「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming an inorganic alignment film capable of suppressing the rise of an internal pressure of a chamber by ejection gas of an evaporation material and improving vapor deposition efficiency and deposition rate.例文帳に追加

蒸発材料の放出ガスによるチャンバ内圧力の上昇を抑制し、蒸着効率及び成膜レートの向上を図ることができる無機配向膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

The structure part and/or the electrode layers and the buffer part are consecutively formed by a sputter method, a vapor deposition method, an aerosol deposition method, an ion plating method, an ion cluster method, a laser beam abrasion method, etc.例文帳に追加

緻密構造部及び／又は電極層と上記バッファ部とを、スパッタ法、蒸着法、エアロゾルデポジション法、イオンプレーティング法、イオンクラスタ法及びレーザービームアブレーション法などによって連続して形成する。 - 特許庁

By using such a material for the mask, the plastic substrate can be heat deformed to approximately the same extent as the mask during vapor deposition, whereby the accuracy of deposition patterning can be enhanced.例文帳に追加

このような材料を蒸着マスクに採用することで蒸着時においてプラスチック基板の熱変形と蒸着マスクの熱変形とを同程度とでき、蒸着パターニング精度を向上できる。 - 特許庁

To provide a substrate cooling method in a vacuum film deposition apparatus in which the throughput accompanied by the cooling treatment is not reduced, or any losses of a material for vapor deposition accompanied by cooling is not brought about.例文帳に追加

冷却処理に伴うスループットの低下を生じることがなく、また、冷却処理に伴う蒸着材料のロスがない真空成膜装置における基板の冷却方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lid made of a laminated polyamid film which is excellent in adherence to a silicon oxide vapor deposition film, gas-barriering capacity and resistivity against hot water and free from occurrence of cracks at the deposition film resulting from an external force or heat.例文帳に追加

酸化珪素蒸着皮膜との密着性、ガスバリヤー性、耐熱水性に優れ、外力や熱等による蒸着皮膜のクラックの発生のない積層ポリアミドフィルムを用いた蓋材を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum deposition apparatus and a vacuum deposition method wherein a substrate can be set in a state in which it is not deformed by its own weight, and the substrate can be vapor-deposited in a uniform film thickness.例文帳に追加

被蒸着体を自重で変形しない状態でセットすることができ、均一な膜厚で被蒸着体に蒸着を行なうことができる蒸着装置及び蒸着方法を提供する。 - 特許庁

In this deposition method, while the opening part 42b of the shutter 4b on the substrate side is parallelly moved to the surface of a transparent substrate 1 at a variable speed, the shutter 3 on the evaporation source side is opened, and vapor deposition is started.例文帳に追加

本形成方法においては、基板側シャッタ４ｂの開口部４２ｂを、透明基板１上に可変速で平行移動させつつ、蒸発源側シャッタ３を開放して蒸着を開始させる。 - 特許庁

In the film deposition method, the vapor deposition distribution of a material for depositing a thin film is unified by setting the difference in the number of times of scattering with inert gas is within 20% between a center part of a substrate and an end part of the substrate.例文帳に追加

不活性ガスにより散乱される回数の差が基板中心部と基板端部で２０％以内でとすることで薄膜形成材料の蒸着分布を均一化する成膜方法。 - 特許庁

To provide a solution serving as a raw material for organometallic chemical vapor deposition with which uniform, stable vaporization can be performed and a desired titanium-containing thin film of high purity can be obtained at a high film deposition rate, and to provide a titanium-containing thin film which has excellent barrier properties as the base of a copper thin film.例文帳に追加

均一で安定した気化が行われ、高い成膜速度で高純度の所望のチタン含有薄膜が得られる有機金属化学蒸着用の溶液原料を提供する。 - 特許庁

To provide a resistance film forming composition for obtaining a resistance body having satisfactory TCR similar to that of a thin film resistance body in a simple method using no vacuum deposition such as vapor deposition.例文帳に追加

