「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a vapor deposition mask which can satisfactory secure its matching precision to the substrate to be vapor-deposited at ordinary temperature even upon temperature rising in a vapor deposition furnace, thus a luminescent layer can be formed at high precision with satisfactory reproducibility, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

常温時の被蒸着基板に対する蒸着マスクの整合精度を蒸着窯内における昇温時にも良好に担保でき、従って発光層を高精度に再現性良く形成できる蒸着マスク及びその製造方法を得るにある。 - 特許庁

To provide a liquid carrying device which is capable of increasing the copper vapor deposition speed, and realizing the reproducibility when a copper layer is vapor deposited by a metal-organic chemical phase vapor deposition method using a raw liquid copper in the manufacturing process of a semi- conductor element.例文帳に追加

半導体素子の製造工程中、銅液体原料を用いて金属−有機化学気相蒸着法で銅層を蒸着する時、銅の蒸着速度を増大させるとともに、再現性を具現することのできる液体運送装置を提供すること。 - 特許庁

A connection pipe 21 is connected to a vapor deposition source 10 for evaporating an organic electroluminescence material 1, and two branch pipes 22a, 22b are directed two objects for film deposition comprising substrates 31a, 31b and masks 32a, 32b to deposit an organic vapor deposition film.例文帳に追加

有機エレクトロルミネッセンス材料１を蒸発させるための蒸着源１０に接続パイプ２１を接続し、２つの分岐パイプ２２ａ、２２ｂを基板３１ａ、３１ｂとマスク３２ａ、３２ｂからなる２つの被成膜物に向けてそれぞれ有機蒸着膜形成を行う。 - 特許庁

To provide a catalytic chemical vapor deposition method and a catalytic chemical vapor deposition device in which the control of a substrate temperature can easily be performed without the limitation of substrate materials, the efficiency of energy is high while increasing a thin film deposition rate, and the stabilization of film performance is possible.例文帳に追加

基板材料の制約がなく、基板温度の制御が容易にでき、薄膜形成速度を増大させながらエネルギー効率がよく、皮膜性能の安定化が可能な触媒化学気相成長方法および触媒化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

In the active matrix substrate, an oblique vapor deposition film composed of a plurality of layers 31, 33 is deposited on a pixel electrode 30, wherein a deposition angle of the layer 31 is closer to vertical than that of the layer 33 and the oblique vapor deposition directions of them are equal to each other.例文帳に追加

アクティブマトリクス基板において、画素電極３０の上には複数層３１、３３からなる斜方蒸着膜を形成し、層３１の蒸着角度は、層３３の蒸着角度よりも垂直に近い角度であり、かつ斜方蒸着の方向は同じである。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition method which is capable of yielding a uniform vapor deposited layer on a material to be deposited by evaporation without being affected by the material for vapor deposition adhered near to an electronic gun and being affected by the vapor of evaporated particles and without requiring excess energy and a system for the same.例文帳に追加

電子銃付近の付着蒸着材料による影響ならびに蒸発粒子の蒸気による影響を受けず、余分なエネルギーを要することなく、均一な蒸着層を被蒸着材料の上に得ることができる真空蒸着方法とその装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method of suppressing a splash during vapor-deposited film formation is characterized in using tantalum oxide of ≤30 ppm in antimony content as the tantalum oxide when the vapor deposition material containing the tantalum oxide is vaporized and the vaporized matter is deposited on the object of vapor deposition to form the vapor-deposited film.例文帳に追加

酸化タンタルを含む蒸着材料を蒸発させ、発生した蒸発物を被蒸着物上に析出させて蒸着膜を形成するに際し、前記酸化タンタルとして、アンチモン含有量が３０ｐｐｍ以下の酸化タンタルを使用することを特徴とする蒸着膜形成時のスプラッシュの発生を抑制する方法。 - 特許庁

The vapor deposition material 3 on the doughnut-shaped flat plate 2 on each layer is heated by heaters 12 surrounding the crucible 1 to generate vapor from the vapor deposition material 3, and the vapor is made to flow through a flow space A on each layer into a vertical flow path B and discharged from an opening 10a at the top of the flow path B toward a substrate to be deposited.例文帳に追加

