「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(40ページ目) - Weblio英語例文検索

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION CHAMBER WITH DUAL FREQUENCY BIAS AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK USING THE SAME例文帳に追加

デュアル周波数バイアスを具備する化学気相堆積チャンバおよびこれを使用するフォトマスク製造方法 - 特許庁

An undercoating layer (4) may be provided between the plastic film 1 and the inorganic oxide vapor deposition layer (2).例文帳に追加

また、プラスチックフィルム（１）と無機酸化物蒸着層（２）の間に下引層（４）を設けた構成としても良い。 - 特許庁

Next, carbon nanotubes 9 are grown on the patterned thin film using a chemical vapor deposition apparatus 8.例文帳に追加

次いで、パターニングされた薄膜上に化学蒸着装置８ を用いてカーボンナノチューブ９ を成長させた。 - 特許庁

RAW MATERIAL COMPOUND FOR CVD, AND METHOD FOR CHEMICAL VAPOR-PHASE DEPOSITION OF THIN FILM OF RUTHENIUM OR RUTHENIUM COMPOUND例文帳に追加

ＣＶＤ用原料化合物及びルテニウム又はルテニウム化合物薄膜の化学気相蒸着方法 - 特許庁

The metallic thin film is preferably formed by either of processes such as vapor deposition, ion plating and sputtering.例文帳に追加

金属被膜は、蒸着、イオンプレーティングおよびスパッタリングのいずれかの方法で成膜するのが好ましい。 - 特許庁

The film is formed of organic silicon compound, and formed by combustion chemical vapor deposition.例文帳に追加

この皮膜は有機ケイ素化合物を原材料とし燃焼化学気相蒸着によって形成される。 - 特許庁

METAL ALKOXIDE COMPOUND FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND COMPOUND METAL OXIDE THIN FILM USING THE SAME例文帳に追加

化学的気相成長用金属アルコキシド化合物及びこれを用いた複合金属酸化物薄膜 - 特許庁

RAW MATERIAL COMPOUND FOR CVD, AND METHOD OF VACUUM CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FOR IRIDIUM OR IRIDIUM COMPOUND THIN FILM例文帳に追加

ＣＶＤ用原料化合物及びイリジウム又はイリジウム化合物薄膜の化学気相蒸着方法 - 特許庁

RAW MATERIAL FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION (MOCVD) METHOD AND METHOD FOR PRODUCING SILICON-CONTAINING FILM USING THE RAW MATERIAL例文帳に追加

有機金属化学蒸着法用原料及び該原料を用いたシリコン含有膜の製造方法 - 特許庁

HEAD FOR VAPORIZING VARIOUS PRECURSORS IN CHEMICAL VAPOR PHASE DEPOSITION, AND ALLOWING THE PRECURSORS TO FLOW ON SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

化学気相堆積中にいろいろな先駆物質を気化し、半導体ウエハ上に流すためのヘッド - 特許庁

Next, the wafer is inserted into an MOCVD (metal organic chemical vapor deposition) device to form the ferrodielectric film on the wafer 20.例文帳に追加

次に、ウェハ２０をＭＯＣＶＤ装置内に入れて、ウェハ２０上に強誘電体膜を形成する。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition method providing porous silica glass films with improved characteristics.例文帳に追加

特性の向上した多孔性シリカガラスフィルムを提供する化学気相蒸着方法を提供する。 - 特許庁

Thereby, silicon of the vapor deposition source 3 vaporizes and deposits on the surface of a substrate 10 to form a silicon film.例文帳に追加

これにより蒸着源３であるシリコンが蒸発し、基板１０表面にシリコン膜を蒸着する。 - 特許庁

The inorganic vapor deposition layer of the metal or the inorganic oxide and an organic vapor deposition layer of a 1,3,5-triazine derivative are formed in turn on at least one side of the plastic film substrate, and reactive ion etching (RIE) treatment using plasma is applied to the organic vapor deposition layer.例文帳に追加

プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の面に、金属または無機酸化物からなる無機物蒸着層と１，３，５−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層とを順次設けると共に、当該１，３，５−トリアジン誘導体からなる有機物蒸着層にはプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）処理を施す。 - 特許庁

The electron beam vapor-deposition apparatus comprises a dome 6 which hangs in a vacuum chamber 1 and in which members 7 to be subjected to vapor-deposition can be arranged, a crucible 3 containing a vapor-deposition material and arranged below the center of the dome 6 in the chamber 1, and an electron gun 4 for applying an electron beam 5 and arranged in the center of the crucible 3.例文帳に追加

真空チャンバー１内に吊るされていて被蒸着部材７を配置し得るドーム６と、ドーム６の中心下方の前記チャンバー１内に配置された蒸着材料収納用坩堝３と、該坩堝３の中心に電子ビーム５を照射するように配置された電子銃４とを備えた電子ビーム蒸着装置。 - 特許庁