蒸着などの真空成膜を使用しない簡単な工法で、薄膜抵抗体と同じような良好なＴＣＲを有する抵抗体を得るための抵抗膜形成組成物を提供する。 - 特許庁

In the gas-barrier deposition film, an oxide vapor deposition film and a barrier coat layer overlie one side of a base film made of a polyester manufactured by using a titanium catalyst as a polycondensation catalyst.例文帳に追加

重縮合触媒としてチタン系触媒を使用して製造したポリエステルからなる基材フィルムの一方の面に、酸化物蒸着膜及びバリアコート層を積層したガスバリア性蒸着フィルム。 - 特許庁

In the gas-barrier deposition film, an anchor coat, an oxide vapor deposition film, and barrier coat overlie one side of a base film made of a polyester manufactured by using a titanium catalyst as a polycondensation catalyst.例文帳に追加

重縮合触媒としてチタン系触媒を使用して製造したポリエステルフィルムからなる基材フィルムの一方の面に、アンカーコート、酸化物蒸着膜及びバリアコートを積層したガスバリア性蒸着フィルム。 - 特許庁

When vacuum deposition is performed using the vapor deposition material, the change in the film composition and splashes are reduced, so that a thin film having a homogeneous composition and a medium refractive index can stably be obtained.例文帳に追加

また、この蒸着材料を用いて真空蒸着を行うと、膜組成の変化やスプラッシュが少ないため、均質な組成を有する中屈折率の薄膜を安定して得ることができる。 - 特許庁

To provide a method for adding a new means of increasing degree of vacuum to a film deposition chamber for sputtering, CVD and vapor deposition and to improve the throughput of the system.例文帳に追加

本願発明は、スパッタ成膜、ＣＶＤ成膜，蒸着成膜チャンバーに新たな真空度を高める手段を追加する方法を提供し、装置のスループットを向上させることを課題とする。 - 特許庁

To continuously and stably feed a raw metal for a long time in metal vapor deposition, to prevent any splash, and to prevent functional losses caused by melting damage of a feed port and metal deposition.例文帳に追加

金属蒸着において原料金属を長時間連続して安定的に供給し、スプラッシュを防ぐと同時に供給口の溶解毀損および金属被着による機能損失を防ぐこと。 - 特許庁

To provide a technique where rotational film deposition is made possible, the improvement of a film thickness distribution is made possible, a plurality of opening parts in a mask body are opened in an optional order, and vapor deposition under various conditions is made possible.例文帳に追加

回転成膜が可能で膜厚分布の向上が可能で、マスク本体の複数の開口部を任意の順序で開口させて種々の条件の蒸着が可能な技術を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition system where a wafer can be heated rapidly and uniformly in a treatment chamber to improve the throughput of film deposition treatment and lower the vapor growth treatment temperature.例文帳に追加

基板を処理室内で均一且つ迅速に加熱して、成膜処理のスループットを向上させると共に、気相成長処理の低温化を図ることができるようにした成膜装置を提供する。 - 特許庁

The inside surface side of the window section 33 constituting the view port 31 for monitoring the inside of the deposition chamber is provided with a coating layer 37 formed by vapor deposition of MgF2 having excellent corrosion resistance to the gaseous fluorine and fluorine radicals.例文帳に追加

製膜室内監視用ビューポート３１を構成する窓部３３の内面側に、フッ素系ガス及びフッ素ラジカルに対して耐食性に優れたＭｇＦ_2を蒸着してなる被覆層３７を設ける。 - 特許庁

The optical member has a plastic base material and multilayered antireflection films composed of inorganic vapor-deposited films and organic vapor-deposited films, in which the organic vapor-deposited films are formed by using an organic silicon compound and a silicon non-containing organic compound essentially consisting of carbon and hydrogen as raw materials for vapor deposition.例文帳に追加

