「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(49ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an oblique vapor deposition substrate which can suppress variations in alignment characteristic among pixel parts and from which the pixel parts are easily cut out when they are cut out from the oblique vapor substrate.例文帳に追加

画素部同士の配向特性のばらつきを抑制することができ、且つ、画素部を斜方蒸着基板から切り出す際の作業も容易な斜方蒸着基板を提供する。 - 特許庁

ELECTRON BEAM VAPOR DEPOSITION SYSTEM, METHOD FOR DEPOSITING VAPOR DEPOSITED FILM ON THE SURFACE OF SUBSTRATE USING THE SYSTEM, PIERCE TYPE ELECTRON GUN, AND METHOD FOR MONITORING BEAM STATE OF PIERCE TYPE ELECTRON GUN例文帳に追加

電子ビーム蒸着装置、当該装置を用いて行う基板の表面への蒸着被膜の形成方法、ピアス式電子銃、および、ピアス式電子銃のビーム状態のモニタ方法 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL device in which using efficiency of vapor-deposited material when organic functional layer is formed by vapor deposition is raised and control of membrane thickness is made easier.例文帳に追加

蒸着によって有機機能層を形成する際の、蒸着材料の使用効率を高め、膜厚の制御を容易とした、有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

An evaporation source houses a vapor deposition material 17 therein, and is constituted of a crucible 14 having a nozzle 16 to discharge vapor 15 to the outside and a heater 13 to heat the crucible 14.例文帳に追加

蒸発源は蒸着材料１７を収容し、蒸気１６を外部に放出するノズル１６を有する坩堝１４と、坩堝１４を加熱するヒーター１３で構成されている。 - 特許庁

To form a dense vapor deposition film free from damage and to easily form a desired dielectric film even in the case a dielectric material is used as a vapor depositing material.例文帳に追加

緻密で損傷の無い蒸着膜を形成するとともに、蒸着材料に誘電体材料を用いた場合でも所望の誘電体膜を容易に形成できるようにする。 - 特許庁

To suppress the generation of a splush in a vapor deposited material stored in a crucible for vapor deposition at the time of film-forming a thin film magnetic layer on a recording medium such as a magnetic tape under a vacuum.例文帳に追加

磁気テープなどの記録媒体に真空中で薄膜磁性層などを膜付けする際に、蒸着用ルツボ内に収容した蒸着材料のスプラッシュの発生を抑制する。 - 特許庁

In this way, the distribution and variation of the thickness of the vapor deposition film in the film running direction are reduced to stabilize it, by which the yield of the production and the efficiency of utilizing the vapor depositing material are improved.例文帳に追加

これにより、蒸着膜厚のフィルム走行方向での分布やバラツキを低減して安定化を図ることにより、製品歩留まりと蒸着材料利用効率を向上させる。 - 特許庁

The open-cage fullerene 17 with its opening kept oriented outwardly is vapor-deposited on an electrode rod 15 by effecting the vapor deposition while applying a positive voltage to the electrode 15.例文帳に追加

そして電極棒１５に正の電圧を印加しながら蒸着することにより、開口フラーレン１７の開口部が外側に配向した状態で電極棒１５に蒸着する。 - 特許庁

To obtain a more brilliant pattern in a vapor-deposited film for package prepared by forming an odd-shaped pattern by embossing a vapor deposition layer formed on the surface of a substrate film.例文帳に追加

基材フィルムの表面に形成した蒸着層に型押しを施して凹凸模様を形成する包装用蒸着フィルムにおいて、より鮮やかな模様が得られるようにする。 - 特許庁

A vapor-deposited metallic film 2 is provided on the surface of the lens, and an silicon oxide membrane 4 shaped into graphics, a pattern, a logotype, or the like is formed in some places of the metallic film 2 by vapor deposition.例文帳に追加

レンズ表面には蒸着した金属膜２を設け、該金属膜２の所々には図形、模様、又はロゴ等を象った酸化ケイ素膜４を蒸着して形成している。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for vapor phase deposition that improve the uniformity in film thickness and impurity concentration over the whole surface of a vapor phase deposited film formed on a wafer.例文帳に追加

ウェハ上に成膜される気相成長膜の全面における膜厚や不純物濃度の均一性を向上させる気相成長装置及び気相成長方法を提供する。 - 特許庁

In a thin film production method to a metal powder sintered porous body substrate, an oxide thin film 8 is deposited on a polished face of a metal powder sintered porous body substrate 6 by a CVD (Chemical Vapor Deposition) process and/or a PVD (Physical Vapor Deposition) process, and thereafter, the deposition of a film 9 is performed thereon by a liquid phase process.例文帳に追加

