「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

To measure a vapor deposition flux directed in an x direction perpendicular to a y direction by the atomic absorption method without causing a light source or optical receiver to be fouled by a film-forming material when forming a film by vapor deposition while carrying a substrate in the y direction.例文帳に追加

基板をｙ方向に搬送しつつ蒸着によって成膜を行う際に、光源や受光器を成膜材料で汚染することなく、原子吸光法によって、ｙ方向と直交するｘ方向の蒸着フラックスを測定する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor apparatus by using chemical vapor deposition (CVD), especially metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) to form thin films, with ferroelectric films such as PZT having favorable characteristics as an example.例文帳に追加

化学気相成長（ＣＶＤ）法、特に有機金属気相成長（ＭＯＣＶＤ）法で良好な特性のＰＺＴなどの強誘電体膜を始めとする薄膜を形成することにより半導体装置を製造するための方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a crucible for vapor deposition capable of suppressing overflow of a molten metal from an opening part of a crucible and stabilizing the temperature inside the crucible, and its manufacturing method, and a crucible for vapor deposition capable of preventing erosion of the molten metal into an inner layer of the crucible from an inner wall of the crucible if the crucible has a multi-layered structure, and its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、るつぼの開口部から溶湯があふれ出すのを抑制すると同時にるつぼ内部の温度を安定させることの可能な蒸着用るつぼとその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method for treating the alignment layer is applied to the liquid crystal display element utilizing the vertical alignment layer composed of the oblique vapor deposition film of the inorganic oxide, and is characterized by having surface hydroxy groups of the oblique vapor deposition film having been subjected to chemical reaction treatment with a liquid crystalline compound.例文帳に追加

無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を用いた液晶表示素子に適用され、前記斜方蒸着膜の表面水酸基が、液晶性化合物で化学反応処理されていることを特徴とする。 - 特許庁

A seizure resistant coating is synthesized on a substrate with a physical vapor deposition method or a plasma chemical vapor deposition method, and has a nitride or an oxynitride containing at least one element among 4A, 5A and 6A groups in the periodic table, and B, Al and Si.例文帳に追加

耐焼き付き被膜は、物理蒸着法またはプラズマ化学蒸着法で基材上に合成され、周期律表の４Ａ、５Ａ、６Ａ族およびＢ、Ａｌ、Ｓｉのうちの少なくとも１つの元素を含んだ窒化物または酸窒化物を有する。 - 特許庁

To provide a mask holder and a substrate holder which are used in a vacuum vapor deposition apparatus having a mask used for forming a predetermined pattern on a substrate by vapor deposition and having a mask holder for holding the mask, and inhibit the mask holder and the substrate holder from causing the displacement of the relative position.例文帳に追加

真空蒸着装置であって、基板に所定のパターンの蒸着を行うためのマスクと、マスクを保持するためのマスクホルダーを有し、マスクホルダーと基板ホルダーとの相対位置のズレが生じにくいマスクホルダー及び基板ホルダーを提供する。 - 特許庁

The vapor deposition state can be kept constant and the fluctuation in the concentration of an additive can be suppressed, and further, a uniform glass preform can be manufactured by controlling the temperature of the vapor deposition part 12a to be constant by moving the position of the plasma flame 24.例文帳に追加

このようにプラズマ炎２４の位置を移動させて蒸着部１２ａの温度を一定にすることにより、蒸着状態を一定に保って添加物濃度の変動を抑えることができ、均一なガラス母材を製造することができる。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition where, even in the case a plurality of long hole-shaped mask opening parts are arranged in parallel with beam parts interposed, sticking between the side faces in the beam parts can be prevented, and to provide a method for producing the mask for vapor deposition.例文帳に追加

長穴形状のマスク開口部を複数、梁部を間に挟んで並列させた場合でも、梁部の側面同士の貼りつきを防止することのできる蒸着用マスクおよび該蒸着用マスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a system for chemical vapor deposition at ambient temperature using ECR, which can form a vapor deposition film of high quality, having superior bonding strength of a deposited complex metal film to a substrate, and provide a method for depositing metal composite using the same.例文帳に追加

