「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

One alignment layer 4 generates a normal pre-tilt state where the liquid crystal 3 is pre-tilted on the same side as the vapor deposition direction, and the other alignment layer 5 generates a reverse pre-tilt state where the liquid crystal 3 is pre-tilted in a direction opposite to the vapor deposition direction.例文帳に追加

一方の配向層４は、蒸着方向と同じ側に液晶３がプレチルトする正プレチルト状態を生じ、他方の配向層５は、蒸着方向と反対側に液晶３がプレチルトする逆プレチルト状態を生じる。 - 特許庁

To provide a laminated tube container hardly peeled in the hologram vapor deposition layer of the laminated material of the body part of the container during a distribution process or use, hard to receive a thermal damage in the hologram vapor deposition layer of the thermally fusion-bonded part of the container and having excellent aesthetic properties.例文帳に追加

流通過程や使用中に、胴部の積層材料のホログラム蒸着層での剥離がしにくく、熱融着部のホログラム蒸着層が熱によりダメージを受けにくく、美粧性に優れるラミネートチューブ容器を提供する。 - 特許庁

The upper surface of the wafer is covered with a metal mask opened at a part of the region of the electrode 14, and then a thin film layer, which is very thin of tin having a thickness of about 1 to 10 nm, is formed by chemical vapor deposition method or physical vapor deposition method.例文帳に追加

外部接続用電極１４の領域の部分を開口したメタルマスクで覆い、次にＣＶＤ法またはＰＶＤ法により厚みがおよそ１ｎｍから１０ｎｍの錫のごく薄の薄膜層を形成する。 - 特許庁

The film laminate includes a polyethylene film layer (layer A), a resin film layer (layer B) having an inorganic compound vapor deposition layer, and a resin film layer (layer C) having a metal vapor deposition layer, wherein the polyethylene film layer (layer A) is set as a surface layer.例文帳に追加

ポリエチレンフィルム層（Ａ層）と、無機化合物蒸着層を有する樹脂フィルム層（Ｂ層）と、金属蒸着層を有する樹脂フィルム層（Ｃ層）とを含み、かつ該ポリエチレンフィルム層（Ａ層）を表層とするフィルム積層体である。 - 特許庁

The release liner is obtained by forming a vapor deposition layer comprising a metal selected from Al, Ag, Au and Ni on at least the single surface of a base material film, and providing the release layer comprising a polyolefin resin on the vapor deposition layer.例文帳に追加

剥離ライナーは、基材フィルムの少なくとも片側にＡｌ、Ａｇ、Ａｕ及びＮｉから選択された金属による蒸着層が形成され、その蒸着層上にポリオレフィン樹脂からなる剥離層が設けられている。 - 特許庁

The mixing chamber 38 communicates with the second storage shed 40 and the vapor deposition chamber 36, mixes the gas supplied from the heating chamber 8 with the silane-based gas and then supplies the mixed gas 34 to the vapor deposition chamber 36.例文帳に追加

混合室３８は、第２貯蔵庫４０と気相成長室３６に連通しており、加熱室８から供給されたガスとシラン系ガスを混合させて、その混合ガス３４を気相成長室３６に供給している。 - 特許庁

The gas barrier laminated film is formed by laminating a silicon compound vapor deposition film on one surface of a base material made of a plastic film, and the silicon compound vapor deposition film has specific composition.例文帳に追加

プラスチックフィルムからなる基材の一方の面に、ケイ素化合物蒸着膜を積層したガスバリア性積層フィルムであって、ケイ素化合物蒸着膜が特定の組成を有することを特徴とするガスバリア性積層フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing alloy steel such as alloy tool steel having high surface hardness by a simple method without using an expensive device in carbonitriding, PVD (physical vapor deposition) or CVD (chemical vapor deposition), and to provide alloy steel by the method.例文帳に追加

高価な浸炭窒化、あるいはＰＶＤ、ＣＶＤなどの装置を用いずに、簡易な方法で高い表面硬度を有する合金工具鋼などの合金鋼を製造する方法およびその方法による合金鋼を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated film capable of being laminated to the vapor deposition surface of an inorg. oxide vapor deposition film of each type by high interlaminar strength with high productivity by using an extrusion lamination method and excellent in transparency, gas barrier properties and appearance.例文帳に追加

種々のタイプの無機酸化物蒸着フィルムに対し、押出ラミネートにより高い生産性で、かつその蒸着面と強い層間接着力で積層ができ、透明性、ガスバリヤー性等に優れ、外観の優れた積層フィルムの提供。 - 特許庁

This vapor deposition apparatus has a mask stock chamber 46 and a vapor deposition chamber 36 communicating with it, wherein at least one of them has a heating means for heating the stored mask 1.例文帳に追加

