは歯間に密着し、薬液は口腔全般に散乱しない。 - 特許庁
Sugar is added to and stirred with a juice of ginger to provide a ginger sugar solution, and the resultant ginger sugar solution is heated to about 118°C to form a pasty state and cooled to about 40°C.例文帳に追加
生姜汁に砂糖を加え、撹拌した生姜砂糖液を118℃程度になるまで加熱して飴状とした後、40℃程度に冷却する。 - 特許庁
A floor surface disinfecting apparatus is equipped with a water tank housing water to be electrolyzed, an ozone aqueous solution making apparatus for electrolyzing water to be electrolyzed from the water tank to make an ozone aqueous solution, an ozone aqueous solution sprinkler for sprinkling the ozone aqueous solution and an ozone aqueous solution recovery device for recovering the sprinkled ozone aqueous solution.例文帳に追加
被電解水を収容する水タンク、この水タンクからの被電解水を電気分解してオゾン水溶液を製造するオゾン水溶液製造装置、オゾン水溶液を散布するオゾン水溶液散布装置、および散布したオゾン水溶液を回収するオゾン水溶液回収装置を備えた床面消毒装置。 - 特許庁
To increase the efficiency of solution searching by preparing a valid initial vale and initial distribution in solution searching.例文帳に追加
解探索において、有効な初期値、初期分布を作り、解探索の効率を上げることを目的とする。 - 特許庁
The solution adhering to the rotation axis part is washed out, by which crystallization of the chemical solution can be prevented.例文帳に追加
回動軸部に付着した薬液が洗い流されることにより、その薬液の結晶化が防止される。 - 特許庁
The mixture aqueous solution is named as HRM (hydrogen reduction matter), and after the solution is left to stand for about 24 hours, the solid portion is precipitated.例文帳に追加
混合溶液をHRMと名付け、これが約24時間経過すると固体部分が沈殿する。 - 特許庁
To increase a recovering rate of a material solution when the mist of the material solution is deposited on a base material.例文帳に追加
材料溶液のミストを基材上に堆積させる場合の材料溶液の回収率を上げる。 - 特許庁
To provide a method for recovering an aqueous solution of nitric acid of high quality from a pickling waste solution containing nitric acid.例文帳に追加
硝酸を含む酸洗廃液から良質の硝酸水溶液を回収する方法の提供 - 特許庁
A solution of salts containing an anion, and quicklime or hydrated lime are added to a sodium aluminate solution.例文帳に追加
アルミン酸ナトリウム溶液に陰イオンを含む塩類の溶液と生石灰又は消石灰を加える。 - 特許庁
To provide a cleaning solution for a semiconductor device and a method for cleaning the semiconductor device using the solution.例文帳に追加
半導体素子の洗浄溶液およびこれを利用した半導体素子の洗浄方法を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR RECOVERING HIGH-PURITY COPPER FROM COPPER-CONTAINING WASTE, AND SOLUTION OR ELECTROLYTIC SOLUTION TO BE USED THEREFOR例文帳に追加
銅含有廃棄物からの高純度銅の回収方法及びそれに用いる溶解液又は電解液 - 特許庁
To provide a polyaniline composite solution good in viscosity stability of the solution employing a general purpose solvent.例文帳に追加
汎用溶剤を使用し、かつ溶液の粘度安定性がよいポリアニリン複合体溶液を提供する。 - 特許庁
The solution is subjected to solvent substitution and concentration with a polar solvent, thus the copper fine particle-dispersed solution can be obtained.例文帳に追加
この溶液を極性溶媒で溶媒置換、濃縮することで、銅微粒子分散液が得られる。 - 特許庁
The fine glass pieces 7 are separated from the intermediate film solution 12 to obtain an intermediate film solution 14.例文帳に追加
このガラス微片含有中間膜溶液12からガラス微片7を分離して中間膜溶液14を得る。 - 特許庁
As the NO_x occlusion material does not form a solid solution with zeolite, NO_x occlusion capacity is not lost due to the solid solution into the base material.例文帳に追加
NO_x 吸蔵材はゼオライトには固溶しないため、基材への固溶によるNO_x 吸蔵能の消失が生じない。 - 特許庁
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