基板と蒸着される複合金属膜との結合力に優れる高品質の蒸着膜を形成し得る、ＥＣＲを利用した常温化学蒸着システム及びこれを利用した複合金属膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

A metal film is deposited on the film 12 in the vapor deposition chamber 36 and a metalization film 44 on which a metal film is deposited and the support plate 16 are ejected from the vapor deposition chamber 36 through the differential pressure sealing mechanism 30 with the metalization film 44 bonded to the support plate 16.例文帳に追加

蒸着室３６内でフィルム１２に金属膜を蒸着し、金属膜が蒸着された金属化フィルム４４と支持板１６が貼り付けられた状態で、差圧シール機構３０を介し、蒸着室３６から排出する。 - 特許庁

To provide a conductive film that can prevent corrosion of the metal surface by laminating a vapor deposition layer and an antistatic layer in order, and demonstrates conductivity by the metal half-vapor deposition layer and the antistatic layer, and has visibility of the content.例文帳に追加

基材に蒸着層、帯電防止層を順次積層させることで、金属表面の腐食を防ぐと同時に金属ハーフ蒸着層と帯電防止層によって導電性を発現させ、かつ内容物視認性を有する導電性フィルムを提供。 - 特許庁

Oblique vapor deposition alignment layers 33B, 43B are deposited, over vertical vapor deposition films 33A, 43A on the surfaces of a transparent electrode substrate 30 and a pixel electrode substrate 40, respectively, that are in contact with a vertically aligned liquid crystal 45.例文帳に追加

透明電極基板３０および画素電極基板４０のそれぞれについて、垂直配向液晶４５に接する面側に、垂直蒸着膜３３Ａ，４３Ａを介して斜方蒸着配向膜３３Ｂ，４３Ｂが積層形成されている。 - 特許庁

The forms that the coloring material is a red pigment, that the filter has a dielectric vapor deposition layer laminated with a plurality of dielectric thin films having different indices of refraction, and that the dielectric vapor deposition layer exists on the coloring material-containing layer are preferable.例文帳に追加

該色材が赤色顔料である態様、互いに屈折率の異なる誘電体薄膜を複数積層した誘電体蒸着層を有する態様、誘電体蒸着層が前記色材含有層上にある態様、などが好ましい。 - 特許庁

An optical filter is manufactured by forming a film (d) which has nearly uniform film thickness and antireflection effect etc., by vapor deposition on the slanting film after the slanting film (b) varying in optical characteristic with the film thickness is formed on a substrate (a) by vapor deposition.例文帳に追加

基板ａ上に、膜厚に応じて光学特性が変化する傾斜膜ｂを蒸着形成した後、該傾斜膜上に、膜厚が略均一な反射防止効果等を有する膜ｄを蒸着形成して、光学フィルタを製造する。 - 特許庁

The method of forming a crystalline thin film or a crystalline structure includes a vapor deposition and crystallization acceleration step for performing vapor deposition of a metal oxide by sputtering, and acceleration of crystallization of a metal oxide by laser light irradiation simultaneously.例文帳に追加

結晶性薄膜又は結晶性構造体の製造方法においては、蒸着・結晶化促進工程において、スパッタリング法による金属酸化物の蒸着、及びレーザー光照射による金属酸化物の結晶化促進が同時に行われる。 - 特許庁

In the ion plating device 1, a plasma beam 17 generated by a plasma generator 11 and made to flow out to the inside of a vacuum chamber 3 is guided to the surface of a vapor deposition material 21 by the magnetic force of a magnet 23, and emitted to the vapor deposition material 21.例文帳に追加

イオンプレーティング装置１において、プラズマ発生器１１により発生し、真空チャンバ３内へ流出したプラズマビーム１７は、磁石２３の磁力により、蒸着材料２１表面へ誘導され、蒸着材料２１を照射する。 - 特許庁

The oblique vapor deposition is carried out by keeping a direction (polar angle) where a vapor deposition material flies within a predetermined range with respect to the normal direction of the substrate surface and by reciprocally rotating the substrate as vibrating in a direction parallel to the surface.例文帳に追加

