「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

A measuring terminal 61 connected electrically to a measuring instrument 62 is brought into contact respectively with the two conductive parts 60 to measure an electric resistance value of the vapor deposition film 53 i.e. a film resistance of the vapor deposition film 53 along a substrate face of the element substrate 1b, using a biterminal method.例文帳に追加

測定器６２に電気的に接続された測定端子６１を２つの導電部６０の夫々に接触させることによって、２端子法を用いて蒸着膜５３の電気抵抗値、即ち、素子基板１ｂの基板面に沿った蒸着膜５３の膜抵抗を測定する。 - 特許庁

In the method, the organic EL device is manufactured by using a single vapor deposition mask for allocating a vapor deposition zone for a organic EL medium layer and a cathode, and by forming a cathode connector shadow structure which enables electric connection between the cathode and a cathode connector.例文帳に追加

有機ＥＬ媒体層及びカソードを蒸着させるための蒸着ゾーンを定める単一の蒸着マスクを用いることにより、そしてカソードとカソードコネクター間に電気接続をもたらすためのカソードコネクターシャドウ構造物を形成することによる、有機ＥＬデバイスを製造するための方法。 - 特許庁

To provide a strong adhesive vapor deposition film which reinforces the adhesion of a polyethylene terephthalate film with an inorganic oxide vapor deposition film and is free from the generation of a delamination phenomenon, even when especially heat sterilization by retort or the like is performed, and a packaging material for retorting.例文帳に追加

本発明は、ポリエチレンテレフタレートフィルムと無機酸化物蒸着膜の密着を強化し、特にレトルトなどの加熱殺菌を行ってもデラミネーションの発生しない強密着蒸着フィルムおよびそれを用いたレトルト用包装材料を提供することを目的とする。 - 特許庁

The Ti-V alloy target material for vapor deposition is a Ti-V alloy target material used for dry process vapor deposition and having a part where Ti and V are allowed to enter into solid solution, in an amount of ≥5% by surface area ratio of a mirror polished specimen, and also having 95-100% relative density.例文帳に追加

ドライプロセス蒸着用として用いられるＴｉ−Ｖ合金製ターゲット材であって、ＴｉとＶが固溶した部分を鏡面研磨試料の表面面積率で５％以上有し、且つ相対密度が９５〜１００％である蒸着用Ｔｉ−Ｖ合金製ターゲット材。 - 特許庁

Since the vapor of the deposition material 64 is reduced when it is made to pass through the through hole 66 of a discharge amount limit member 63 arranged between the object 28 to be deposited and the deposition material 64, a small amount of the vapor can be made to be contained in the semiconductor layer 26.例文帳に追加

蒸着材料６４の蒸気は、成膜対象物２８と蒸着材料６４の間に配置した放出量制限部材６３の貫通孔６６を通過させることで減少させるので、半導体層２６に微少量含有させることができるようになる。 - 特許庁

When the film is continuously formed on the surface of the grain oriented magnetic steel sheet which is already subjected to a final finish annealing and has no forsterite film on the surface by the chemical vapor deposition treatment, the temperature of the steel sheet at the chemical vapor deposition is kept higher than atmosphere temperature.例文帳に追加

表面にフォルステライト被膜のない、最終仕上焼鈍済の方向性電磁鋼板の表面に、化学気相蒸着処理によって連続的に被膜を形成するに際し、該化学気相蒸着処理における、鋼板温度を雰囲気温度よりも高温にする。 - 特許庁

To provide a vapor deposition material and an optical thin film, in which problems such as chemical reactivity with moisture and carbon dioxide, a composition gap, light absorption and meltability that have occurred in a conventional vapor deposition material and an optical thin film having a medium refractive index have been all resolved, and to provide a production method therefor.例文帳に追加

従来の中屈折率の蒸着材料や光学薄膜が有していた、水分や二酸化炭素との化学反応性、組成ズレ、光吸収及び溶融性における問題点がすべて解消された、蒸着材料、光学薄膜及びそれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

An exhaust port 270 is located on the virtual extension line L10 extending the gas introducing direction from the gas inlet 260, and the extension line L10 is across a center part 291 of a vapor deposition material flow 290 toward the first substrate 10 from the vapor deposition source 280.例文帳に追加

ガス導入口２６０からのガス導入方向を延長した仮想の延長線Ｌ１０上に排気口２７０が位置し、かつ、かかる延長線Ｌ１０は、蒸着源２８０から第１基板１０に向かう蒸着材料流２９０の中央部分２９１を横切っている。 - 特許庁