MASK STRUCTURE FOR VAPOR DEPOSITION, METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND METHOD OF PRODUCING ORGANIC EL ELEMENT OBTAINED BY USING THE SAME例文帳に追加

蒸着用マスク構造体とその製造方法、及びこれを用いた有機ＥＬ素子の製造方法 - 特許庁

The Al film 24 as a cathode arranged on the luminous layer 23 is formed by a vacuum vapor deposition method.例文帳に追加

発光層２３上に配する陰電極としてのＡｌ膜２４は、真空蒸着法で製膜する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a vapor-deposited plastic film excellent in the adhesiveness of a base material film and a vapor deposition layer and gas barrier properties after boiling treatment or printing.例文帳に追加

基材フイルムと蒸着層との接着性およびボイル処理後や印刷後のガスバリアー性に優れた蒸着フイルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

The water-repellent fiber sheet is produced by providing a water-repellent layer made of a vapor-deposited film of an inorganic oxide on one side of a fiber material by using a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

繊維素材の片面に、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜からなる撥水層を設け撥水性繊維シートとする。 - 特許庁

The vapor-deposited film 1 is obtained by forming a primer layer 5 on the surface of the substrate film 2 and forming a vapor deposition layer 3 on the surface of the primer layer 5.例文帳に追加

蒸着フィルム１は、基材フィルム２の表面にプライマー層５を形成し、プライマー層５の表面に蒸着層３を形成したものである。 - 特許庁

This vapor deposition apparatus heats an organic material 106 in a crucible 101 for storing the material therein to evaporate it, and spouts the vapor into a vacuum chamber through a plurality of nozzles 104.例文帳に追加

材料収納坩堝１０１の有機材料１０６を加熱して蒸発させ、複数のノズル１０４から真空チャンバー内に噴出させる。 - 特許庁

A step for forming the antireflection structure is carried out by any method among a chemical vapor deposition method, a vapor phase epitaxy method and a molecular beam epitaxy method.例文帳に追加

反射防止構造体を形成する工程は、化学蒸着法、気相エピタキシー法、あるいは分子線エピタキシー法のうちのいずれかの方法により行う。 - 特許庁

The organic electroluminescence material is vapor-deposited while moving two vapor deposition sources 10 along both ends of the base board W by a movement mechanism 20.例文帳に追加

基板Ｗの両端に沿って２つの蒸着源１０を移動機構２０によってそれぞれ移動させながら、有機エレクトロルミネッセンス材料を蒸着する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus for inexpensively vapor-depositing an adequate thin-film on a large surface substrate in a short period of time.例文帳に追加

大面積基板上に良好な薄膜を短時間で且つコスト安に蒸着し得る極めて画期的な蒸着装置を提供するものである。 - 特許庁

A square uneven pattern is formed by a roll-to-roll method on a base film, and a metal is vapor-deposited thereon to obtain a metal vapor deposition film.例文帳に追加

基材フィルム上にロール・ツー・ロール方式で正方形状の凹凸パターンを形成しその上に金属を蒸着し金属蒸着フィルムを得る。 - 特許庁

In this vacuum deposition system in which vapor depositing sources 2 are heated in a vacuum chamber 1 under the reduced pressure of ≤0.01 Pa and are vapor-deposited on the surface of a substrate 3.例文帳に追加

０．０１Ｐａ以下の減圧下の真空チャンバー１内で蒸着源２を加熱して基板３表面に蒸着する真空蒸着装置に関する。 - 特許庁

To provide a method for the mass-synthesis of high purity carbon nanotubes perpendicularly arranged on a large area substrate by thermochemical vapor phase vapor deposition method.例文帳に追加

熱化学気相蒸着法によって大面積基板上に垂直整列された高純度カーボンナノチューブの大量合成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal vapor-deposited urethane film having the adhesion with a metal vapor deposition film and excellent in heat resistance and surface anti-staining properties.例文帳に追加

金属蒸着膜との密着性を有し、かつ耐熱性、表面の耐汚染性にすぐれた金属蒸着ウレタンフィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

Afterwards, by heating the vapor deposition boat 10, the organic material 19 is vapor-deposited on the pixel regions 33 of the element substrate 10, and the organic functional layer is formed.例文帳に追加

その後、蒸着ボート１０を加熱することで、有機材料１９を素子基板１０の画素領域３３に蒸着させ、有機機能層を形成する。 - 特許庁

The alcohol vapor sop-off film composed of an inorganic porous film formed by depositing silica, titania or zirconia on the surface of the inorganic porous body by the chemical vapor deposition is provided.例文帳に追加