蒸着材料の飛来する方向（極角）は基板の表面の法線方向に対して所定範囲内に保たれ、かつ、基板は表面に平行な方向に振動的な往復回転が行われている状態で斜方蒸着は行われる。 - 特許庁

To provide a propylene polymer multi-layer film for vapor deposition which shows improved adhesive properties with an inorganic compound-vapor deposited film, low temperature heat sealing properties, sealing performance and resistance to blocking/ripping without disturbing wettability, and to provide a multi-layer vapor-deposited film.例文帳に追加

無機化合物蒸着膜との密着性、濡れ性を阻害せず、低温ヒートシール性、密封性、ブロッキング性、引裂性が改良された蒸着用プロピレン系重合体多層フィルム及び多層蒸着フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a masking jig for optical thin film vapor deposition capable of easily vapor-depositing an optical thin film only on a required place onto the material to be vapor-deposited such as a tungsten halogen lamp with an infrared reflection film or the like with high operability and high precision.例文帳に追加

赤外線反射膜付きハロゲン電球等の被蒸着物に対して、作業性がよくて簡単かつ精度よく、必要個所にのみ光学薄膜を蒸着させ得る光学薄膜蒸着用マスキング治具を提供する。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition, which can alleviate ununiformity of film thickness of a vapor deposited substance formed on a substrate to be vapor deposited, and can narrow a width of a non-opening part of a mask layer, by reducing the thickness of the mask layer.例文帳に追加

被蒸着基板上に形成される蒸着物の膜厚の不均一を緩和することが可能で、かつ、マスク層の厚みを薄くしてマスク層の非開口部の幅を小さくすることが可能な蒸着用マスクを提供する。 - 特許庁

The vapor phase raw material distribution system 30 comprises a vapor phase raw material distribution head 34 having a plurality of openings configured to introduce a vapor phase raw material of the film precursor to a process chamber 10 of a deposition system 1, and a housing.例文帳に追加

気相原料分散システム３０は、膜前駆体の気相原料を成膜システム１のプロセスチャンバ１０へ導入するよう構成される複数の開口を備える気相原料分散ヘッド３４と、ハウジングとを備える。 - 特許庁

A vapor deposition apparatus 10 has a vapor discharger 100 equipped with first to third box-shaped vapor branching parts 1-3 that are communicated with each other via connecting holes which branch in geometric series: 4^n-1 (wherein n is a natural number) from an inlet toward an outlet of a vapor of an evaporation material.例文帳に追加

本発明の蒸着装置１０は、蒸気放出器１００が、蒸発材料の蒸気の導入側から放出側に向って４^n-1（ｎは自然数）の等比級数で段階的に分岐する連通口を介して連通された箱状の第１〜第３蒸気分岐部１〜３を備えている。 - 特許庁

To provide a method for forming a vapor-deposited film in which a vapor-deposited film is formed on the surface of the object to be coated in a vacuum using the raw materials of synthetic resins, capable of maintaining the characteristics such as film thickness of the vapor-deposited film and also improving the working efficiency of a vapor-deposition tank.例文帳に追加

合成樹脂の原料材料を用い、被コーティング物の表面に真空中で蒸着膜を形成する方法であって、蒸着膜の膜厚み等の特性を維持し、且つ、蒸着槽の稼動効率が向上する蒸着膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

A 1st obliquely vapor-deposited alignment film 43A is formed by vapor deposition on the 1st flank of the inter-pixel groove in a thickness-directional section of a pixel electrode substrate 40 and a 2nd obliquely vapor-deposited alignment film 43B is vapor-deposited on the 2nd flank facing the 1st flank.例文帳に追加

第１斜方蒸着配向膜４３Ａが、画素電極基板４０の厚み方向の断面内において、画素間溝の第１の側面に蒸着形成され、第１の側面に対向する第２の側面に第２斜方蒸着配向膜４３Ｂが蒸着形成されている。 - 特許庁

After a tile 2 is heated in a heating zone 3, TiO2 produced by hydrolysis of TiCl4 vapor in a vapor deposition room 4 into which the TiCl4 vapor produced at TiCl4 vapor producing furnace 5 is introduced is deposited on the tile surface to form a TiO2 film on the tile surface.例文帳に追加