金属粉末焼結多孔体基板６を研磨加工した面上にＣＶＤ法および／またはＰＶＤ法にて酸化物薄膜８を成膜した後、その上に液相法により成膜９を行うことを特徴とする金属粉末焼結多孔体基板への薄膜製造方法。 - 特許庁

The vacuum film deposition system where a film is deposited by vapor deposition on a substrate 10 in a vacuum by using a mask having a prescribed pattern formed comprises a moving means of moving a vapor deposition source 22 relative to and in parallel with the substrate 10 in a plurality of different directions.例文帳に追加

本発明の真空成膜装置は、所定のパターンが形成されたマスクを介して真空中で基板１０上に蒸着によって成膜を行う真空成膜装置において、当該蒸着を行うための蒸着源２２を、基板１０に対し、異なる複数の方向へ相対的に平行移動させる移動手段を有する。 - 特許庁

To provide a gas supply unit and a chemical vapor deposition apparatus with which by-products resulting from a chemical vapor deposition process is immediately exhausted, so that a high quality thin film is deposited on the surface of a deposition object, a cleaning cycle for the inside of a chamber is extended, for greater productivity.例文帳に追加

本発明は、化学気相蒸着工程時に発生する反応副産物を素早く排出することにより、被蒸着体の表面に高品質の薄膜を形成でき、チャンバ内部のクリーニングサイクルが延ばされ、生産性を向上させることができるガス供給ユニット及び化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁

In the birefringent plate 1, a substrate film 3 consisting of a vacuum deposition film, an oblique vapor deposition film 4 consisting of a metal oxide film of, e.g. tantalum pentoxide (Ta2O5) to which double refractivity is imparted by an oblique vapor deposition method, and an antireflection coating 5 are formed on the surface of a transparent glass substrate 2 in this order.例文帳に追加

複屈折板１では、透明なガラスの基板２の表面に、真空蒸着膜からなる下地膜３、斜め蒸着法により複屈折性が付与された五酸化タンタル（Ｔａ__2Ｏ_5）等の金属酸化膜からなる斜め蒸着膜４、および反射防止膜５がこの順に形成されている。 - 特許庁

To provide an oxide vapor deposition material enabling stable manufacturing of a transparent conductive film having low resistance and high optical transparency even if a low oxygen amount is introduced during film deposition, the transparent conductive film manufactured by using the oxide vapor deposition material, and a solar cell using the transparent conductive film for an electrode.例文帳に追加

成膜時に導入する酸素量が少なくても、低抵抗で高い光透過性を有する透明導電膜が安定して製造できる酸化物蒸着材と、この酸化物蒸着材を用いて製造される透明導電膜とこの透明導電膜を電極に用いた太陽電池を提供すること。 - 特許庁

A metal oxide and ceramic as a substance having higher thermal conductivity than that of the metal oxide are packed into a cover-fitted crucible having an opening part, and vapor deposition is performed, so as to suppress the intrusion of garbage causing a black point defect during film deposition, and further, the reduction of a vapor deposition rate can be prevented.例文帳に追加

開口部を有する蓋付きの坩堝内に金属酸化物と金属酸化物よりも熱伝導率の高い物質であるセラミックスとを充填して蒸着を行うことで、成膜中に暗点欠陥の原因となるゴミが混入することを抑制し、さらに蒸着レートの低下を防ぐことができる。 - 特許庁

To provide a low-temperature high-speed deposition method of LiCoO_2 film which is used as a cathode layer of a solid re-chargeable Li battery by the pulse dc physical vapor phase deposition process.例文帳に追加

パルスｄｃ物理気相堆積プロセスにより、固体再充電可能Ｌｉ電池のカソード層として利用しうるＬｉＣｏＯ_２膜の低温高速度堆積方法を提供する。 - 特許庁

To provide an organic monomolecular film deposition apparatus and its method for depositing an organic monomolecular film by evaporating a raw material for vapor deposition in vacuum and depositing the vaporized raw material on a substrate to coat it.例文帳に追加

本発明は、真空中で蒸着原料を蒸発させ基板に被着させて有機単分子膜を成膜する有機単分子膜成膜装置及び該方法を提供する。 - 特許庁

The vacuum deposition apparatus is provided with: a vacuum tank 30; a substrate dome 22 in which a substrate is installed; a crucible in which a vapor deposition material is installed; and a monitor part 21 installed in the substrate dome 22.例文帳に追加