プラスチック基材と、無機蒸着膜及び有機蒸着膜より構成される多層反射防止膜を有する光学部材であって、前記有機蒸着膜が有機ケイ素化合物と、炭素及び水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料としたものである光学部材である。 - 特許庁

The vapor deposition pot is equipped with: an evaporation chamber formed of the part to be packed with a material and an orifice plate for controlling the vapor pressure of the material by evaporation; and a pressure-controlling chamber formed in a space between the orifice plate and a discharge plate of discharging the evaporated material to the outside of the vapor deposition pot.例文帳に追加

本発明による蒸着坩堝は、材料を充填する部分並びに当該材料の蒸発による蒸気圧を制御するオリフィス板で形成された蒸発室と、前記オリフィス板と蒸発された前記材料を蒸着坩堝の外側へ吐出する吐出板との間の空間に形成される圧力制御室とを備える。 - 特許庁

The coloring chamber 12 is connected to the protective layer depositing chamber 13, the object 50 to be colored with the colored layer deposited thereon is carried into the protective layer depositing chamber 13 without being exposed to the atmosphere, and a protective layer is deposited on the surface of the colored layer with the vapor of the second vapor deposition material emitted from the second vapor deposition source 22.例文帳に追加

着色室１２と保護層形成室１３とが連結されており、着色層が形成された着色対象物５０は大気に曝されずに保護層形成室１３内に搬入され、第２の蒸着源２２から放出される第２の蒸着材料蒸気によって、着色層表面に保護層が形成されるようになっている。 - 特許庁

To provide a structure of a discharge electrode in a plasma chemical vapor deposition system, in which the uniform plasma generation condition is attained even in large surface area film deposition by preventing the ununiform plasma generation condition caused by the ununiformity of standing wave, sheath capacitance, the gas flow of NF_3 for self cleaning or the like in the plasma chemical vapor deposition using very high frequency wave(VHF).例文帳に追加

高高周波（ＶＨＦ）を利用するプラズマ化学蒸着装置において、定在波、シースキャパシタンス、セルフクリーニング用ＮＦ_３ガス流れの不均一などで生じるプラズマ発生状況の不均一を防止し、大面積でプラズマ発生状況が均一となるようなプラズマ化学蒸着装置における放電電極の構造の提供。 - 特許庁

To provide an evaporation source which is used in a vapor-deposition apparatus that selectively deposits a deposition material emitted from the evaporation source onto a substrate, by using a mask assembly having a plurality of slits formed so as to become a predetermined pattern, and changes a nozzle structure of the evaporation source to minimize a shadow effect, and to provide a vapor-deposition apparatus using the same.例文帳に追加

所定パターンに形成された複数のスリットを含むマスク組立体を用いて蒸発源から放射される蒸発物質を選択的に基板に蒸着する蒸着装置において、上記蒸発源のノズル構造を変更してシャドー効果を最小化する蒸発源及びそれを用いた蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for organic electroluminescent element deposition by which an organic compound is evenly heated and stable deposition of the organic compound is carried out for a long period of time, and to provide a vapor deposited film by the organic compound in the composition for organic electroluminescent element deposition, to provide a method of manufacturing the same, and to provide the organic electroluminescent element formed with the vapor deposited film.例文帳に追加

有機化合物を均一に加熱して、有機化合物の安定成膜を長時間行うことができる有機電界発光素子成膜用組成物、並びに、該有機電界発光素子成膜用組成物における有機化合物による蒸着膜及びその製造方法、及び該蒸着膜が形成された有機電界発光素子の提供。 - 特許庁

The gas-barrier lamination material has a base material, a 1,3,5-triazine derivative deposition layer which is obtained by vapor-depositing a 1,3,5-triazine derivative applicable as a vapor-deposition material on the base material and has gas-barrier properties, and a moisture-proof layer formed on the deposition layer.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、この基材上に蒸着材料として使用可能な１，３，５−トリアジン誘導体を蒸着させてなり、ガスバリア性を有する１，３，５−トリアジン誘導体蒸着層と、この１，３，５−トリアジン誘導体蒸着層上に形成された防湿層とを有することを特徴とするガスバリア性積層材を提供する。 - 特許庁