A barrier layer provided with a vapor deposition film of an inorganic oxide and a gas barrier coating film on one side surface of at least a substrate film or a substrate film for vapor deposition, and a heat sealing resin layer are successively laminated to provide the laminated material, and the packaging bag using the same is provided.例文帳に追加

少なくとも、基材フィルム、蒸着用基材フィルムの一方の面に無機酸化物の蒸着膜とガスバリア性塗布膜とを設けたバリア性層、および、ヒ−トシ−ル性樹脂層を順次に積層したことを特徴とする積層材およびそれを使用した包装用袋に関するものである。 - 特許庁

A barrier natured layer provided with a vapor deposition film of an inorganic oxide and a primer agent layer at least on one side surface of a substrate film or a substrate film for vapor deposition, and a heat sealing resin layer are successively laminated to provide the laminated material, and the packaging bag using the same is provided.例文帳に追加

少なくとも、基材フィルム、蒸着用基材フィルムの一方の面に無機酸化物の蒸着膜とプライマ−剤層とを設けたバリア性層、および、ヒ−トシ−ル性樹脂層を順次に積層したことを特徴とする積層材およびそれを使用した包装用袋に関するものである。 - 特許庁

The quantity of a vapor deposition material released from crucibles 104a and 104b being a vapor deposition source and reaching the optical substrate 12 is controlled by the opening part of the shielding member 112 while rotating the optical substrate 12 held by the substrate holder 111 by the rotation mechanism 108.例文帳に追加

光学基板１２を基板ホルダー１１１で保持し、自転機構１０８によって回転させた状態で、蒸着源であるルツボ１０４ａ、１０４ｂから発散して光学基板１２に到達する蒸着物質の量を遮蔽部材１１２の開口部により制限する。 - 特許庁

A metal vapor deposition layer 20 is formed on the surface side 11a of a substrate 11 and a transparent resin surface layer 30 is formed on the surface side of the metal vapor deposition layer 20 while a backing material 15 is integrally laminated on the rear surface side 11b of the substrate 11 through an adhesive layer 14.例文帳に追加

基材１１の表面側１１ａに金属蒸着層２０を形成し、前記金属蒸着層２０の表面側には透明樹脂表面層３０を形成するとともに、前記基材１１の裏面側１１ｂには接着剤層１４を介して裏打ち材１５を一体に積層した。 - 特許庁

In a method of manufacturing the heat conduction material, the material is prepared by a chemical vapor deposition process, a physical vapor deposition process, a melting process, or other material manufacturing methods, and the carbon having the tetrahedron structure may be provided covering the surface of the metal material, or may be mixed into the metal material.例文帳に追加

熱伝導材料の製造方法は、化学気相成長法、物理気相成長法、溶融、またはその他の材料製造方法で完成し、且つ正四面体構造の炭素は金属材料表面を覆ってもよく、金属材料中に混入してもよい。 - 特許庁

Also, by providing a polyacrylic acid based resin layer adjacently to the vapor deposition layer of the outer bag of the vacuum insulation material 1, the temporal degradation of heat conductivity is reduced even when the vapor deposition layer is set as one layer and the heat leakage through the outline of the vacuum insulation material 1 is reduced further.例文帳に追加

また、真空断熱材１の外袋の蒸着層に隣接してポリアクリル酸系樹脂層を設けることにより、蒸着層を一層とした場合にも熱伝導率の経時劣化を低減するとともに、真空断熱材１の外郭を通じた熱漏洩のさらなる低減が可能となる。 - 特許庁

To provide an evaporation source for vacuum vapor deposition, which can form a film with a film thickness exceeding several hundred micrometers, can highly uniformly and quickly melt a large amount of a film-forming material, and can prevent a defect due to bumping and the like, and to provide a vacuum vapor-deposition apparatus using the evaporation source.例文帳に追加

数百μｍを超える厚膜の成膜が可能であり、かつ、多量の成膜材料を高い均一性で迅速に溶融でき、しかも、突沸に起因する欠陥等も防止できる真空蒸着用の蒸発源、および、この蒸発源を利用する真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

This is the vacuum vapor deposition mask on a thin plate formed by a magnetic material, and this is made to be the mask for the vacuum vapor deposition and the vacuum film-forming device composed of a retaining region to a mask holder, a film-forming region having an opening part, and a region in which the distortion of the mask is moderated.例文帳に追加

磁性材料で形成された薄板上の真空蒸着マスクであって、マスクホルダーへの保持領域、開口部を有する成膜領域、マスクの歪みを緩和する領域からなることを特徴とする、真空蒸着用マスク及び真空成膜装置。 - 特許庁