真空蒸着装置は、真空槽３０と、基板が設置された基板ドーム２２と、蒸着材料が設置された坩堝と、基板ドーム２２に設置されたモニター部２１と、を備える。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus, a film thickness measuring device, and a film thickness measuring system capable of consistently measuring the film thickness even when the vapor deposition rate is high or when the thickness of the film to be deposited is large.例文帳に追加

蒸着レートが高い場合や成膜する膜厚が厚い場合でも安定して膜厚を測定できる成膜装置、膜厚測定装置及び膜厚測定システムを提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus having excellent economic efficiency and mass productivity when a film is formed by a vapor phase process on the surfaces of capillaries and to provide a film deposition method using the apparatus.例文帳に追加

細管表面に気相法により膜形成を行うにあたり、経済性、量産性に優れた成膜装置およびその装置を用いた成膜方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an organic vapor deposition method and a system therefor by which a film deposition rate can be controlled accurately by preventing the variation in an evaporation rate caused by the position of an evaporation source.例文帳に追加

蒸発源の位置に起因する蒸発レートの変動を防止することによって精確な成膜速度の制御を達成可能な有機蒸着方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The film deposition of the ND filter film 12 having transmittance constant to light is carried out by vapor deposition on the surface of a substrate 11 on which the light between a visible light region and a infrared region is made incident.例文帳に追加

可視光領域から赤外領域の光が入射する基板１１の表面には、光に対して一定透過率のＮＤフィルタ膜１２を蒸着により成膜する。 - 特許庁

In adjusting the vapor deposition distribution, the supporting shafts 21a and 21b are rotated, and the inclination of the sticking prevention board 22 is controlled, by which the adjustment of the film deposition distribution to the substrate 7 is made possible.例文帳に追加

蒸着分布の調整時に、支持軸２１ａ，２１ｂを回動させて防着板２２の傾きを調整することにより、基板７への着膜分布の調整を可能とする。 - 特許庁

To obtain high surface passivation effect and to shorten a film deposition time, with respect to film depositing processing wherein a silicon nitride thin film is deposited on a semiconductor element by plasma CVD (Chemical Vapor Deposition).例文帳に追加

プラズマＣＶＤによって半導体素子上に窒化シリコン薄膜を形成する成膜処理において、高い表面パッシベーション効果を得ると共に、成膜時間を短縮する。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus 1 includes a susceptor 3 which holds a substrate 5 as a workpiece and can rotate, and a flow channel 10 for flowing gas for deposition on one main surface of the substrate 5.例文帳に追加

気相成長装置１は、処理対象物である基板５を保持する、回転可能なサセプタ３と、基板５の一方の主表面上に成膜用のガスを流す流路１０とを備える。 - 特許庁

The vacuum deposition is of proximity vapor deposition with a distance between a top end of an evaporation source (crucible) 51 and a surface of a base material (laminated body 9) formed with the Li film of 50∼80 mm.例文帳に追加

真空蒸着法は、蒸発源（坩堝）５１の上端からＬｉ膜を形成する基材（積層体９）表面までの距離を５０〜８０ｍｍとした近接蒸着である。 - 特許庁

The film deposition of the infrared cut-off filter film 13 having lower transmittance than a surface ND filter film 12 relative to light in the infrared region is carried out on the rear side surface of the substrate 11 by vapor deposition.例文帳に追加

一方、基板１１の裏面には、赤外領域での光に対して表面のＮＤフィルタ膜１２よりも低透過率の赤外カットフィルタ膜１３を蒸着により成膜した。 - 特許庁

To provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) film deposition process where a metal film can be deposited by CVD according to oxidation-reduction reaction with sufficient reducibility without passing through a complicated process.例文帳に追加

複雑なプロセスを経ることなく十分な還元性をもって酸化還元反応によるＣＶＤにより金属膜を成膜することができるＣＶＤ成膜方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition method capable of performing a stable film deposition and obtaining a high-definition film even when using a raw material having low decomposition temperature.例文帳に追加

分解温度が低い原料を使用した場合でも安定した成膜を行うことができ、かつ高品位の膜を得ることができる化学気相成長方法を提供すること。 - 特許庁

In this method a layer composed of indium gallium nitride is formed by metal chemical vapor deposition in a range of a deposition rate of ≥0.5 μm/h and of a temperature between 800°C and 1000°C.例文帳に追加

