「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a vapor deposition system capable of forming an emitter of homogeneous quality over the whole body of a substrate correspondingly to a large-sized substrate.例文帳に追加

大型基板に対応して基板全体で均等な品質のエミッタを形成し得る蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The region where the metallic vapor deposition film is formed is confined adequately to a region of a width 1 to 3 mm of the transverse end 1a.例文帳に追加

金属蒸着膜の形成領域は、好適には、幅方向端部１ａの幅１〜３ｍｍの領域とする。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus which extends the usable life of a film thickness monitor and makes the tact time, the product yield rate, and the manufacturing cost appropriate.例文帳に追加

膜厚モニターの使用寿命をより長くして、タクトタイム、製品歩留率、製造コストを適正なものとする。 - 特許庁

To provide a reactor for performing a high-frequency type plasma-reinforced chemical vapor deposition, and to provide a method for embodying the same.例文帳に追加

高周波型プラズマ強化化学気相堆積を行う反応装置及びそれを実施する方法を提供する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING VAPOR PHASE DEPOSITION FILM, METHOD FOR MANUFACTURING RADIATION IMAGE CONVERSION PANEL例文帳に追加

気相堆積膜の製造方法および気相堆積膜の製造装置並びに放射線像変換パネルの製造方法 - 特許庁

The polyester composite monofilament can be used for shielding electromagnetic waves by being woven into a mesh fabric and then carrying out vapor-deposition of nickel or copper on the surface.例文帳に追加

またメッシュ織物とし、ニッケル又は銅にて表面を蒸着し、電磁波シールド用に用いることができる。 - 特許庁

To deposit a metallic layer brought into ohmic contact with a semiconductor substrate more easily and inexpensively compared to the case of a method by vapor deposition.例文帳に追加

半導体基板とオーミック接触する金属層を、蒸着による方法と比べて、容易に、安価に形成する。 - 特許庁

The upper and lower covering sheets 2 are integrated with the liquid holding body 1 in a state wherein the metal vapor deposition layer 6 is exposed outside.例文帳に追加

金属蒸着層６が外面に露出する状態で、上下の被覆シート２を保液体１と一体化する。 - 特許庁

To provide a metal mask capable of forming a precise pattern film as a metal mask for vapor deposition for an organic EL display or the like.例文帳に追加

有機ＥＬディスプレイ等の蒸着用メタルマスクとして、高精度なパターン成膜が可能なメタルマスクを提供する。 - 特許庁

ORGANOZIRCONIUM COMPOUND FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND RAW MATERIAL SOLUTION FOR FORMING PZT THIN FILM COMPRISING THE SAME COMPOUND例文帳に追加

有機金属化学蒸着用有機ジルコニウム化合物及び該化合物を含むＰＺＴ薄膜形成用原料液 - 特許庁

A seed substrate is arranged to face a formation substrate, and then a gas containing silicon is introduced to conduct reduced pressure chemical vapor deposition.例文帳に追加

被形成基板の対面に種基板を配置し、シリコンを含むガスを導入し減圧化学気相成長を行う。 - 特許庁

A CMP method is preferable for removing the oblique vapor deposition layer precursor 18a' covering the stopper layer 110.例文帳に追加

ストッパー層１１０ａを覆う斜方蒸着層前駆体１８ａ’の除去にはＣＭＰ法が好適な手段となる。 - 特許庁

To provide a device and method for evaporating metal-containing precursors for chemical vapor deposition (CVD) at a constant concentration.例文帳に追加

化学蒸着（ＣＶＤ）用金属含有前駆体を一定濃度で蒸発させる装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a silicon dioxide film on a substrate through chemical vapor deposition of silane oxide precursors.例文帳に追加

シラン酸化物前駆体の化学気相成長によって基材上に酸化ケイ素膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION MATERIAL, MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL USING THE SAME, AND MANUFACTURING METHOD OF PLASMA DISPLAY DEVICE例文帳に追加

蒸着材料、該蒸着材料を用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマ表示装置の製造方法 - 特許庁

In order to remove the overhung part of the physical vapor deposited film, after liner/barrier/seed (110, 112 and 214) deposition, sputter etching is conducted.例文帳に追加

