| 意味 | 例文 (999件) |
Vapor Depositionの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 5223件
A vapor deposition source of magnesium, a vapor deposition source of boron and a substrate 11 are arranged in a reaction chamber 2, and magnesium and boron are simultaneously evaporated in the reaction chamber 2 to form magnesium diboride on the substrate 11.例文帳に追加
マグネシウムの蒸着源と、ホウ素の蒸着源と、基板１１とを反応室２内に配置し、反応室２内で、マグネシウムとホウ素とを同時に蒸着することにより、基板１１上に二ホウ化マグネシウムを形成する。 - 特許庁
The moisture percentage of the substrate is reduced through the above steps, so that reduction in a vacuum degree near the substrate during vapor deposition is prevented, and thereby, the variations in the refractive index of the metal oxide after vapor deposition can be prevented.例文帳に追加
これらの工程を経由することで、基板の水分率が低下されるため、蒸着時の基板付近の真空度低下が抑制され、蒸着後の金属酸化物の屈折率バラツキを抑えることができる。 - 特許庁
To improve quality of a top plate for a cooking device, by enhancing its attractive look and external appearance at the boundary of a part where a shading film (vapor deposition film) is formed for a glass plate by a vapor deposition method and a part where it is not formed.例文帳に追加
ガラス板に対する蒸着法による遮光膜（蒸着膜）の形成部と非形成部との境界における見栄え及び外観性を向上させて調理器用トッププレートの品質改善を図る。 - 特許庁
A ceramic thin film layer 110 having either one of silicon oxide, diamond-like carbon, alumina or aluminum as a main ingredient is applied on the inner face of a resin layer 120 of the tubular container by a chemical vapor deposition method or a physical vapor deposition method.例文帳に追加
チューブ状容器の樹脂層１２０内面に、化学蒸着法又は物理蒸着法で、酸化珪素、ダイアモンドライクカーボン、アルミナ又はアルミニウムのいずれかを主成分とするセラミック薄膜層１１０をコーティングする。 - 特許庁
A plurality of vapor deposition sources are provided in direction Y, crossing the moving direction, and the membrane correcting plate 23 has a plurality of open mouths 23a, that are independent and corresponding to each of a plurality of vapor deposition sources 20.例文帳に追加
前記移動方向に交差するＹ方向に複数の蒸着源２０が設けられ、膜厚補正板２３は、複数の蒸着源２０のそれぞれに対応して独立した複数の開口２３ａを有する。 - 特許庁
To provide a raw material for chemical vapor deposition(CVD), which easily controls the composition and inhibits localization of a dopant in the chemical vapor deposition(CVD) method, and to provide a method for manufacturing ceramics therewith.例文帳に追加
化学気相成長（ＣＶＤ）法において、組成制御が容易であり、ドーパントの局在化を抑制できる化学気相成長（ＣＶＤ）用原料及びこれを用いたセラミックスの製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for forming the tin film by chemical vapor deposition introduces alternately a raw gas and a gas activated by an activating means, onto the substrate, and conducting the chemical vapor deposition on it, in a process for forming the thin film on the substrate by chemical vapor deposition, and forming the thin film having the required film thickness on the above substrate through repeating the chemical vapor deposition.例文帳に追加
化学気相成長法により段差部を有する半導体デバイス基板上に金属薄膜を形成する方法において、原料ガスと反応性ガスを交互に前記半導体デバイス基板上に導入して、化学気相成長を行い、この化学気相成長を繰り返し行うことにより所要の膜厚の金属薄膜を前記半導体デバイス基板上に形成することを特徴とする化学気相成長による金属薄膜形成方法。 - 特許庁
The deposition rate of the vapor deposition material can be controlled using the fact that the deposition rate is increased when pressure in the vacuum chamber 10 is lowered and the deposition rate is decreased when the pressure in the vacuum chamber 10 is raised.例文帳に追加
真空槽１０内部の圧力を小さくすれば蒸着物質の蒸着速度は速くなり、真空槽１０内部の圧力を大きくすれば蒸着物質の蒸着速度は遅くなるということを利用して蒸着速度を制御する。 - 特許庁
To provide a vapor deposition apparatus capable of easily depositing a metal film in a desired area of an object.例文帳に追加
対象物の所望の領域に簡単に金属膜を成膜することができる蒸着装置を提供する。 - 特許庁
The vapor deposition vessel 31b is grasped by a glove 36 inserted into the box 21, and moves inside the vacuum tank 11.例文帳に追加
蒸着容器３１ｂはボックス２１に挿入されたグローブ３６で把持され、真空槽１１内部を移動する。 - 特許庁
A plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) apparatus 1 is used for producing a coating member by a DC pulse plasma CVD method.例文帳に追加