ルツボ１を囲むヒーター１２の加熱により各段のドーナツ型平板２上の蒸着材料３から発生する蒸気を、各段の流動スペースＡを経て上下方向の流動路Ｂに流動させ、その上端の開口部１０ａから被蒸着基板に向かって放出する。 - 特許庁

The chemical vapor deposition apparatus 1 is mainly composed of a reactor 2, heater 3, a substrate tray, a susceptor 5, a base plate, a rotation generating part, a revolution generating part, a vapor introduction port 8 and a vapor discharge port 9.例文帳に追加

化学気相成長装置１は、主に反応器２、ヒータ３、基板トレイ、サセプタ５、ベースプレート、自転発生部、公転発生部、気体導入口８および気体排出口９から構成されている。 - 特許庁

By the configuration, the second deposition prevention plate 19, during the vapor deposition, is sufficiently heated by the radiant heat emitted from the boat 11, accordingly, the metal vapor is less likely to be solidified on a surface of the second deposition prevention plate 19, and thus an evaporated metal rarely adheres to the second deposition prevention plate 19.例文帳に追加

この構成により、蒸着時に第２の防着板１９はボート１１からの輻射熱にて十分に熱を帯びた状態となっているため、金属蒸気は第２の防着板１９の表面上では固化しにくく、第２の防着板１９に蒸着金属が付着することはほとんどないものとなる。 - 特許庁

The host material is deposited to a substrate W by a vacuum deposition method capable of performing high speed-high precision film deposition, and the guest material is deposited to the substrate W by an OVPD (Organic Vapor Phase Deposition) method which exhibits excellent concentration controllability.例文帳に追加

高速かつ高精度の成膜が可能な真空蒸着法によりホスト材を基板Ｗに付着し、また濃度制御性に優れたＯＶＰＤ法によりゲスト材を基板Ｗに付着する。 - 特許庁

To provide a coaxial type vacuum arc deposition source which can obtain stable initial discharge by bringing a vapor deposition material into tight-contact with an insulating member, and to provide a vacuum deposition system provided therewith.例文帳に追加

蒸着材料と絶縁部材との間を密着させて安定した初期放電を得ることができる同軸型真空アーク蒸着源及びこれを備えた真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

A peeling layer is formed by the sputtering target 5, and by film deposition by an arc evaporation source 4 while introducing reactive gas and film deposition by vapor deposition from the crucible 3, a dielectric stacked film is formed.例文帳に追加

スパッタリングターゲット５によって剥離層を形成し、反応性ガスを導入しながらアーク蒸発源４による成膜とルツボ３からの蒸着成膜によって誘電体積層膜を形成する。 - 特許庁

This apparatus for film deposition is provided with a plurality of film deposition means (a pulse generator 11, an arc power source 12, a cathode gun 3) comprising a pulse arc vapor deposition source utilizing the cathodic vacuum arc system.例文帳に追加

カソ−ディックバキュームアーク方式を利用したパルスアーク蒸着ソースよりなる複数の成膜手段（パルス発生器１１，アーク電源１２，カソード銃３）を備えるように成膜装置を構成する。 - 特許庁

A vacuum film deposition apparatus 1 executes the film deposition by performing the vapor deposition of a sublimation material to be sublimed on at least one side of a synthetic resin-made film 7 in a vacuum vessel under the vacuum atmosphere.例文帳に追加

本発明の真空成膜装置１は、真空雰囲気下にある真空室内において合成樹脂フィルム７の少なくとも一方の面に昇華される昇華材料を蒸着して成膜する。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition apparatus capable of consistently depositing a thin film formed of a vapor deposition material consisting of a metal material of high melting point or a non-sublimation material on an object for film deposition.例文帳に追加

高融点の金属材料または非昇華性材料からなる蒸着性材料からなる薄膜を被成膜体に対して安定して形成することが可能な真空成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a deposition shadow mask for an electronic device having an encapsulation structure which is free of burrs or like other scums appearing on a film in the deposition of vapor deposition polymerization film of polyparaxylylene, etc.例文帳に追加

ポリパラキシリレンなどの蒸着重合膜の成膜においてバリなど膜に浮きが出たりしない封止構造を有する電子デバイスの製造方法及び成膜用シャドウマスクを提供する。 - 特許庁