物理気相堆積膜のオーバハング部分を除去するために、ライナー／バリア／シード堆積（110,112,214）後に、スパッタエッチングが行なわれる。 - 特許庁

Multiple containers 1 house the vapor deposition material which is a raw material of the thin film to be formed on the substrate 6.例文帳に追加

複数の容器１は、基板６の表面に形成する薄膜の原料である蒸着材料を収容する。 - 特許庁

To reduce maintenance time resulting from aluminum scattered in a product chamber part (3) of an electron beam (EB) aluminum vapor deposition apparatus (1).例文帳に追加

ＥＢアルミ蒸着装置（１）のプロダクトチャンバー部（３）内に飛散したアルミニウムに起因するメンテナンス時間の短縮を図る。 - 特許庁

In the form of this embodiment, the convex-flat lens 11 is a machined synthetic quartz and the vapor-deposition material is SiO_2.例文帳に追加

この実施の形態においては、凸平レンズ１１は合成石英を加工したものであり、蒸着物質はSiＯ_2である。 - 特許庁

Through these dry etching processes, a vapor deposition surface of a negative electrode 107 corresponding to the layer 103 was exposed.例文帳に追加

これらのドライエッチング工程で、ｎ型半導体層１０３に対する負電極１０７の蒸着面が露出された。 - 特許庁

To further extend service life of a vapor deposition boat by relieving the degree and pattern of groove formation on an evaporation surface.例文帳に追加

蒸発面での溝形成の程度及びパターンを緩和することによって蒸着ボートの有効寿命をさらに延ばす。 - 特許庁

The films 11, 12 are formed by subjecting heat sealable films, to which aluminum vapor deposition is applied, to a drawing process.例文帳に追加

フィルム１１，１２は、アルミ蒸着が施されたヒートシール可能なフィルムをしぼり成形加工することにより形成される。 - 特許庁

In certain embodiments, the process temperature is maintained at a temperature of about 350°C or lower during the chemical vapor deposition to fill the feature.例文帳に追加

或る実施例に於いて、工程温度は特徴部充填の化学蒸着の間約３５０°Ｃ以下に維持される。 - 特許庁

A distance regulating unit 12 is provided on a chamber inner face 11 in a chamber 10 of the plasma vapor deposition apparatus 1.例文帳に追加

プラズマ蒸着装置１のチャンバ１０におけるチャンバ内側面１１に距離調整部１２が設けられている。 - 特許庁

Diisopropyl divinylsilane, diaryldivinylsilane or the like is used as the material of an insulating film and film is formed through plasma CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

絶縁膜材料として、ジイソプロピルジビニルシラン、ジアリルジビニルシランなどを用い、プラズマＣＶＤ法によって成膜する。 - 特許庁

To provide an optical beam scanner having a mirror of which the reflectance is more highly efficient than that of a mirror which is made by a metal vapor deposition method.例文帳に追加

金属蒸着などの方法によるミラーよりも反射が高効率であるミラーを有する光ビームスキャナである。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RAW MATERIAL SOLUTION FOR FORMING PZT FILM BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD AND PZT FILM-FORMING METHOD例文帳に追加

化学気相成長法によるＰＺＴ成膜用の原料溶液の製造方法およびＰＺＴ膜の形成方法 - 特許庁

To provide a method for producing a fiber reinforced ceramics member capable of reducing electric power used and upgrading a vapor deposition apparatus.例文帳に追加

使用電力の低減、および蒸着装置の向上を計ることができる繊維強化セラミックス部材の製造方法。 - 特許庁

A mask 22 is arranged so as to extremely be close to the substrate 14 for forming the pattern vapor deposition on the substrate 14.例文帳に追加

マスク２２は、パターン蒸着を基板１４上に形成するために、基板１４に極めて近接して配置される。 - 特許庁

The region where the metallic vapor deposition film is formed is confined to a region of a width 1 to 3 mm of the transverse end 1a.例文帳に追加

金属蒸着膜の形成領域は、好適には、幅方向端部１ａの幅１〜３ｍｍの領域とする。 - 特許庁

A raw material film 12 is charged to be adhered to a can-roller 14 before vapor deposition of the metal film.例文帳に追加

金属膜の蒸着前においては、原料フィルム１２を帯電させることによりキャンローラ１４へ密着させる。 - 特許庁

A photoelectric current multiplication layer 1 is a vapor deposition film wherein photoconductive organic semiconductor is doped with a different kind of materials.例文帳に追加