タイル２を加熱ゾーン３で加熱した後、ＴｉＣｌ_4蒸気発生炉５で発生させたＴｉＣｌ_4蒸気が導入される蒸着室４にて、ＴｉＣｌ_4蒸気の加水分解で生じたＴｉＯ_2をタイル表面に蒸着させることにより、タイル表面にＴｉＯ_2被膜を形成する。 - 特許庁

After a tile 2 is heated in a heating zone 3, TiO2 generated by hydrolysis of TiCl4 vapor is deposited on the tile surface, in a vapor deposition chamber 4 where TiCl4 vapor generated in a TiCl4 vapor generating furnace 5 is introduced, to form a TiO2 film on the tile surface.例文帳に追加

タイル２を加熱ゾーン３で加熱した後、ＴｉＣｌ_4蒸気発生炉５で発生させたＴｉＣｌ_4蒸気が導入される蒸着室４にて、ＴｉＣｌ_4蒸気の加水分解で生じたＴｉＯ_2をタイル表面に蒸着させることにより、タイル表面にＴｉＯ_2被膜を形成する。 - 特許庁

To provide a film deposition device that can deposit a film by a plasma chemical vapor deposition (plasma CVD), while preventing a substrate from being damaged by plasma, in a device that performs film deposition by the plasma CVD, while conveying a long substrate in a longitudinal direction thereof.例文帳に追加

長尺な基材を長手方向に搬送しつつ、プラズマＣＶＤによって成膜を行う装置において、プラズマによる基材の損傷を防止して、プラズマＣＶＤによる成膜を行うことができる成膜装置を提供する。 - 特許庁

To provide a deposition material having a sufficient vapor pressure and forming a metal oxide film on a substrate while suppressing troubles on piping transportation, and to provide a deposition method and device using such a deposition material.例文帳に追加

十分な蒸気圧を有し、配管輸送上のトラブルが生じ難い、基板上に金属酸化膜を形成するための成膜原料、ならびにそのような成膜原料を用いた成膜方法および成膜装置を提供すること。 - 特許庁

A vacuum film deposition system is provided with an ion source in a film deposition chamber, and a thin film is deposited by projecting ion seeds on a film traveling according to the rotation of a main roll by the sputtering method, the CVD method, the vapor deposition method, etc.例文帳に追加

本真空成膜装置は、成膜チャンバ内にイオンソースを備え、メインロールの回転に応じて走行するフィルム上にスパッタ法、ＣＶＤ法、蒸着法等によりイオン種を投射して薄膜を成膜する装置である。 - 特許庁

In the vacuum deposition device, a vaporizing source 40 has a plurality of chimneys (cylindrical parts) 42 and a deposition film is formed on the opposing substrate T by releasing vapor of the deposition material from the chimneys.例文帳に追加

本発明に係る真空蒸着装置において、蒸発源４０は、複数のチムニ（筒状部）４２を有し、これらチムニから蒸着材料の蒸気を放出することで、対向する基板Ｔ上に蒸着膜を形成する。 - 特許庁

To provide a formation method of a vapor-deposited film and a deposition apparatus for preventing deflection when aligning a large, extremely thin deposition mask, and performing deposition while making the subpixel of a substrate and the opening of the deposition mask hold a precise aligned state in alignment.例文帳に追加

本発明は、大型で極薄の蒸着マスクのアラインメント時における撓みを防ぎ、基体のサブピクセルと蒸着マスクの開口が、アラインメント時における精密な位置合わせ状態を保持して蒸着を行なう蒸着膜の形成方法及び蒸着装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a practicable vertical type catalyst chemical vapor deposition system constituted in such a manner that at least a pair of substrates arranged to face each other across catalyst lines can be subjected to simultaneous deposition at a uniform film thickness and film quality by suppressing uneven deposition, and to provide a deposition method using this system.例文帳に追加

触媒線を挟んで対向配置した、少なくとも一対の基板に対して成膜ムラを抑制して均等な膜厚及び膜質で同時成膜を行うことを可能とした実用的な縦型触媒化学気相成長装置及びこの装置を用いた成膜方法を提供する。 - 特許庁