マスクストック室４６とこれに連通している蒸着室３６とを有し、マスクストック室４６あるいは蒸着室３６の少なくとも何れか一方が、収容されているマスク１を加熱する加熱手段を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a mask vapor deposition method in which a treating substrate is held at a low temperature from the start of film-forming until the completion of film-forming with a simple structure, a method for manufacturing an organic EL device, and a mask vapor deposition device.例文帳に追加

簡単な構成で、被処理基板を成膜開始時から成膜終了時まで低い温度に保持することができるマスク蒸着方法、有機ＥＬ装置の製造方法、およびマスク蒸着装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a titanium material which has excellent wear resistance, requires no high-temperature heat treatment, affects dimensional accuracy only to a small extent, can be obtained more easily than by relying on CVD (chemical vapor deposition) or PVD (physical vapor deposition) and exhibits superior recyclability than in the case using thermal spraying.例文帳に追加

高温での熱処理を必要とせず、寸法精度に及ぼす影響も低く、CVD やPVD による場合よりも簡便に得ることができ、また、溶射による場合よりもリサイクル性が良い、耐摩耗性に優れたチタン材を提供する。 - 特許庁

A shielding mechanism 14 is disposed between the holding mechanism 20 and the second vapor deposition source, and has a shielding plate 15 to adjust the quantity of vapor deposition of the guest material 6 and has a rotating mechanism 16 to rotate the shielding plate 15.例文帳に追加

遮蔽機構１４は保持機構２０と前記第２の蒸着源との間に配設され、ゲスト材料６の蒸着量を調整する遮蔽板１５を備え、遮蔽板１５を回転可能とする回転機構１６を備えている。 - 特許庁

To provide a method of producing a thin film of strontium titanate, barium titanate or barium strontium titanate by a chemical vapor deposition method, giving stable production conditions suitable for industrialization, and to provide a raw material for chemical vapor deposition.例文帳に追加

工業化に適する安定した製造条件を与える化学気相成長法によるチタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム又はチタン酸バリウムストロンチウム薄膜の製造方法及び化学気相成長用原料を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a magnesium oxide vapor-deposition material advantageously usable for forming a magnesium oxide film useful as a protective for the dielectric layer of an alternating current plasma display panel by an electron beam vapor-deposition process.例文帳に追加

交流型プラズマディスプレイパネルの誘電体層の保護膜として有用な酸化マグネシウム膜を、電子ビーム蒸着法により形成するのに有利に用いることのできる酸化マグネシウム蒸着材の製造方法を提供する。 - 特許庁

The material for chemical vapor deposition includes a diruthenium complex such as tetra(μ-formato)diruthenium(II,II), and tetra(μ-formato)(dihydrate)diruthenium(II,II); and a ruthenium film is formed by the chemical vapor deposition using this material.例文帳に追加

テトラ（μ−ホルマト）ジルテニウム（ＩＩ，ＩＩ）、テトラ（μ−フォルマト）（２水和物）ジルテニウム（ＩＩ，ＩＩ）の如きジルテニウム錯体からなる化学気相成長材料およびそれを用いて化学気相成長法によりルテニウム膜を形成する方法。 - 特許庁

To reduce adsorption of oxygen on and oxidation of a catalyst on taking out the catalyst from a physical vapor deposition apparatus after causing metal particles to be supported and deposited on a support of the catalyst in manufacturing the catalyst by physical vapor deposition method.例文帳に追加

物理蒸着法によって触媒を製造する場合に、触媒の担体上に金属粒子を担持析出させた後、物理蒸着装置からの触媒の取り出し時に、触媒に対する酸素の吸着及び酸化を低減する。 - 特許庁

In regard to the melting heat transfer ribbon for the metallic print, a metallic melting heat transfer ribbon is constituted at least of a vapor deposition heat-resistant layer, the metal vapor deposition layer and an adhesion layer in this sequence from a base, and the adhesion layer has a coloring agent.例文帳に追加

メタリック溶融熱転写リボンの構成が、基材から少なくとも蒸着耐熱層、金属蒸着層、接着層の順にあり、その接着層に着色剤を有するメタリック印画用の溶融熱転写リボン。 - 特許庁

The method is applied to the liquid crystal display element utilizing the vertical orientation film composed of the oblique vapor deposition film of the inorganic oxide, and is characterized by having surface hydroxy groups of the oblique vapor deposition film having been subjected to chemical reaction treatment with a metal alcoholate.例文帳に追加

無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を用いた液晶表示素子に適用され、前記斜方蒸着膜の表面水酸基が、金属アルコラートで化学反応処理されていることを特徴とする。 - 特許庁