光電流増倍層１は光導電性有機半導体に異種材料を添加（ドーピング）した蒸着膜である。 - 特許庁

SYSTEM FOR CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AT AMBIENT TEMPERATURE USING ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE AND METHOD FOR DEPOSITING METAL COMPOSITE USING THE SAME例文帳に追加

電子サイクロトロン共鳴を利用した常温化学蒸着システム及びこれを利用した複合金属膜の製造方法 - 特許庁

To provide a method for depositing inorganic SiO_2 film at a low temperature using plasma-enhanced chemical vapor deposition method.例文帳に追加

プラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）を用いて低い温度で無機ＳｉＯ_2膜を堆積する方法を提供する。 - 特許庁

The metal-organic chemical vapor deposition apparatus includes a reaction chamber, a rotation stand, a wafer susceptor 206a, a heater and a shower head.例文帳に追加

当該有機金属化学気相堆積装置は、反応室、回転スタンド、ウエハサセプタ２０６ａ、ヒーター、シャワーヘッドを含む。 - 特許庁

A plasma reinforced chemical vapor deposition process is applied to deposit a thin fluorocarbon layer on a surface of the substrate.例文帳に追加

プラズマ増強化学蒸着プロセスを適用することにより、薄いフルオロカーボン層を基板の表面上に堆積させる。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GaN CRYSTALLINE THIN FILM BY SOLID TARGET PULSE LASER VAPOR DEPOSITION METHOD, AND THIN FILM MANUFACTURED BY THE METHOD例文帳に追加

固体ターゲットパルスレーザ蒸着法によるＧａＮ結晶性薄膜の作製方法及び同法で作製した薄膜 - 特許庁

The method for repairing a turbine member uses an ion enhanced physical vapor deposition to deposit a repairing material on a Ti alloy turbine component.例文帳に追加

イオン強化物理蒸着が、Ｔｉ合金タービン部品上に修理材料を堆積させるのに使用される。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING NITRIDE SEMICONDUCTOR, VAPOR DEPOSITION DEVICE FOR THE NITRIDE SEMICONDUCTOR, NITRIDE SEMICONDUCTOR WAFER AND NITRIDE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

窒化物半導体の製造方法、窒化物半導体用気相成長装置、窒化物半導体ウェハ、窒化物半導体デバイス - 特許庁

A CFRP-made reinforcing sheet 6 may be fixed to the vapor deposition mask 4 by thermal fusion bonding by laser irradiation.例文帳に追加

蒸着用マスク４にＣＦＲＰ製の補強板６をレーザー照射による熱融着によって固着してもよい。 - 特許庁

In the aluminum vapor deposition part 6, a hologram pattern 5' formed by the hologram forming layer 5 can maintain the brightness.例文帳に追加

アルミ蒸着部６において、ホログラム形成層５により形成されるホログラム図柄５’は輝度を保持することができる。 - 特許庁

The inorganic oxide vapor deposition layer has at least one of aluminum oxide, silicon oxide and magnesium oxide as a component.例文帳に追加

無機酸化物蒸着層（２）は酸化アルミニウム、酸化硅素、酸化マグネシウムの少なくとも１種類を成分とし持っている。 - 特許庁

After a clamping bolt 1 made of alloy steel is subjected to alkaline degreasing and cleaning, Al is vapor-deposited onto the bolt by vacuum deposition.例文帳に追加

合金鋼製の締付けボルト１に、アルカリ脱脂洗浄を施した後、真空蒸着によってＡｌを蒸着する。 - 特許庁

Thus, the state of the plasma for vapor deposition 10 is stably controlled by controlling the ion beam 9.例文帳に追加

よって、イオンビーム９を制御することにより、蒸着用プラズマ１０の状態を安定的に制御することができる。 - 特許庁

UV CURABLE PRIMER COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PRIMER COATING FILM FOR METAL VAPOR DEPOSITION AND LAMP REFLECTING MIRROR FOR AUTOMOBILE例文帳に追加

紫外線硬化型下塗り液組成物、金属蒸着用下塗り塗膜の形成方法、自動車用ランプ反射鏡 - 特許庁