「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a vapor deposition material capable of suppressing generation of a splash phenomenon and molded by using water and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

スプラッシュの発生を顕著に抑制できる、水を用いて成型した蒸着材料及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A metallic layer 36 is formed on the surface of the piezoelectric layer 41 by vapor deposition and further a separate electrode 35 is formed by calcination.例文帳に追加

圧電層４１の表面上に蒸着によって金属層３６を形成し、さらに焼成によって個別電極３５を形成する。 - 特許庁

To find a new method of preparing an ultra-pure organometallic compound for use as a CVD (chemical vapor deposition) precursor.例文帳に追加

ＣＶＤ（化学蒸着）前駆体として使用するための超純粋有機金属化合物を製造する新たな方法を見いだす。 - 特許庁

Then, a stripe-shaped second auxiliary wiring 12 extending in a direction parallel to a scanning line is formed by the precise mask vapor deposition method.例文帳に追加

次に、走査線と平行な方向にのびるストライプ状の第２の補助配線１２を精密マスク蒸着法により形成する。 - 特許庁

To provide a simplified vacuum vapor deposition method for forming a gold coating film of tight adhesion to an inorganic insulation substrate such as glass.例文帳に追加

ガラスのごとき無機絶縁基体上に密着性の金被膜を形成するための簡易化された真空蒸着法を提供する。 - 特許庁

After that, a surface electrode 7 made of a gold thin film is formed on the intense-field drift layer 6 by vapor deposition method or the like (fig.(f)).例文帳に追加

その後、強電界ドリフト層６上に金薄膜からなる表面電極７を蒸着法などによって形成する（図１（ｆ））。 - 特許庁

To provide a CVD (Chemical Vapor Deposition) system capable of depositing a film having light shielding properties to ultraviolet rays and also having transparency.例文帳に追加

紫外線に対する遮光性を有し且つ透明性を有する膜を成膜することができるＣＶＤ成膜装置を提供する。 - 特許庁

A rod-like vapor deposition member 22 is loaded into the penetration hole of a hearth installed at the lower part of a vacuum vessel of an ion plating apparatus 10.例文帳に追加

イオンプレーティング装置１０の真空容器の下部に設けたハースの貫通孔にロッド状の蒸着部材２２が装填される。 - 特許庁

The cross-sectional shape of the monitor window 42 is trapezoidal, and thus ions and the vapor deposition material are easy to be introduced into an opening 42a.例文帳に追加

モニター窓４２は、断面形状が台形状に形成されているため、開口４２ａ内にイオン、蒸着材料が導かれやすい。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus capable of forming an epitaxial film on a surface of a semiconductor wafer by a uniform film thickness distribution.例文帳に追加

半導体ウェーハ表面にエピタキシャル膜を均一な膜厚分布で成膜することが可能な気相成長装置を提供する。 - 特許庁

A three-layered vapor deposition film constituted by metal oxide, silver, and metal oxide and a black transparent film are attached on the protecting surface of the cover.例文帳に追加

金属酸化物／銀／金属酸化物の３層構造皮膜蒸着フィルムと黒色透明フィルムを保護面に張り付けた面覆い。 - 特許庁

By mounting the substrate 12 on this metal mask and by carrying out the vapor deposition, the highly precise pattern can be formed on the substrate.例文帳に追加

この金属マスクの上に基板１２を取り付け、蒸着を行うことで高精細なパターンを基板上に形成することができる。 - 特許庁

The transparent electrode 17a constituting the EL element 6 is directly formed on the surface of the polarizing plate 4 by vapor deposition or the like.例文帳に追加

ＥＬ素子６を構成する透明電極１７ａは偏光板４の表面に蒸着等によって直接に形成される。 - 特許庁

Also provided are an MgO single crystal vapor deposition material and an MgO single crystal substrate for forming a thin film which are obtained from the MgO single crystal.例文帳に追加

また、このＭｇＯ単結晶から得られるＭｇＯ単結晶蒸着材及び薄膜形成用ＭｇＯ単結晶基板である。 - 特許庁

After that, residual gas generated in the vapor deposition stage is purged by using air containing H2O (g), and fumes by the residual gas are removed.例文帳に追加

その後、Ｈ_2Ｏ（ｇ）を含んだ空気を使用して、蒸着段階で発生した残留ガスをパージし、残留ガスによるヒュームを除去する。 - 特許庁

To provide a heating element CVD (chemical vapor deposition) method in which mixture of impurities into a thin film to be formed is suppressed.例文帳に追加