In the chemical vapor deposition method, a dielectric material is formed in a trench formed on a substrate, where the method includes a step of generating water vapor by bringing hydrogen gas and oxygen gas into contact with a water vapor generation catalyst, and providing the water vapor to a processing chamber.例文帳に追加

基板上に形成されたトレンチ内に誘電体材料を形成する化学気相堆積法であって、水素ガス及び酸素ガスを水蒸気生成触媒と接触させることにより水蒸気を生成して、水蒸気を処理チャンバに提供するステップを含む。 - 特許庁

This is a film-forming device to vapor-deposit and carry out film-forming treatment of the film-forming material on a treating object in a pressure-reduced treating chamber 30 and includes a vapor deposition head 65 in which a vapor ejection port 80 to eject vapor of the film-forming material is arranged in the treating chamber 30.例文帳に追加

減圧された処理室３０内において、被処理体に成膜材料を蒸着して成膜処理する成膜装置であって、成膜材料の蒸気を噴出させる蒸気噴出口８０が処理室３０に配置された蒸着ヘッド６５を備える。 - 特許庁

To provide an evaporation source, vapor deposition system, and vapor deposition method capable of uniformly promoting melting of a material for vapor deposition even if the material is an organic material and of efficiently forming uniform and good-quality vapor deposited films containing fewer impurities by averting damaging the organic material and by enhancing the effect of heat transfer thereof.例文帳に追加

蒸着材料が有機材料であっても、有機材料に熱ダメージを与えることなく、しかも伝熱効果を高めて、蒸発材料の溶融を均一に促進させることができ、均一で不純物の少ない良質な蒸着膜を効率よく形成することができ、しかも、大型基板にも同様に対応できる蒸発源、蒸着装置および蒸着方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The mask vapor deposition method comprises a step of attracting a glass substrate 20 to be vapor-deposited by the electrostatic attractive force of a stage 1, a step of positioning the attracted glass substrate and a vapor deposition mask 2, and a step of vaporizing organic compounds forming an electroluminescence device to be vapor-deposited and depositing it on the glass substrate 20.例文帳に追加

被蒸着対象であるガラス基板２０をステージ１の静電引力によって吸引する工程と、吸引されたガラス基板と蒸着マスク２との位置合わせを行う工程と、蒸着対象である電界発光素子となる有機化合物を蒸発させてガラス基板２０に蒸着する工程とを有するものである。 - 特許庁

This metal vapor-deposited urethane film is constituted by forming a urethane film layer 6, which becomes a surface layer when a product is produced, on a releaseable base material 10, forming a crosslinked urethane film layer 4, to which metal vapor deposition is applied, thereon to form a two-layered urethane film layer and vapor-depositing a metal on the crosslinked urethane film layer 4 to form a metal vapor deposition film 8.例文帳に追加

離型性基材１０上に製品とした際に表面層となるウレタンフィルム層６を形成し、その上に金属蒸着を施す架橋ウレタンフィルム層４を形成して２層構成のウレタンフィルム層２とし、上記架橋ウレタンフィルム層４上に金属を蒸着し、蒸着膜８とすることで金属蒸着ウレタンフィルムを得る。 - 特許庁

To provide a method and device for producing a vapor deposition type phosphor sheet capable of preventing a formed phosphor sheet from receiving a thermal history by taking a protective measure to prevent a substrate or the like under deposition from being affected by the radiant heat of a deposition material from a vaporization part, and a novel vapor deposition type phosphor sheet produced by the device and method.例文帳に追加

成膜材料の蒸発部からの輻射熱が成膜中の基板等に影響を与えることがないように防護措置を講じて、成膜された蛍光体シートが熱履歴を受けないようにした蒸着型蛍光体シートの製造方法および装置並びに上記方法により製造される新規な蒸着型蛍光体シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a vacuum film deposition apparatus for depositing a thin film on a surface of a web-like base film by a chemical vapor phase deposition method (CVD method) or the like in which the stability in the film deposition can be improved without increasing the size of an electrode as a film deposition means, and to provide a film deposition method using the apparatus.例文帳に追加

化学気相成長法（ＣＶＤ法）等によりウェブ状基材フィルム表面に薄膜を形成する真空成膜装置において、成膜手段としての電極を大型化しないで、成膜の安定性向上が図れる真空成膜装置とそれを用いた成膜方法を提供することにある。 - 特許庁

The vapor deposition material 2 is formed by sintering it to have a shape of the plurally divided dent shape of a hearth 1.例文帳に追加

ハース１の窪み形状を複数に分割した形状となるように焼結して蒸着材料２を形成する。 - 特許庁

In a plasma chemical vapor phase deposition(CVD) apparatus, the surface roughness (Ra) of a member in a vacuum tank is set to be ≤5.0 μm.例文帳に追加