プラズマＣＶＤ装置１は、直流パルスプラズマＣＶＤ法により被覆部材を製造するためのものである。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a thin film by a YAG fifth harmonic pulse laser vapor deposition, and its apparatus.例文帳に追加
ＹＡＧ第５高調波パルスレーザ蒸着による薄膜の作製方法およびその装置を提供する。 - 特許庁
To control film thickness with high accuracy by controlling the flow rate of a vapor deposition material by using a plurality of pipes.例文帳に追加
複数本の配管を用いて蒸着材料の流量を制御し、高精度な膜厚制御を行う。 - 特許庁
To provide a film-forming apparatus and a vapor deposition apparatus, of which the maintenance operation can be performed in a short period of time.例文帳に追加
メンテナンス作業を短時間で容易に行うことができる成膜装置及び蒸着装置を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL PREFORM BY MEANS OF INTERNAL VAPOR DEPOSITION PROCESS AND PREFORM PREPARED THEREBY例文帳に追加
内部蒸着プロセスによる光学予備成形物の製造方法およびそれによって得られた予備成形物 - 特許庁
The sensor 6 is formed of one selected out of a group comprising a band-like metal vapor deposition film, a band-like gold foil and a gold thin wire.例文帳に追加
ここで、センサ６は、帯状の金蒸着膜、帯状金箔、金細線のうちいずれかで形成される。 - 特許庁
The thin silicon layer may be substantially removed from the surface of the insulator during a chemical vapor deposition.例文帳に追加
シリコンの薄い層は、化学気相成長の間に絶縁体の表面から実質的に取り除かれてもよい。 - 特許庁
To provide a chemical vapor deposition apparatus and a method of forming a semiconductor epitaxial thin film using the same.例文帳に追加
本発明は、化学気相蒸着装置及びこれを利用する半導体エピ薄膜の製造方法に関する。 - 特許庁
A sintered compact comprising ≥95 wt.% germanium and tungsten is used as a target in a PVD (Physical Vapor Deposition) system.例文帳に追加
９５重量％以上のゲルマニウムとタングステンを含む焼結体をＰＶＤ装置のターゲットとして用いる。 - 特許庁
Furthermore, after eliminating the cured resin part 25 (f), a water repellent film 8 is formed by a physical vapor deposition (g).例文帳に追加
さらに、硬化樹脂部２５を除去した後（ｆ）、物理蒸着法によって、撥水膜８を形成する（ｇ）。 - 特許庁
To provide a middle coat composition for vacuum vapor deposition, the composition excellent in coating workability, designing property and adhesion.例文帳に追加
塗装作業性、意匠性および密着性に優れる真空蒸着用ミドルコート組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a vapor phase growth system that can form films with good efficiency of manufacture, and to provide a deposition method.例文帳に追加
製造効率良く成膜することができる気相成長装置および成膜方法を提供すること。 - 特許庁
In the manufacturing method, an SiGe film 11 is epitaxially grown on a main surface of an Si substrate 10 by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加
Ｓｉ基板１０の主面上にＳｉＧｅ膜１１を化学気相堆積法でエピタキシャル成長させる。 - 特許庁
LAYER STRUCTURE FOR CREATING SURFACE LAYER ON SURFACE OF SUBSTRATE, AND ARC VAPOR DEPOSITION SOURCE FOR MANUFACTURING LAYER STRUCTURE例文帳に追加
基体の表面に表面層を形成するための層組織及び層組織を製造するためのアーク蒸着源 - 特許庁
To provide a chemical vapor deposition apparatus for performing a high temperature medium CVD method, which is improved in running cost and productivity.例文帳に追加
ランニングコストや生産性を向上した高温媒体ＣＶＤ法を行う化学蒸着装置を提供する。 - 特許庁
LAYER STRUCTURE FOR FORMING SURFACE LAYER ON SURFACE OF BASE BODY, AND VAPOR DEPOSITION SOURCE FOR MANUFACTURING LAYER STRUCTURE例文帳に追加
基体の表面に表面層を形成するための層組織及び層組織を製造するための蒸着源 - 特許庁
To provide a chemical vapor deposition apparatus capable of forming crystalline silicon without a separate post-thermal treatment.例文帳に追加
結晶質シリコンを別途の後続熱処理なしに形成可能にする化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁
The polycrystalline monolithic magnesium aluminate spinels can be prepared and deposited by chemical vapor deposition.例文帳に追加
この多結晶性モノリシックアルミン酸マグネシウムスピネルは、化学蒸着によって調製し、堆積させることができる。 - 特許庁
This vapor deposition device is provided with a vacuum chamber 110 and a reactor 120 provided at the inside of the vacuum chamber.例文帳に追加
蒸着装置は真空チャンバ（１１０）と、真空チャンバの内部に設けられた反応器（１２０）とを具備する。 - 特許庁
By changing the magnetic flux density of the surface in the vapor deposition material 21, the form of the plasma beam 17 changes.例文帳に追加