The positive electrode active material is a thin membrane, formed of an oxide containing at least iron, as a main component, in vapor- or liquid-phase deposition on a substrate using a spattering, reactive deposition, vacuum deposition, chemical deposition, flame spraying or plating method.例文帳に追加

正極活物質が、スパッタリング法、反応性蒸着法、真空蒸着法、化学蒸着法、溶射法、またはめっき法などにより、気相または液相から基板上に堆積して形成した少なくとも鉄を含む酸化物を主成分とする薄膜であることを特徴としている。 - 特許庁

To provide a photoreceptor having no adverse effect on image quality even if there are caused voids in aluminum vapor deposition (pinholes) particularly in broad vapor deposition in a width of ≥900 mm, peeling of aluminum in slitting operation after vapor deposition and dotwise peeling of aluminum due to other various causes, and to provide a process cartridge, an image forming method and an image forming apparatus using the photoreceptor.例文帳に追加

幅９００ｍｍ以上の広幅蒸着で起きやすいアルミニウム蒸着抜け（ピンホール）、蒸着後のスリット作業で発生するアルミニウム剥離、その他の各種原因で生じる、点状アルミニウム剥離が有っても画像品質に悪影響を与えることのない感光体、並びに、該感光体を用いたプロセスカートリッジ、画像形成方法及び画像形成装置の提供。 - 特許庁

The vapor deposition film 1 is made of a transparent film having at least a metal oxide vapor deposition film on a base material, and the moisture absorption layer 2 is made of a transparent resin layer coated/formed on the vapor deposition film 1 by using a liquid mixture in which a chemically moisture-adsorbable substance having a primary particle size of 100 nm or below is dispersed in a binder resin solution.例文帳に追加

蒸着フィルム１が、基材上に少なくとも金属酸化物の蒸着膜を有する透明フィルムよりなり、かつ、吸湿層２が、バインダ樹脂の溶液中に、１次粒子径が１００ｎｍ以下である化学的水分吸着性物質が分散された液状混合物を用いて、蒸着フィルム１上に塗工形成された透明樹脂層よりなる。 - 特許庁

The transparent gas barrier film is obtained by: heat-treating a plastic film to shrink to have a specific thermal shrinkage rate to prepare a plastic base film; forming a vapor deposition film on at least one side of the plastic base film to obtain a vapor deposition film; and additionally heat-treating the vapor deposition film to shrink to have a specific thermal shrinkage rate.例文帳に追加

プラスチックフィルムを加熱処理し、特定の熱収縮率となるように収縮させてプラスチック基材フィルムとし、該プラスチック基材フィルムの少なくとも一方の面に蒸着膜を設けて蒸着フィルムとし、さらに、該蒸着フィルムを加熱処理して、特定の熱収縮率となるように収縮させることを特徴とする透明ガスバリア性フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a strongly bonded vapor deposition film having at least a vapor deposition layer comprising an inorganic oxide on a film base material comprising a plastic material, especially reinforced in the adhesion of the film base material and the vapor deposition layer, causing no delamination even if subjected to heat sterilization treatment, for example, retorting or boiling treatment and having gas barrier properties, and also to provide a method for production thereof.例文帳に追加

本発明は、プラスチック材料からなるフィルム基材上に少なくとも無機酸化物からなる蒸着層を設けてなる蒸着フィルム、特にフィルム基材と蒸着層との密着性が強化され、例えレトルトやボイルなどの加熱殺菌処理を行ってもデラミネーションを発生しない、ガスバリア性を有する強密着蒸着フィルムとその製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

The method for producing the optical thin film includes: preparing a substrate; preparing a vapor deposition material in which lanthanum fluoride and gadolinium fluoride are mixed so that the ratio of the number of moles of gadolinium with respect to the total number of moles of lanthanum and gadolinium becomes 0.1-0.95; and vapor-depositing the vapor deposition material on the substrate.例文帳に追加