プラズマ化学気相堆積（ＣＶＤ）装置において、真空槽内の部材の表面粗さ（Ｒa）を５．０μｍ以下とする。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition device which further improves uniformity of a film formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上に形成される膜の均一性をさらに向上する化学気相成長装置を提供する。 - 特許庁

The fine grain layer 1p is disposed on the surface side of the base material, and the coated film 2 is formed on this layer 1p by means of physical vapor deposition.例文帳に追加

微粒層1pが基材表面側に配され、この上に被覆膜2が物理蒸着法により形成される。 - 特許庁

This is a method for forming a polycrystalline silicon film on the surface of a silicon wafer by a chemical vapor deposition(CVD) method.例文帳に追加

シリコンウエハ表面に多結晶シリコン膜を化学気相反応堆積法（ＣＶＤ法）により成膜する方法である。 - 特許庁

This method is suitable particularly for cleaning a CVD chamber after the execution of a metal chemical vapor deposition stage.例文帳に追加

この方法は金属化学蒸着工程を行った後にＣＶＤチャンバーを清浄化するのに特に適している。 - 特許庁

A substrate 15 to be filmed, which serves as an object for vapor deposition, is arranged above a heating substrate 13 with a prescribed space kept between them.例文帳に追加

蒸着対象となる被成膜基板１５を加熱用基板１３の上方に所定の間隔をおいて設置する。 - 特許庁

Thus, in the counter substrate 20, the alignment film 26 may be formed on the whole surface and requires no mask vapor deposition.例文帳に追加

このため、対向基板２０では、全面に配向膜２６を形成することができ、マスク蒸着を行う必要がない。 - 特許庁

To provide an evaporation source and vapor-deposition apparatus, which can block radiation heat of a crucible and prevents a nozzle from being clogged.例文帳に追加

坩堝の輻射熱を遮熱し、且つノズルに詰まりを生じない蒸発源および蒸着装置を提供する。 - 特許庁

A metallic film 14 is formed to outer surfaces of the individual pieces by vapor deposition and thereafter the adhesive sheet and the individual pieces are exfoliated.例文帳に追加

個片の外表面に蒸着により金属膜１４を形成した後、粘着シートと個片とを剥離する。 - 特許庁

To deposit a thin film having a stable composition by accelerating reaction with a reactive gas in a reaction vapor deposition method.例文帳に追加

反応蒸着法において、反応性ガスとの反応を促進し、安定した組成を有する薄膜を製造する。 - 特許庁

With this device, the vapor deposition device high in utilization efficiency of the EL material and superior in uniformity of the film can be realized.例文帳に追加

本発明により、ＥＬ材料の利用効率が高く、膜の均一性に優れた蒸着装置を実現できる。 - 特許庁

The coating film 21 is formed around the entire peripheral surface of the bolt 15 including a male screw part 15a by chemical vapor deposition.例文帳に追加

コーティング膜２１は、化学蒸着法により雄ネジ部１５ａを含めたボルト１５の周面全体に形成されている。 - 特許庁

To provide a metal mask which can form a highly precise pattern film when used as a metal mask for vapor deposition in manufacturing an organic EL display or the like.例文帳に追加

有機ＥＬディスプレイ等の蒸着用メタルマスクとして高精度なパターン成膜が可能なメタルマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a compound that is useful for a material for an organic EL element and is capable of vapor deposition and that exhibits high Tg.例文帳に追加

有機ＥＬ素子用材料に有用で、蒸着が可能であり、且つ、高いＴｇを示す化合物を提供する - 特許庁

To provide a vapor deposition device capable of heating the entire surface of a wafer to uniform a temperature while suppressing a manufacturing cost low.例文帳に追加

製造コストを低く抑えつつ、ウェハ全面を均一な温度に加熱できる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To suppress the azimuthal deviation of vapor deposition between a pair of substrates of a liquid crystal device by a relatively simple method.例文帳に追加

液晶装置の一対の基板間における蒸着方位角ズレを、比較的簡便な方法により抑制する。 - 特許庁

This fired matter is obtained by adhering carbon particles 20 to wall surfaces of fine pores 12 of porous inorganic material particles 10 through vapor deposition.例文帳に追加

多孔質性無機物質粒子１０の微細孔１２の壁面に、炭素粒子２０を蒸着によって付着させる。 - 特許庁

The surface of biodegradable polymer 2 is modified into a surface having a nanostructure by plasma chemical vapor deposition method.例文帳に追加

プラズマ化学気相蒸着法を用いて、生分解性高分子２の表面をナノ構造の表面に改質する。 - 特許庁