A release layer is formed by the sputtering target 5, and, while introducing a reactive gas, a dielectric laminated film is formed by film deposition by the arc evaporation source 4 and film deposition by vapor deposition from the crucible 3.例文帳に追加

スパッタリングターゲット５によって剥離層を形成し、反応性ガスを導入しながらアーク蒸発源４による成膜とルツボ３からの蒸着成膜によって誘電体積層膜を形成する。 - 特許庁

To provide an apparatus of oblique vapor deposition, which forms such a vapor deposited film even on a particularly large and thin substrate as to have uniform distribution of film thickness and depositing angles, allows a simultaneous vapor deposition on several substrates, is superior in productivity and maintenance, and further allows miniaturization of the apparatus, and to provide a method of oblique vapor deposition.例文帳に追加

特に大型で薄型の基板であっても、膜厚分布および蒸着角度分布が均一となるように蒸着膜を形成することができ、しかも同時に複数枚の基板に対して蒸着処理が可能であり、生産性に優れ、さらに装置の小型化を図ることができ、メンテナンス性にも優れた斜め蒸着装置および斜め蒸着方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an evaporation source for an organic material with which the control of a heating temperature and an evaporation rate at the time of vapor deposition can be correctly performed with high responsibility, and to provide an organic vapor deposition system using the same.例文帳に追加

蒸着時における加熱温度及び蒸発速度の制御を正確且つ応答性良く行うことが可能な有機材料用蒸発源及びこれを用いた有機蒸着装置を提供する。 - 特許庁

Then, the total thickness of the vapor deposition layer 3b and a sputtering layer 3c formed by the sputtering is made to be 25-50 nm, and the thickness of the vapor deposition layer 3b is made to be 40-90% of the total thickness.例文帳に追加

そして蒸着層３ｂの厚みと上記のスパッタリングにより形成したスパッタ層３ｃとの合計厚みを２５〜５０ｎｍにすると共に、蒸着層３ｂの厚みをこの合計厚みの４０〜９０％にする。 - 特許庁

To reduce undercut caused by wet etching and to improve the working precision at the time of forming a surface wave element aluminum vapor deposition film or aluminum alloy vapor deposition film electrode by applying lithography technology to a thin film formed on the film surface on a substrate and executing etching with the formed resist pattern and a thin film fine pattern as masks.例文帳に追加

表面波素子、中でも表面波共振器電極形成プロセスでは、アルミニウム電極、アルミニウム蒸着膜厚が１μｍから２μｍで、線幅２μｍから５μｍに対して厚い。 - 特許庁

A vapor-deposition material 111 adhering to components such as a substrate holder 102, a vapor-deposition mask 104, a mask holder 104, or an adhesion preventing shield 106 provided in a film-forming chamber 101 is subjected to heat treatment.例文帳に追加

成膜室１０１内に設けられた基板ホルダ１０２、蒸着マスク１０４、マスクホルダ１０５もしくは防着シールド１０６といった部品に付着した蒸着材料１１１に対して加熱処理を行う。 - 特許庁

To provide a film thickness measuring method capable of measuring the thickness of a deposited thin film over a wider range, and to provide a vacuum vapor deposition apparatus and a vacuum vapor deposition method for depositing a thin film of the uniform thickness.例文帳に追加

成膜した薄膜の膜厚を従来より広い範囲で測定できる膜厚測定方法と、均一な膜厚の薄膜を成膜する真空蒸着装置及び真空蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor-deposition apparatus which can easily give the optimal uniformity to the thickness of a film formed from each film-forming material, by making the exponent dependency of a direction cosine in a physical vapor-deposition film formation reflected in the apparatus.例文帳に追加

物理蒸着成膜における方向余弦の冪指数依存性を蒸着装置に反映させ、成膜材料ごとに最適な成膜膜厚均一性を容易に実現できる装置を提供する。 - 特許庁

The gas barrier film is constituted by providing a barrier vapor deposition layer having a smooth surface at least on one side of a base material film and laminating an acid-resistant protective layer having a smooth surface on the barrier vapor deposition layer.例文帳に追加