光学薄膜の製造方法は、基板を用意することと、ランタンとガドリニウムの合計モル数に対する前記ガドリニウムのモル数の比が０．１〜０．９５となるように、フッ化ランタンとフッ化ガドリニウムを混合した蒸着原料を用意することと、前記基材上に前記蒸着原料を蒸着することを含む。 - 特許庁

In the vacuum vapor deposition apparatus in which the vessel containing the treating agent is placed on a resistance heater placed in a vacuum atmosphere, and directly heated, and vapor deposition is performed on a work to be vapor-deposited by transpiring the treating agent, an insulation layer is provided between the resistance heater and the vessel placed on the resistance heater.例文帳に追加

処理剤の入った容器を真空雰囲気中に置かれる抵抗加熱体上に載置して、容器を直接加熱することにより処理剤を蒸散させて被蒸着物に蒸着を行う真空蒸着装置において、前記抵抗加熱体と抵抗加熱体上に置かれる容器との間に絶縁層を設けた。 - 特許庁

To enhance uniformity of film thickness distribution on a plurality of substrate faces in a vacuum vapor-deposition method in which an organic electroluminescent element is fabricated by using a mask for vapor-depositing the substrate and pixel pattern, and using a mask holder and a vapor deposition source provided with alignment mechanism in order to carry out positioning of the substrates and the masks.例文帳に追加

基板と画素パターンを蒸着するためのマスクと、基板とマスクの位置合わせをするためのアライメント機構を備えたマスクホルダと蒸着源とを用いて、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する真空蒸着方法において、複数個の基板面内上での膜厚分布均一性を高める。 - 特許庁

To provide an apparatus for carring out a plasma chemical vapor deposition (PCVD) process, in which leakage of high frequency energy is small even when a high frequency output level of about 2.5 kW is used so as to enhance the vapor deposition speed in PCVD process for vapor depositing a doped or undoped layer onto the interior of a glass substrate tube.例文帳に追加

ドープされているか又はされていない層をガラス基材チューブの内側に蒸着させるプラズマ化学蒸着処理（PCVD処理）において、蒸着速度を上げるために約2.5kW以上の高周波出力レベルを用いた場合であっても、高周波エネルギーの漏洩の少ないPCVD蒸着処理装置を提供する。 - 特許庁

The inner circumferential surface of the cylindrical guide member 42 is formed of a concave surface 42d for controlling a flying direction of vapor deposition particles, which is a paraboloid for reflecting the vapor deposition particles that have collided with the paraboloid, toward the effusing direction, and the vapor flow exhaust nozzle 43a is placed in a focal position of the concave surface 42d for controlling the flying direction.例文帳に追加

筒状ガイド部材４２の内周面は、衝突した蒸着粒子を放出方向に向けて反射する放物面からなる飛翔方向制御用凹曲面４２ｄになっており、飛翔方向制御用凹曲面４２ｄの焦点位置に蒸気流噴出口４３ａが配置されている。 - 特許庁

To provide a method for supplying gaseous hydrogen into a process chamber of a vapor deposition system which is capable of stably forming a vapor deposited metallic film on the surface of a material to be treated, such as a rare earth permanent magnet, by eliminating the adverse influence of the O_2 existing in the process chamber even when long-time vapor deposition treatment is performed.例文帳に追加

長時間の蒸着処理を行う場合であっても、処理室内にＯ_２が存在することによる悪影響を解消し、希土類系永久磁石などの被処理物の表面に金属蒸着被膜を安定に形成することができる蒸着装置の処理室内への水素ガス供給方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a vapor growth system and a vapor growth method wherein high quality and uniform film deposition is performed by suppressing the conversion of a gaseous starting material which occurs by a heater.例文帳に追加

加熱ヒータによって発生する原料ガスの対流を抑制し、高品質かつ均一性に優れた成膜を行なう気相成長装置および気相成長法を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester film for vapor deposition which shows high ease of operation during handling of the film without its stickiness and superb hot water resistance in the vapor deposited layer and further, improved gas barrier properties.例文帳に追加

フィルム取扱時のベタツキ等のフィルム取扱時の作業性とともに、蒸着層の耐熱水性に優れ、ガスバリヤー性の改良された蒸着用ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