発熱体ＣＶＤ（化学蒸着）法において、作成される薄膜中への不純物の混入を抑制する方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a pretilt angle suitable for a liquid crystal panel of a TN mode which uses an alignment film formed by oblique vapor deposition of an inorganic material.例文帳に追加

無機材料の斜方蒸着による配向膜を用いたＴＮモードの液晶パネルにおいて、これに適するプレチルト角を得る。 - 特許庁

A flow regulating plate 11 is arranged between the evaporation source 3 and the film forming face and on a line radially drawn from the vapor deposition source 3.例文帳に追加

蒸発源３と成膜面との間の、蒸発源３から放射状に引き出した線上に整流板１１を配置する。 - 特許庁

A ZnO vapor deposition material comprises a porous sintered body of ZnO which has an average pore size of 0.1-500 μm.例文帳に追加

ＺｎＯ蒸着材は、ＺｎＯの多孔質焼結体からなり、その焼結体が０．１〜５００μｍの範囲の平均気孔径を有する。 - 特許庁

To provide a substrate-passing type vacuum vapor deposition system which can adjust the angle of incidence and the range of incidence of evaporated particles on a substrate.例文帳に追加

基板への蒸発粒子の入射角度、入射範囲を調整可能とした基板通過型真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

Further, a display part may be formed on the metal surface by screen printing and the vapor deposition film may be formed to cover it.例文帳に追加

また、金属表面にスクリーン印刷により表示部が形成され、この表示部を覆って蒸着膜が形成されていてもよい。 - 特許庁

To provide a film forming device capable of simply applying vapor deposition to a larger substrate, contributing to cost reduction.例文帳に追加

大型化の基板に対して簡便に蒸着を行うことが可能で、コスト削減に寄与することが可能な膜形成装置を提供する。 - 特許庁

In the repairing embodiment, the thermal barrier coating with physical vapor deposition is firstly removed from the lower aluminide dispersion film.例文帳に追加

この方法の、補修の実施形態では、物理蒸着施工の遮熱コーティングは、下層のアルミナイド拡散皮膜から最初に除去される。 - 特許庁

At this time, the film 43a is formed in an LPCVD(low pressure chemical vapor deposition) chamber, which maintains a temperature of 300 to 600°C and a pressure of 0.1 to 1.2 Torr.例文帳に追加

このとき、ＴａＯＮ膜は３００乃至６００℃及び０.１乃至１.２Torrを維持するＬＰＣＶＤチャンバ内で形成される。 - 特許庁

To provide an arc vapor deposition system which can be continuously used for a long period of time and permits more efficient adjustment of target ejection faces.例文帳に追加

長期間の連続使用が可能であり、ターゲット放出面のより効率的な調製が可能なアーク蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a uniform thin film without deposition of projection-like foreign matter when Co or a Co alloy is vapor deposited on the material to be metallized.例文帳に追加

被蒸着材にＣｏもしくはＣｏ合金を蒸着する際に、突起状の異物が付着しない均一な薄膜を得る。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING GLASS LAYER, METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FIBER PREFORM, METHOD FOR PRODUCING OPTICAL FIBER, AND METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE例文帳に追加

ガラス層の形成方法、光ファイバー母材の製造方法及び光ファイバーの製造方法、並びに内付け化学気相堆積装置 - 特許庁

The supply device 40 is not heated to high temperature, so that the vapor deposition material 39 in the supply device 40 is not melted and vaporized.例文帳に追加

供給装置４０は高温に加熱されないから、供給装置４０内の蒸着材料３９が溶融、蒸発しない。 - 特許庁

To eliminate mirror angle errors within a wafer surface in a flat surface optical circuit with a micromirror manufactured by using a diagonal vapor deposition process.例文帳に追加

斜め蒸着工程を用いて作製するマイクロミラー付き平面光回路において、ウエハ面内でのミラー角度誤差をなくする。 - 特許庁

To suppress a mixing of impurities into a thin film, which is formed in a chemical vapor deposition system wherein heating elements are formed by a CVD method.例文帳に追加

発熱体ＣＶＤ法を行う化学蒸着装置において、作成される薄膜中への不純物の混入を抑制する。 - 特許庁

Electric power is supplied from a controller 9 to an electric heater 6 and a material 4 for vapor deposition in a crucible 2 is heated by the electric heater 6.例文帳に追加

コントローラ９から電気ヒータ６に電力が供給され、電気ヒータ６によってるつぼ２内の蒸着材４が加熱される。 - 特許庁

To prevent impurities from being mixed in a thin film, which is formed in a chemical vapor deposition system wherein heating elements are formed by a CVD method.例文帳に追加