To manufacture a ZnO vapor deposition material which is excellent in composition uniformity by suppressing the segregation of rare earth oxides containing ≥2 and ≤17 kinds of elements selected from the rare earth group to be added to ZnO raw material powder, and to manufacture a ZnO vapor deposition material capable of obtaining a ZnO film uniform in deposition film composition.例文帳に追加

蒸着材に用いられるＺｎＯ焼結体において、希土類元素群から選ばれた２種以上１７種以下の元素を含む希土類元素酸化物の偏析を抑制し、組成均一性に優れたＺｎＯ蒸着材を製造するとともに、蒸着膜の組成が均一なＺｎＯ膜が得られるＺｎＯ蒸着材を製造する。 - 特許庁

The member for a semiconductor processing apparatus having corrosion resistance and plasma erosion resistance in combination is created by a base material, and a vapor phase precipitated vapor deposition film of a chemically stable amorphous carbon-hydrogen solid material containing 15 to 40at.% hydrogen formed on the surface of the base material, and by dispersively incorporating superfine particles of a metal oxide into the vapor phase precipitated vapor deposition film of the amorphous carbon-hydrogen solid material.例文帳に追加

基材と、その表面に形成された１５〜４０ａｔ％の水素を含有する化学的に安定なアモルファス状炭素・水素固形物の気相析出蒸着膜と、そのアモルファス状炭素・水素固形物の気相析出蒸着膜中には金属酸化物の超微粒子を分散含有させることによって、耐食性と耐プラズマエロージョン性を兼備した半導体加工装置用部材をつくる。 - 特許庁

To prevent re-adhesion of a separated product dispersed from a substrate to an organic EL mask while removing the vapor deposition object in a complete non-contact state with the substrate, when cleaning is performed for removing the vapor deposition object adhered to the organic EL mask.例文帳に追加

有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、基板から飛散した遊離生成物を有機ＥＬ用マスクに再付着させないようにすることを目的とする。 - 特許庁

A vapor deposition system 5 is used to carry out vapor deposition by applying an electron gun 6 to evaporation materials fed into loop-shaped hearths 8 and is provided with a plurality of hearth blocks 12 where the loop- shaped hearths 8 to be fed with the evaporation materials are formed.例文帳に追加

本発明に係る蒸着装置は，ループ状ハース８に供給された蒸着材料に電子銃６を照射して蒸着を行う蒸着装置５であって，蒸着材料が供給されるループ状ハース８が形成された複数のハースブロック１２を備える。 - 特許庁

The vapor deposition cell 20 used for a vapor deposition apparatus is provided with: a crucible 30 having an opening part on a top, an independent aperture diaphragm member 40 having an aperture diaphragm part 42 for restricting the area of the opening part of the crucible 30; and a heater 50 for directly heating the aperture diaphragm member 40.例文帳に追加

蒸着装置に用いる蒸着源セル２０であって、上部に開口部を有する坩堝３０と、坩堝３０の開口部の面積を制限する絞り部４２を有する独立した絞り部材４０と、絞り部材４０を直接加熱するヒータ５０とを備える構成とした。 - 特許庁

The method for manufacturing the glass particulate deposit by a VAD (vapor-phase axial deposition) process or OVD (outside vapor deposition) process comprises maintaining the humidity within the apparatus for manufacturing the glass particulate deposit at ≤5 g/kg or the oxygen concentration therein at ≤20%.例文帳に追加

ＶＡＤ法若しくはＯＶＤ法によってガラス微粒子堆積体を製造する方法において、ガラス微粒子堆積体製造装置内の湿度を５ｇ／ｋｇ以下又は酸素濃度を２０％以下に保持することを特徴とするガラス微粒子堆積体の製造方法。 - 特許庁