基材フィルムの少なくとも一方の面に、平滑表面を有するバリア性蒸着層と、このバリア性蒸着層上に積層された平滑表面を有する耐酸性の保護層と、を備えるものとする。 - 特許庁

To realize long-term reliability by improving the electrical characteristics caused by structure of an oblique vapor deposition alignment film, while alignment characteristics by the oblique vapor deposition alignment film is maintained and by suppressing conduction of ions and the like through the alignment film.例文帳に追加

斜方蒸着配向膜による配向特性を維持したまま、その膜構造に起因する電気的な特性を改善し、イオン等が配向膜を導通することを抑制して長期信頼性を実現する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition mask which realizes elimination of the influence of radiation heat on the positional accuracy of opening patterns formed at a mask body, and consequently realizes formation of vapor deposition patterns with satisfactory positional accuracy.例文帳に追加

マスク本体に形成された開口パターンの位置精度に対する複写熱の影響を排除することが可能で、位置精度の良好な蒸着パターン形成を行うことが可能な蒸着マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an antireflective film in which introduction of oxygen is unnecessary by sintering silicon oxide (oxidation degree 1) in air in advance when the silicon oxide is used as a vapor deposition source for obtaining a vapor deposition film of the silicon oxide.例文帳に追加

酸化ケイ素の蒸着フィルムを得る際の蒸着源とおいて、事前に酸化ケイ素（酸化度１）を大気下で焼結しておくことにより、酸素の導入が必要なくなる製造方法について提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition film roll excellent in gas barrier properties against oxygen and steam and uniform in gas barrier properties, a covering film roll developing gas barrier properties as a base material of vapor deposition and having uniform characteristics in its covering layer.例文帳に追加

酸素、水蒸気のガスバリア性に優れ、かつガスバリア性が均一な蒸着フィルムロール、および、その蒸着の基材として、ガスバリア性が発現し、かつ被覆層の特性が均一な被覆フィルムロールを提供する。 - 特許庁

To obtain a high degree of cleaning while removing a vapor deposition substance in a complete non-contact state to a substrate when cleaning is performed to remove the vapor deposition substance sticking to a mask for an organic EL.例文帳に追加

有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、高い洗浄度を得ることを目的とする。 - 特許庁

A superior corrosion resistance of a Mylar film 23 prevents the aluminum vapor deposition films 232 which does not face the outside from being corroded, and the shading function and the static electrostatic shielding function are secured by the inside three aluminum vapor deposition layers 232.例文帳に追加

マイラ膜231 の優れた耐腐食性によって、外部に面していないアルミ蒸着層232 が腐食されることはないので、内部の３層のアルミ蒸着層232 で遮光機能と静電気シールド機能とが確保される。 - 特許庁

To provide a method of forming a gate electrode of a high-density integrated memory device formed on a tungsten nitride film (WN) by chemical vapor deposition rather than physical vapor deposition.例文帳に追加

窒化タングステン膜（ＷＮ）上で物理的蒸着法（ＰＶＤ）でない化学気相蒸着法（ＣＶＤ）で形成されたタングステンをゲート電極で用いる高集積メモリ素子のゲート電極形成方法を提供する。 - 特許庁

In relation to the oblique vapor deposition film on the active matrix substrate surface between pixel electrodes, a plurality of layers may be arranged with level differences, or may be formed so as to have inclined surfaces by controlling the vapor deposition angle.例文帳に追加

画素電極間のアクティブマトリクス基板面上の斜方蒸着膜は複数の層が段差状に設けることができるが、蒸着角度制御により表面が傾斜するように形成されるようにしてもよい。 - 特許庁

Since an organic polymer layer 402 and a bias electrode 401 are formed successively in a coating process, processes are need not to change such as a vapor deposition process-coating process-vapor deposition process to simplify the processes.例文帳に追加

有機高分子層402とバイアス電極401とを連続して塗布工程で成膜されるので、蒸着工程・塗布工程・蒸着工程というような工程を入れ替える必要が無く、工程の簡略化が図れる。 - 特許庁

To provide a vapor deposition film strong in adhesion having an antistatic capacity as a gas barrier film yielding no delamination by increasing the adhesion of an electrically chargeable plastic substrate and a vapor deposition film.例文帳に追加