発熱体ＣＶＤ法を行う化学蒸着装置において、作成される薄膜中への不純物の混入を防止する。 - 特許庁

The cathode part for electron emission which can emit electrons by applying the electric field includes a group III nitride layer (12) deposited on an electrode (11) by a vapor phase deposition method.例文帳に追加

そのような電子放出用陰極部は、たとえば蛍光表示装置などにおいて好ましく利用され得るものである。 - 特許庁

The card has a single layer card base material or one or more layers of card base materials composed of a core base material and an exterior base material, a metal vapor deposition layer on the card base material, and a protective layer on the metal vapor deposition layer where the metal vapor deposition layer has a flat part and a linear thick or thin film arranged partly in a predetermined direction.例文帳に追加

上記課題を解決するため、本発明では、単層からなるカード基材又は１層以上のコア基材と外装基材からなるカード基材と、カード基材上に金属蒸着層を有し、該金属蒸着上に保護フィルム層を有するカードであって、該金属蒸着層が、平坦部と部分的に一定方向に並んだ線状の厚膜部又は薄膜部とを有することを特徴とするカードとする。 - 特許庁

In a hot wall epitaxy apparatus, a substrate 34 to be treated has at least a vapor deposition surface composed of an SiC single crystal.例文帳に追加

ホットウォール型エピタキシー装置において、被処理基板３４として少なくとも蒸着面がＳｉＣ単結晶からなるものを用いる。 - 特許庁

Further, the moving speed of the vapor-deposition source holder is adjusted too according to the value measured by the film thickness monitor 201 for securing the uniformity in film thickness.例文帳に追加

また、膜厚モニタ２０１で測定された値に従って蒸着源ホルダの移動速度も調節することで膜厚を均一にする。 - 特許庁

An amorphous film 2 in which an amorphous silicon and a crystal silicon are mixed is formed on a glass board 1 by a plasma CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

ガラス基板１上には、非晶質シリコンと結晶シリコンの混在した非晶質系膜２がプラズマＣＶＤ法により形成される。 - 特許庁

Metallic films 6 of Cr, etc., are deposited by vacuum vapor deposition and the metallic film patterns are formed by a lift-off method using a resist stripper (c).例文帳に追加

Ｃｒなどの金属膜６を真空蒸着で成膜し、レジスト剥離液によるリフトオフ法で金属膜パターンを形成する（ｃ）。 - 特許庁

The vapor-deposition material for use in producing the optical layer of high refractive index includes titanium oxide and gadolinium oxide and/or dysprosium oxide.例文帳に追加

酸化チタンと酸化ガドリニウムおよび／または酸化ジスプロシウムとを含む、高屈折率の光学層を製造するための蒸着材料。 - 特許庁

To stabilize the properties of a metallized film capacitor that is to be manufactured by uniformizing the thickness of a vapor deposition film formed on a dielectric film.例文帳に追加

誘電体フィルムに形成する蒸着膜の厚みを均一化し、製造される金属化フィルムコンデンサの特性を安定化する。 - 特許庁

The high-density plasma chemical vapor deposition system 10 has a nozzle 300 for injecting at least two mixed source gases.例文帳に追加

前記高密度プラズマ化学気相蒸着装置１０は、少なくとも二つの混合されたソースガスを噴射するノズル３００を有する。 - 特許庁

A dichroic filter 32 which does not transmit the light of a wavelength not longer than that of blue light is formed on a blue LED device 300 by vapor deposition.例文帳に追加

青色ＬＥＤ素子３００上に青色以下の短波長の光を透過しないダイクロイックフィルタ３２を蒸着形成する。 - 特許庁

The coat is formed by plasma chemical vapor deposition (CVD) using microwaves for a parent material mainly containing ethylene or acetylene.例文帳に追加

前記被膜は、エチレンまたはアセチレンを主成分とする出発原料に対し、マイクロ波を用いるプラズマＣＶＤにより形成されている。 - 特許庁

To optimize an ion irradiation angle when an inorganic alignment film is formed of SiO_2 by oblique vapor deposition using an ion assist in combination.例文帳に追加

イオンアシストを併用した斜方蒸着によりＳｉＯ_2からなる無機配向膜を形成する際のイオン照射角度を最適化する。 - 特許庁

To efficiently produce alkali metal-doped selenium particles that are free from bumping or reduction in a vacuum degree even when used for vacuum vapor deposition.例文帳に追加

真空蒸着に用いる場合にも突沸が起きず、真空度の低下が起こらないアルカリ金属ドープセレン粒子を効率よく製造する。 - 特許庁