In the base member molding step, temperature of a die for the injection molding is set to be higher than ambient temperature in the vapor deposition step, and in the vapor deposition step, an optical film is formed with a multilayer comprising a bilayer of silicon dioxide and titanium oxide or a titanium oxide-based composite material.例文帳に追加

前記の基材成形工程においては、射出成形のための金型を、前記の蒸着工程における雰囲気温度よりも高く設定し、 前記の蒸着工程は、二酸化珪素と酸化チタンまたは酸化チタン系複合材の二層膜とを多層として光学膜を形成する。 - 特許庁

The system for forming a chemical vapor deposition(CVD) diamond coating film on the nonplanar surface of an object has a deflection plate having a deflection surface which resists diamond coating by a diamond forming reagent formed by the system and can withstand relatively high vapor deposition temperature.例文帳に追加

目的物の平面でない表面に化学蒸着ダイヤモンド被覆を形成する装置は、該装置により生成されたダイヤモンド形成試薬によりダイヤモンド被覆に抵抗しまた比較的高い蒸着温度に耐えるようになっている偏向表面を有する偏向板を含んでいる。 - 特許庁

In a laminate wherein the vapor deposition thin film layer 2 comprising an inorganic oxide and the gas barrier film layer 3 are successively laminated on at least the single surface of a base material film 1, the component of the gas barrier film layer 3 is incorporated in the vapor deposition thin film layer 2 to impart flexibility.例文帳に追加

基材フイルム１の少なくとも片面に、無機酸化物からなる蒸着薄膜層２、ガスバリア性被膜層３を順次積層した積層体において、ガスバリア性被膜層３の成分を蒸着薄膜層２中に入り込ませることにより、可撓性を付与する。 - 特許庁

To provide an apparatus for carrying out plasma chemical vapor deposition by which one or more layers of doped or undoped silica are deposited onto the interior of an elongated hollow glass substrate tube, and a method of manufacturing an optical preform by means of plasma chemical vapor deposition.例文帳に追加

ドープされた、またはドープされていないシリカの１層または複数層が細長の中空のガラス基材チューブの内側に蒸着されるプラズマ化学蒸着法を実行するための装置、さらにプラズマ化学蒸着法によって光学的予備成形品を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

A vacuum vapor deposition apparatus has an electron gun 14 to generate electron beams to shock the evaporation material in the recessed part at the vapor deposition position to evaporate the evaporation material, and an electron gun 21 to generate electron beams to preliminarily heat the evaporation material in the recessed parts at the preliminary heating position.例文帳に追加

蒸着位置に来た凹部の蒸発材料を衝撃して蒸発材料を蒸発させるための電子ビームを発生する電子銃１４と、予備加熱位置に来ている凹部の蒸発材料を予備加熱するための電子ビームを発生する電子銃２１が設けられている。 - 特許庁

The semiconductor forming method of this invention comprises a step to form a primary conductive metal compound film on a substrate by an organometallic chemical vapor deposition process, and a step to form a secondary conductive metal compound film on the primary conductive metal compound film by a physical vapor deposition process.例文帳に追加

前記方法は、基板上に有機金属化学蒸着工程によって第１導電性金属化合物膜を形成し、前記第１導電性金属化合物膜上に物理気相蒸着工程によって第２導電性金属化合物膜を形成することを含む。 - 特許庁

After a stimulable phosphor layer 11 is formed on a support body 12 by a vapor-phase deposition method (vapor phase method), a polyurea protective film 15 is formed on the phosphor layer by deposition by using an amine compound and an isocyanate compound either of which is an aliphatic compound.例文帳に追加

支持体１２上に気相堆積法（気相法）により輝尽性蛍光体層１１を形成後、何れか１種の化合物が脂肪族系化合物であるアミン化合物及びイソシアネート化合物を用いて蛍光体層上にポリウレア保護膜１５を蒸着により形成する。 - 特許庁