The metallic decorative sheet is obtained by making a metal vapor deposition film 4, which keeps a metal vapor deposition layer 1 installed on at least one side of a transparent thermoplastic resin film 2 and has a total light transmittance of 10-50%, overlie a colored thermoplastic resin sheet 5.例文帳に追加

本発明の熱成形加工用の金属調加飾シートは、透明な熱可塑性樹脂フィルム２の少なくとも片面に金属蒸着層１を設け、全光線透過率を１０〜５０％とした金属蒸着フィルム４を、着色された熱可塑性樹脂シート５に積層することによって得られる。 - 特許庁

To provide a vapor deposition film having excellent transparency and high gas barrier properties, generating no deterioration of physical properties even after boiling or retort sterilization, having high boiling resistance and retorting resistance not generating delamination or the like and high in practicality and a packaging material using this vapor deposition film.例文帳に追加

透明性に優れ、高いガスバリア性を有すると共にボイル殺菌やレトルト殺菌後も物性の劣化がなく、デラミネーション等の発生がない高いボイル性、耐レトルト性を持つ実用性の高い蒸着フィルムおよびこの蒸着フィルムを用いた包装材料を提供すること。 - 特許庁

A cylindrical plasma 3a is generated in a vacuum vapor deposition chamber 30, and at the same time, a material gas is supplied into the vacuum vapor deposition chamber 30, and pulse voltage is applied to a first shaft 10 as a coated body to form a DLC film 121 on the surface of the first shaft 10.例文帳に追加

真空蒸着室３０内に円柱状のプラズマ３ａを発生させると共に真空蒸着室３０内に材料ガスを供給し、被成膜体である第１シャフト１０にパルス電圧を印加して第１シャフト１０の表面にＤＬＣ膜１２１を形成する。 - 特許庁

To provide a material and a method for efficiently manufacturing a vapor deposition material capable of stably, efficiently and inexpensively depositing a magnesium oxide film of high homogeneity; and to provide a magnesium oxide powder being a raw material of manufacturing a magnesium oxide vapor deposition material.例文帳に追加

均質性の高い酸化マグネシウム膜を安定して効率よく成膜できる蒸着材を効率よく、しかも低コストで製造するための材料および方法の提供、および前記酸化マグネシウム蒸着材の製造原料となる酸化マグネシウム粉末を提供すること。 - 特許庁

This scintillator panel having a scintillator layer formed on a high polymer film by vapor deposition of materials of the scintillator is heat-treated over one hour under the atmosphere of a temperature range of -50 to +20°C with the glass transition temperature of the high polymer film as reference after vapor deposition.例文帳に追加

高分子フィルム上にシンチレータの原料の蒸着により形成されたシンチレータ層を有するシンチレータパネルであって、該蒸着後に該高分子フィルムのガラス転移温度を基準として−５０℃〜＋２０℃の温度範囲の雰囲気下で１時間以上の熱処理されたことを特徴とするシンチレータパネル。 - 特許庁

To produce ZnO vapor deposition material excellent in compositional homogeneity, by controlling segregation of rare earth element oxide powder containing one of rare earth elements added to ZnO raw powder, and also to produce ZnO vapor deposition material from which a ZnO film with homogeneous film composition is obtained.例文帳に追加

ＺｎＯ原料粉末に添加される、希土類元素を１種含む希土類元素酸化物粉末の偏析を抑制し、組成均一性に優れたＺｎＯ蒸着材を製造するとともに、膜組成が均一なＺｎＯ膜が得られるＺｎＯ蒸着材を製造する。 - 特許庁

To provide an organic EL device manufacturing apparatus or a method for manufacturing the same which can convey a substrate in a vacuum with a vapor-deposition face of the substrate facing upward using a simple mechanism, and perform vapor-deposition at top-face conveyance in high definition, or to provide a film forming device or a film forming method.例文帳に追加

真空内を機構が簡単で基板の蒸着面を上面にして搬送ができ、前記上面搬送においても高精彩に蒸着可能な有機ＥＬデバイス製造装または同製造方法あるいは成膜装置または成膜方法を提供することである。 - 特許庁

The invention relates especially to a final optical-fibre preform comprising a primary preform 3 obtained by a VAD (vapor-phase axial deposition) process or an OVD (outside vapor deposition) process, a silica sleeve tube 4 surrounding the primary preform 3, and a built-up layer 5 made of silica particles surrounding the silica sleeve tube 4.例文帳に追加

本発明は、ＶＡＤ堆積法またはＯＶＤ堆積法によって得られる一次プリフォーム３と、一次プリフォーム３を取り囲むシリカスリーブチューブ４と、シリカスリーブチューブ４を取り囲むシリカ粒子でできたビルトアップ層５とを含む、光ファイバ最終プリフォームに特に関する。 - 特許庁