蒸着材料２１表面の磁束密度を変化させることで、プラズマビーム１７の形態が変化する。 - 特許庁
To decrease the distribution of optical characteristics in the plane of an optical thin film manufactured by vacuum vapor deposition.例文帳に追加
真空蒸着により製造される光学薄膜において、光学特性の面内分布を低減すること。 - 特許庁
Moreover, the protective film is deposited on the bolometer material using physical vapor deposition as the method for depositing the protective film.例文帳に追加
また、保護膜の形成方法として、物理的な蒸着方法でボロメータ材料の保護膜を形成する。 - 特許庁
To provide an improved chemical vapor deposition silicon carbide product and a method of combining parts of the product.例文帳に追加
改善された化学気相堆積炭化ケイ素物品および該物品の部品を結合する方法が求められている。 - 特許庁
To provide a coating film for vapor deposition which is especially excellent in adhesive properties, and excellent in oxygen and steam barrier properties.例文帳に追加
接着性、酸素、水蒸気バリア性、特に接着性に優れた蒸着用被覆フィルムを提供すること。 - 特許庁
This invention relates to the silicon material for vapor phase deposition having the dialkylamino group, and a method of manufacturing a silicon-containing thin film using the material.例文帳に追加
本発明の課題は、ジアルキルアミノ基を有する気相成長用シリコン原料によって解決される。 - 特許庁
By using a combustion chemical vapor deposition method (CCVD) or the like, a perovskite type dielectric layer is formed on a textured substrate.例文帳に追加
配向基板上に、燃焼化学蒸着法（ＣＣＶＤ）などを用いてペロブスカイト系誘電層を形成する。 - 特許庁
To provide a transparent vapor deposition film having excellent gas- impermeable (barrier) properties and improved in hue.例文帳に追加
優れた気体不透過性（バリヤー性）を有し、かつ色調が改善された透明蒸着系フィルムを提供すること。 - 特許庁
VAPOR DEPOSITION METHOD FOR THIN FILM, ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加
薄膜の蒸着方法、有機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法及び電子機器 - 特許庁
MULTIFUNCTIONAL COMPOSITE FIBER BY MULTICOMPONENT SIMULTANEOUS VAPOR DEPOSITION, COMPOSITE MATERIAL POSSESSING THE SAME AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
多成分同時蒸着による多機能性複合纎維、これを具備した複合材料及びその製造方法 - 特許庁
To provide a chemical vapor deposition method for depositing a copper film in which adhesion between copper and barrier layers is improved.例文帳に追加
銅とバリア層の間の付着力を改良するために、銅膜を堆積する化学蒸着法を提供する。 - 特許庁
The capacitance insulating film 17 and the upper electrode 18 are formed by a chemical vapor deposition (CVD) method.例文帳に追加
容量絶縁膜１７及び上部電極１８は化学的気相成長（ＣＶＤ）法により形成されている。 - 特許庁
Chemical vapor deposition processes produce films having low permittivity when suitable chemical precursors are utilized.例文帳に追加
化学気相成長プロセスは適当な化学前駆体が利用されると低比誘電率を有する膜を生じさせる。 - 特許庁
To properly grow a single crystal on a seed crystal in manufacturing the single crystal by a vapor phase deposition.例文帳に追加
気相法を用いた単結晶の製造において、種結晶上に適切に単結晶を成長させる。 - 特許庁
The copper film is formed on a silicon substrate with a barrier layer formed by a plating method or a vapor deposition method.例文帳に追加
バリア層が形成されたシリコン基板上にめっき法あるいは気相堆積法により銅膜を成膜する。 - 特許庁
In the bonding wire in the electronic equipment, a polyimide film is stuck on the whole front surface of a conductive wire by a vapor deposition polymerization method.例文帳に追加
蒸着重合法により導電性ワイヤの表面全体にポリイミド膜を付着させるようにした。 - 特許庁
The ionic compound can be attached as amorphous film using a conventional vapor deposition technique.例文帳に追加
これらのイオン性化合物は、通常の蒸着技術を使ってアモルファス膜として付着させることができる。 - 特許庁
This chemical vapor deposition method is characterized by using the β-diketonate complex of the metal and an α,β-unsaturated alcohol.例文帳に追加
化学気相成長方法であって、金属のβ−ジケトネート錯体とα，β−不飽和アルコールとを用いる。 - 特許庁
A cylindrical magnet 31 is disposed on the outside periphery of an anode 30 of a co-axial vacuum arc vapor deposition source 5.例文帳に追加
同軸型真空アーク蒸着源５のアノード電極３０の外周に筒状の磁石３１を配置する。 - 特許庁
To make uniform the temperature distribution on a susceptor arranged in a reaction chamber in a vertical vapor deposition device.例文帳に追加
縦型気相成長装置において、反応室内に配置されたサセプタ上での温度分布の均一化を図る。 - 特許庁
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