有機金属気相成長法により、成長速度０．５μｍ/ｈ以上、温度８００℃以上１０００℃以下の範囲において窒化インジウムガリウムからなる層を形成する。 - 特許庁

To increase plasma density in a film deposition system where a CVD (Chemical Vapor Deposition) film is deposited at least either the inner surface or the outer surface of a plastic vessel.例文帳に追加

本発明は、プラスチック容器の内表面又は外表面の少なくともいずれか一方にＣＶＤ膜を成膜する装置において、プラズマ密度を高めることを目的とする。 - 特許庁

To provide a thin-film deposition apparatus by a chemical vapor deposition method, which can form a thin film having uniform thickness on the surface even of a large substrate.例文帳に追加

面積が大きな基板においても、その表面に均一な厚みを有する薄膜を形成することができる化学気相成長法による薄膜堆積装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical thin film deposition method by which an optical thin film can inexpensively be deposited on a substrate by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, and further, the hardness of the thin film layer can be increased.例文帳に追加

ＣＶＤ法を用いて安価に基材上に光学薄膜を形成させるとともに薄膜層の硬度を高めることのできる光学薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method by a heating element CVD (chemical vapor deposition) method of high performance where, even in the case a plurality of layers are film-deposited, the formation of the layers having desired properties can be performed.例文帳に追加

複数の層を成膜する場合であっても、所望する特性を有した層形成が可能な高性能の発熱体ＣＶＤ法による成膜方法を提供すること。 - 特許庁

A light source 304 is provided in the film deposition chamber 301, and vapor deposition is performed to form the dense organic compound while irradiating the light on an anode surface.例文帳に追加

また、このような成膜室３０１に光源３０４を設けて、陽極表面に光を照射しながら蒸着を行うことにより、緻密な有機化合物膜を形成することができる。 - 特許庁

In the gas-barrier deposition film, an oxide vapor deposition film overlies one side of a base film made of a polyester manufactured by using a titanium catalyst as a polycondensation catalyst.例文帳に追加

重縮合触媒としてチタン系触媒を使用して製造したポリエステルからなる基材フィルムの一方の面に、酸化物蒸着膜を積層したガスバリア性蒸着フィルム。 - 特許庁

The boat for vacuum deposition obtained by coating at least a part mounted with the composite vapor deposition material in the boron nitride material coated with any of tungsten, tantalum and molybdenum in a thickness of ≥20 μm is used.例文帳に追加

窒化硼素材の少なくとも複合蒸着材搭載部にタングステン、タンタル、モリブデンの何れかを２０μｍ以上の厚みでコーティングした真空蒸着用ボートを使用する。 - 特許庁

To provide an oxide target used for laser vapor deposition whose using critical time is improved, and which can perform stable film deposition for a long time.例文帳に追加

レーザ蒸着装置に用いる酸化物ターゲットにおいて、その使用限界時間を改善し、安定した成膜を長時間行うことができるレーザー蒸着用酸化物ターゲットの提供。 - 特許庁

The titanium oxide-containing layer 5b is a dielectric layer containing ≥10 wt.% titanium oxide expressed in terms of titanium and is formed by the film deposition using sputtering, ion plating or vapor deposition.例文帳に追加

酸化チタン含有層５ｂは、チタン量換算で１０重量％以上の酸化チタンを含む誘電体層であり、スパッタリングやイオンプレーティング、蒸着等の被覆により形成される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a base material for film formation, which can increase a deposition rate while preventing lowering of adhesion of a polyimide coating film in vapor-deposition polymerization.例文帳に追加

蒸着重合において、ポリイミド被膜の密着力が低くなることを防止しつつ成膜速度を大きくすることができる成膜基材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

As a result, the prescribed vapor deposition rate is maintained and the thickness of the evaporated film formed on the surface of a substrate 5 is controlled.例文帳に追加

これにより、所定の蒸着速度が維持され、基板５の表面上に形成される蒸着膜の厚さが制御される。 - 特許庁

Multiple face cut is performed on the face of the design part 23 and the face is coated with an aluminum vapor deposition film 25 to form a luminous decorative face 26.例文帳に追加

意匠部２３の表面を多面カットし、アルミ蒸着膜２５で被覆して光輝性意匠面２６を形成する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method wherein an ALD gives superior conformality, film formation speed, and uniformity in comparison with a CVD.例文帳に追加

ＡＬＤがＣＶＤに比べて優れたコンフォーミティ（ｃｏｆｏｒｍａｌｉｔｙ）、成膜速度及び均一性を備えた気相堆積方法を提供する。 - 特許庁