A film is formed on a long sheet substrate 1 comprising a polymer film by means of a vacuum vapor deposition process by using an iron-cobalt alloy as a vapor deposition source, and a magnetic layer 2 is formed, which comprises a thin film whose main component is a cobalt-containing maghemite which contains cobalt of 2-20 wt.%.例文帳に追加

高分子フィルムよりなる長尺状の基体１上に、鉄コバルト合金を蒸着源とし、真空蒸着工程により成膜を行い、コバルトの含有量が２〜２０重量％のコバルト含有マグヘマイトを主成分とする薄膜よりなる磁性層２を形成する。 - 特許庁

The rubber composite material comprises the nonwoven fabric, a film formed with a metal or a metal compound capable of being reactive with a sulfur on surfaces of filaments for constituting the fabric by a physical vapor deposition method(PVD) or a chemical vapor deposition method(CVD), and the rubber adhered to the film and coating the fabric.例文帳に追加

不織布と、該不織布を構成するフィラメント表面に硫黄と反応可能な金属または金属化合物を物理的気相成長法（ＰＶＤ）または化学的気相成長法（ＣＶＤ）により形成された被膜と、該被膜と接着し、前記不織布を被覆するゴムとからなる。 - 特許庁

To achieve extending the life of a filament, stabilizing an electron emitting capacity, further improving quality and reliability of an oxide film formed by a vapor deposition process with the use of such a filament, saving time and labor for the vapor deposition process, and reducing the cost.例文帳に追加

フィラメントの長寿命化および電子放出性能の安定化を達成し、延いてはそのようなフィラメントを用いて行われる蒸着プロセスによって成膜される酸化物膜の品質や信頼性の向上およびその蒸着プロセスに要する手間や時間の簡易化や低コスト化を達成する。 - 特許庁

To provide a method for measuring an amount of a source substance existing in a source substance evaporation section in a chemical vapor-deposition process of vapor-depositing a thin film on an article by supplying a source gas which has been produced by evaporating the source substance stored in the source substance evaporation section into a deposition chamber.例文帳に追加

ソース物質蒸発部に貯蔵されているソース物質を蒸発させて生成したソースガスを蒸着チャンバーに供給して薄膜蒸着を行う化学気相蒸着工程において、ソース物質蒸発部内に存在するソース物質の量を測定する方法を提供する。 - 特許庁

In the vapor deposition film, plasma treatment by a reactive ion etching (RIE) method is applied to one side of a coextrusion stretched film base material made of at least a polyester resin and a polyamide resin, and a vapor deposition film layer of an inorganic compound is formed on the plasma-treated surface.例文帳に追加

少なくともポリエステル樹脂とポリアミド樹脂からなる共押出し延伸フィルム基材の片面に、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）法によるプラズマ処理を施し、該プラズマ処理面上に無機化合物の蒸着膜層を設けたことを特徴とする蒸着フィルムである。 - 特許庁

In the crucible for vapor deposition where a vapor depositing material is heated and evaporated, a first shield board is provided at the part higher than the evaporation face of the vapor depositing material stored into the bottom part of the crucible, and a second shield board is provided at the part higher than the first shield board.例文帳に追加

蒸着材料を加熱および蒸発させる蒸着用るつぼにおいて、るつぼの底部に収容される蒸着材料の蒸発面よりも上に第１の遮蔽板を設け、第１の遮蔽板よりも上に第２の遮蔽板を設ける。 - 特許庁

To provide a pellet body for film vapor deposition for producing a gas barrier film having high reliability by stably reducing splash frequency and further increasing the evaporation rate of silicon oxide vapor, to provide a method for producing the same, and to provide a method for producing a silicon oxide vapor-deposited film.例文帳に追加

安定してスプラッシュ頻度を少なくさせ、しかも酸化珪素蒸気の蒸発速度も高め、信頼性の高いガスバリアフィルムを製造するためのフィルム蒸着用ペレット体、その製造方法、及び酸化珪素蒸着フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

Disclosed is the method for manufacturing the alignment layer made of an inorganic substance, the method including a step of depositing a thin film of the inorganic substance on a substrate in an oblique deposition method, the inorganic substance being vapor-deposited in different film deposition regions on the substrate at different film deposition rates.例文帳に追加