１．無機多孔体の表面に化学蒸着法によりシリカ、チタニアまたはジルコニアを堆積してなる無機多孔膜からなるアルコール蒸気阻止膜。 - 特許庁

When all the layers are formed using a sputtering method, a vapor deposition method, or a chemical vapor phase growth method, a solid lithium ion secondary battery can be obtained.例文帳に追加

全ての層をスパッタ法、蒸着法、または化学気相成長法を用いて形成すれば、固体リチウムイオン二次電池も実現することができる。 - 特許庁

To reduce vapor deposition defects due to position shift in the case a plurality of non-common layers are vapor deposited using an identical mask on each pixel of an organic EL element.例文帳に追加

有機ＥＬ素子の各画素に同一マスクを用いて複数の非共通層を蒸着した場合の位置ずれによる蒸着欠陥を低減する。 - 特許庁

To uniformly vapor-deposit a vapor deposition material such as an organic material in which control to heat is important at stable performance over a long period.例文帳に追加

熱に対する管理が重要となる有機材料等の蒸着材料を長期間にわたり安定した性能で均一に蒸着できるようにすること。 - 特許庁

After the transferring step, an additional layer of a different semiconductor material is deposited on the first deposited layer in the second deposition chamber 26 by using vapor deposition.例文帳に追加

搬送工程の後、異なる半導体材料の追加の層を、第二チャンバ２６において、気相堆積によって第一堆積層の上に堆積させる。 - 特許庁

To provide a compact and user-friendly mask for vapor deposition, which prevents deposition patterns from being misaligned and accurately deposits films on the desired positions.例文帳に追加

蒸着パターンの位置ずれを抑え所望の位置に精度よく蒸着を行うことができ、コンパクトで使用しやすい蒸着用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method and a structure for feeding a vaporized reactant to a vapor phase deposition reactor such as an atomic layer deposition (ALD) reactor from a liquid source.例文帳に追加

液体ソースから原子層堆積（ＡＬＤ）反応炉などの気相堆積反応炉に気化反応物を供給する方法および構造を提供すること。 - 特許庁

In the process (a), a deposition layer 6 to become the dielectric layer is formed on the surface of the substrate 1 by using a powder spray coating method or a vapor deposition method.例文帳に追加

工程（ａ）では、粉末噴射コーティング法又は蒸着法を用いて、基材１の表面上に、誘電体層となる成膜層６を形成する。 - 特許庁

In the apparatus, the bottom part of a film deposition chamber 2 is provided with an evaporation source 9 evaporating a vapor deposition material to be stuck to a substrate 7 moved by a transport apparatus.例文帳に追加

搬送装置によって移動される基板７に付着させる蒸着材を蒸発させる蒸発源９を、成膜チャンバ２の底部に設ける。 - 特許庁

To provide a crucible capable of preventing blocking of an opening part by a vapor deposition material and film-depositing a film of high quality at a stable film-deposition rate.例文帳に追加

蒸着材料による開口部の閉塞を防止し、安定した成膜レートで高品質な膜を成膜することが可能な坩堝を提供する。 - 特許庁

By now growing this seed layer with atomic layer deposition (ALD) or chemical vapor deposition (CVD), a high quality layer can be grown.例文帳に追加

ここで前記シード層を原子層堆積法又は化学気相成長法によって成長させることによって、高品質の層を成長させることができる。 - 特許庁

To provide: a vapor deposition material which is suitable for the deposition of a thin film having excellent transparency and gas barrier properties; a thin film sheet provided with the thin film; and a laminated sheet.例文帳に追加

透明性及びガスバリア性に優れた薄膜の形成に好適な蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートを提供する。 - 特許庁

To form a light-emitting layer by a mask vapor deposition method without increasing the number of deposition cycles and lowering the strength of the mask.例文帳に追加

本発明は、蒸着回数を増やすことなく、マスクの強度も低下させずに、マスク蒸着法によって発光層を形成することを目的とする。 - 特許庁

Holes 210 in semiconductor processing reactor components 200 are sized to facilitate deposition of protective coatings, such chemical vapor deposition at atmospheric pressure.例文帳に追加

半導体処理反応器部品２００のホール２１０は、大気圧化学気相成長のような方法による保護コーティングの成膜を促進するようなサイズを有する。 - 特許庁

Deposition of the coating on a support can be achieved by two successive physical vapor deposition steps, and more particularly by magnetron cathode sputtering.例文帳に追加

支持体上への被覆の堆積は、２つの連続した物理的蒸着工程により、より詳しくは、マグネトロン陰極スパッタリングにより、達成することができる。 - 特許庁

To provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) system and a CVD film deposition method for uniformly coating the surfaces of particulates or powders with a thin film or ultrafine particulates.例文帳に追加

微粒子又は粉体の表面に薄膜又は超微粒子を均一性よく被覆できるＣＶＤ装置及びＣＶＤ成膜方法を提供する。 - 特許庁