To provide a vapor phase deposition film manufacturing method, a vapor phase deposition film manufacturing apparatus, and a radiation image conversion panel manufacturing method capable of manufacturing a radiation image conversion panel suppressing occurrence of point defects or the like and obtaining an image of high quality with less defects.例文帳に追加

点欠陥などの発生を抑制し、欠陥が少ない高品位な画像が得られる放射線像変換パネルを製造することができる気相堆積膜の製造方法および気相堆積膜の製造装置並びに放射線像変換パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In inner-wall screening components, such as a pan 2 and screening frame 3, disposed within a deposition kettle 11 of an aluminum vapor deposition device, surface portions, such as a receiving surface 2b and inner circumferential surfaces 3b, exposed to aluminum vapor are roughened by sand-blasting.例文帳に追加

アルミニウム蒸着装置１の蒸着釜１１の内部に配置される受け皿２及び遮蔽枠３等の内壁遮蔽部品において、アルミニウム蒸気に晒される受け表面２ｂ及び内周表面３ｂ等の表面部分に、サンドブラスト加工による凹凸成形を施した。 - 特許庁

Since a vapor deposition film 205 formed on a nozzle face 220 where a nozzle 21 has been formed is formed to have thickness of 60 nm or more, the amount of liquid repellent material which enters the nozzle 21 from a nozzle opening 210 is increased, and the vapor deposition film 205 is uniformly formed deeply to the inner wall of the nozzle 21.例文帳に追加

ノズル２１が形成されたノズル面２２０に形成される蒸着膜２０５の厚さが６０ｎｍ以上形成されるので、ノズル開口２１０からノズル２１内に進入する撥液材料の量が増え、ノズル２１の内壁深くまで均一に蒸着膜２０５を形成できる。 - 特許庁

This manufacturing method includes forming the thin film containing silicon oxide which is formed of a vapor-deposition material, on the surface to be film-formed of the substrate, by irradiating the vapor-deposition material containing silicon, which has been evaporated from an evaporation source, with Ar plasma generated by a plasma gun of which the output is in a range of 3-12 KW.例文帳に追加

蒸発源から蒸発させた珪素を含む蒸着材料に向けて、プラズマガンにより出力が３ＫＷから１２ＫＷの範囲内でＡｒプラズマを照射して、基材の被成膜面に上記蒸着材料よりなる酸化珪素を含む薄膜を成膜する。 - 特許庁

The cleaning method is characterized in that, upon cleaning a mask by irradiating a vapor deposition material adhering to the mask with laser light, the surface of the mask as a vapor deposition face is cleaned by irradiating the surface with the laser beam, and the back face is also cleaned by irradiating the back face with the laser beam.例文帳に追加

マスクに付着した蒸着材料にレーザ光を照射しマスクを洗浄する際に、マスクの蒸着面である表面に該レーザ光を照射し該表面を洗浄し、前記レーザ光を前記マスクの裏面へ照射し該裏面も洗浄することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus, in a line-shaped vaporization container, even if unevenness in temperature and the deviation of an evaporation material are present, which can improve the uniformity of the film thickness distribution of a thin film by vapor deposition even in a large-sized substrate even without reducing the utilizing efficiently of the evaporation material.例文帳に追加

ライン状の蒸発容器において、温度むらや蒸発材料の偏りがあっても、蒸発材料の利用効率を下げることなく、大型基板においても、蒸着による薄膜の膜厚分布の均一性を向上することができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The thin film comprising crystals having a polygonal prism structure is formed by any method of a physical vapor deposition method, a chemical vapor deposition method and a solution method, and subjected to heat treatment at a temperature at which the thin film is not etched in a reductive atmosphere.例文帳に追加

多角柱状構造を有する結晶からなることを特徴とする薄膜であって、該薄膜は物理気相成長法、化学気相成長法、溶液法のいずれかの方法によって形成され、還元雰囲気において薄膜がエッチングされない温度で熱処理が施される。 - 特許庁