本発明は、帯電性プラスチック基材と蒸着膜の密着を強化し、デラミネーションの発生しないガスバリア性フィルムとしての帯電防止性能を有する強密着蒸着フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus which can prevent fixing of a cover plate with a shower plate from occurring due to a reaction product produced in a gap part, when the cover plate is provided on the shower plate, and to provide a vapor deposition method therefor.例文帳に追加

シャワープレートにカバープレートを設ける場合に、隙間部分における反応生成物の生成によるシャワープレートとカバープレートとの固着を防止し得る気相成長装置及び気相成長方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus capable of inhibiting contamination in the vapor deposition apparatus and of suppressing the reduction in characteristics and yield of a wafer to be processed, and a semiconductor device constituted using such a wafer.例文帳に追加

本発明は、気相成長装置内の汚染を抑え、被処理ウェーハおよびこれを用いて構成される半導体装置の特性、歩留りの低下を抑えることが可能な気相成長装置を提供する。 - 特許庁

The apparatus includes a barrier wall 2, which separates, from the viewpoint of pressure, a plasma emitting unit 103 of a hollow cathode plasma gun 3 from a vapor deposition chamber 101 as well as has a hole 21 allowing the plasma to pass through to the vapor deposition chamber 101.例文帳に追加

ホローカソード型プラズマガン３のプラズマ放出部１０３と蒸着室１０１との間を圧力的に仕切りかつプラズマが蒸着室１０１へ通過可能な孔２１を有する隔壁２を有する。 - 特許庁

This anti-falsification paper is characterized as forming the thread 10 provided with the vapor deposition layer 12 having the brightness formed on a transparent support film 11 and a printed layer 13 formed on the vapor deposition layer 12 into a pattern in a pulp base paper 14.例文帳に追加

透明支持体フィルム１１上に光輝性を有する蒸着層１２、該蒸着層に印刷層１３を設けたスレッド１０をパルプ基紙１４に抄き込んだことを特徴とする偽造防止用紙。 - 特許庁

After an antireflection film is formed on a substrate surface by vacuum vapor deposition, oxygen or argon is introduced to carry out plasma treatment, and then a stain proof layer is formed by vacuum vapor deposition of a fluorine-containing organic silicon compound.例文帳に追加

真空蒸着によって基板表面に反射防止膜を形成後、酸素もしくはアルゴンを導入してプラズマ処理を行い、その後、フッ素含有有機ケイ素化合物を真空蒸着して防汚層を形成する。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition material having excellent preservation stability and further capable of obtaining a ruthenium film of high quality, and to provide a simple method for forming a ruthenium film using the chemical vapor deposition material.例文帳に追加

長期間の保存安定性に優れ、しかも良質なルテニウム膜を得ることができる化学的気相材料及びその化学的気相材料を用いてルテニウム膜を形成する簡易な方法の提供。 - 特許庁

The drip film 1 can be easily manufactured by placing a mask having a hole of the diameter of 2 mm, performing the vapor deposition of the carbon vapor deposition film 3 from an upper surface thereof, and removing the mask.例文帳に追加

この点滴フイルム１は上記ポリプロピレンフイルム上に、直径２ｍｍの孔を有するマスクを載せ、その上面からカーボン蒸着膜３を蒸着した後、マスクを取り外すことにより容易に製作することができる。 - 特許庁

By utilizing the neutral-beam-utilizing atomic layer vapor deposition apparatus and the atomic layer vapor deposition method utilizing the apparatus, it is possible to practice the steps without damages due to charging.例文帳に追加

本発明による中性ビームを利用した原子層蒸着装置及びこの装置を利用した原子層蒸着方法を利用することによって、チャージングによる損傷なしに工程を実行することができる。 - 特許庁

To provide a magnesium oxide vapor-deposition material advantageously usable for forming a magnesium oxide film useful as a protective film for the dielectric layer of an alternating current type plasma display panel by an electron beam vapor-deposition method.例文帳に追加

交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体層の保護膜として有用な酸化マグネシウム膜を、電子ビーム蒸着法により形成するのに有利に用いることのできる酸化マグネシウム蒸着材を提供する。 - 特許庁