無機物から成る配向膜の製造方法であって、斜方蒸着法により基板上に無機物の薄膜を形成する工程を有し、前記基板上の異なる成膜領域に、異なる成膜速度で無機物を蒸着する配向膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a laser vapor deposition device capable of reducing a film-forming cost by lessening futile use of a target when performing laser deposition and capable of making the heat distribution of deposition area even and forming a thin film having stable film quality.例文帳に追加

本発明は、レーザー蒸着する場合のターゲットの無駄を少なくして成膜コストの低減を図るとともに、成膜領域の熱分布を均等にして安定した膜質の薄膜を成膜することができるレーザー蒸着装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a titanium oxide film capable of suppressing occurrence of fine powder in any position of raw material gas feed piping, a membrane deposition chamber and an exhaust port without reducing film deposition speed, with respect to a method for manufacturing a titanium oxide membrane by CVD (chemical vapor deposition).例文帳に追加

ＣＶＤ法による酸化チタン膜の製造方法において、成膜速度を低下させることなく、原料ガスの供給配管、成膜室および排出口のいずれの場所においても微粉の発生を抑制できる酸化チタン膜の製造方法の提供。 - 特許庁

In a mask vapor deposition apparatus 10 for performing film deposition on an element substrate 2 in a vacuum chamber 11, particles in the vacuum chamber 11 are monitored by a particle monitor 17, and then a film deposition treatment is performed in the vacuum chamber 11 when the amount of the particles is lower than a predetermined value.例文帳に追加

真空チャンバ１１内で素子基板２に成膜を行うマスク蒸着装置１０において、パーティクルモニタ１７によって真空チャンバ１１内のパーティクルを監視し、パーティクル量が所定値未満のときには真空チャンバ１１内で成膜処理を行う。 - 特許庁

In a vapor deposition method, by performing a movement control of a slit plate 22 having a slit 22a and an incident angle control of the deposition substance by a rotation angle control of a substance support base 17 at the same time, the deposition angle within the surface of the substrate W is uniformized.例文帳に追加

本発明では、スリット２２ａを有するスリット板２２の移動制御と、基板支持台１７の回転角度制御による蒸着物質の入射角制御とを同時に行うことによって、基板Ｗ面内における蒸着角度の均一化を図る。 - 特許庁

To provide a vacuum arc deposition device capable of obtaining a desired film thickness distribution and moreover small in the restriction of the shape of the material to be vapor-deposited.例文帳に追加

所望の膜厚分布を得ることができると共に、被蒸着物の形状の制約が少ない真空アーク蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The plasma beam 22 is guided to a surface of the vapor deposition material 20 to deposit a thin film 20a on the object 13 in the vacuum chamber 12.例文帳に追加

プラズマビーム２２を蒸着性材料２０の表面に導き、真空チャンバー１２内の被成膜体１３上に薄膜２０ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for manufacturing a semiconductor device which enables production of a wafer having good in-plane homogeneity by chemical vapor deposition.例文帳に追加

面内の均一性の良好なウエハを気相成長により生産する半導体装置の製造方法と製造装置を提供すること。 - 特許庁

In the vapor deposition arrangement 10, the inside of the case 12 is depressurized with the pressure regulator 16 when the rotation speed of the holder 22 increases.例文帳に追加

この気相成長装置１０においては、ホルダ２２の回転速度が増加したときに、圧力調整器１６で筐体１２内を減圧する。 - 特許庁

The energy generator 5 is positioned facing the holder 13, and generates energy for vaporizing the vapor deposition material housed in the container 1.例文帳に追加

エネルギー発生手段５は、ホルダ１３に対して位置決めされており、容器１に収容された蒸着材料を気化させるエネルギーを発する。 - 特許庁

To provide a metal vapor deposition apparatus which can improve operation efficiency, and greatly shorten an operation time.例文帳に追加

作業効率を向上させると共に、作業時間を大幅に短縮することができる金属蒸着装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Thus, an incident light A is focused on the optical axis of a third optical plane 11c which is newly formed with the vapor-deposition material.例文帳に追加

この結果、入射する光Ａは、蒸着物質によって新しく形成された第３光学面１１ｃの光軸上に集光される。 - 特許庁

To provide a diffractive optical member that can attain higher efficiency and perform vapor deposition of an additional layer after etching without degradation in performance.例文帳に追加

より高い効率を達成でき、性能を低下させずにエッチング後の追加層の蒸着を可能にする回折光学部材を提供すること。 - 特許庁

An electron emission element is formed on the cathode electrode of a back surface plate by a heat CVD (chemical vapor deposition) method after bonding the front surface plate to the back surface plate.例文帳に追加

前面板と背面板とを接合した後に背面板のカソード電極上に熱ＣＶＤ法により電子放出素子を形成する。 - 特許庁