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「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(54ページ目) - Weblio英語例文検索
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Vapor Depositionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 5223



例文

Then, a collector electrode 9 is formed on the reverse surface of the semiconductor substrate 1 by sequentially laminating aluminum silicon and nickel by vapor deposition or sputtering.例文帳に追加

次いで、半導体基板1の裏面に、アルミニウムシリコン、ニッケルを蒸着またはスパッタで順次積層し、コレクタ電極9を形成する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus in which the reproducibility of the film thickness distribution on a substrate is high, and the expected film thickness distribution can be obtained.例文帳に追加

基板上の膜厚分布の再現性が高く、予測した膜厚分布が得られる真空蒸着装置を提供することである。 - 特許庁

METHOD FOR PREPARING CRYSTAL THIN FILM OF P-TYPE SEMICONDUCTOR OF GALLIUM NITRIDE BY DUAL PULSED LASER VAPOR DEPOSITION PROCEDURE AND THIN FILM PREPARED BY THE SAME METHOD例文帳に追加

デュエルパルスレーザ蒸着手法による窒化ガリウムのp型半導体の結晶薄膜の作製方法及び同法で作製した薄膜 - 特許庁

An Al2O3 film is deposited on the surface of a substrate composed of Ti-Al alloy by a sputtering method or an electron beam vapor deposition method.例文帳に追加

Ti−Al系合金からなる基材の表面にスパッタリング法または電子ビーム蒸着法によりAl_2 O_3 被膜を形成する。 - 特許庁

例文

SOLUTION MATERIAL FOR METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION CONTAINING β-DIKETONATE COMPLEX OF COPPER (II) AND COPPER THIN FILM FORMED USING THE SAME例文帳に追加

銅(II)のβ−ジケトネート錯体を含む有機金属化学蒸着法用溶液原料及びそれを用いて作製された銅薄膜 - 特許庁


例文

To provide an organometal chemical vapor deposition apparatus for forming a film having a desired composition.例文帳に追加

希望する組成通りの組成を有する膜の形成が可能な有機金属化学気相成長装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition method for depositing a tungsten film on a substrate arranged in a substrate processing chamber while preventing fluorine contamination.例文帳に追加

基板処理チャンバに配置される基板上にフッ素汚染を防止しながらタングステン膜を堆積させるための化学気相成長法。 - 特許庁

A manufacturing method of color conversion filter substrates including this laser vapor deposition method and color organic EL elements is included.例文帳に追加

本発明はさらに、このレーザー蒸着方法を含む色変換フィルタ基板およびカラー有機EL素子の製造方法を包含する。 - 特許庁

Moreover, the minute electrode 50 having no etching residue is formed at the position of the electrode forming opening 40 by the vapor deposition method.例文帳に追加

そして、蒸着法により電極形成開口部40の位置に、エッチング残りの影響がない微細電極50を形成する。 - 特許庁

例文

To provide an electron source used for fusion in vacuum, welding, processing, and vapor deposition, capable of quickly changing a beam power of the electron gun.例文帳に追加

真空中での溶解、溶接、加工、および蒸着等に用いられる電子源において、電子銃のビームパワーを急速に変化させる。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing method of hydrogen separation membrane capable of forming a silica separation membrane having high hydrogen selective permeability by a CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

CVD法により高い水素選択透過性を有するシリカ分離膜を形成せしめる水素分離膜の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide an austenitic stainless steel foil having excellent properties as a vapor deposition substrate of a high-temperature superconducting material.例文帳に追加

高温超伝導材料の蒸着基板として、優れた特性を有するオーステナイト系ステンレス鋼箔とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To achieve jointing process of an X-ray target material and a heat pipe in shorter time than physical vapor deposition such as ion sputter and laser ablation.例文帳に追加

X線ターゲット材料とヒートパイプの接合工程をイオンスパッタ、レーザーアブレーション等の物理蒸着法よりも短時間に実現する。 - 特許庁

To provide a technology capable of improving the strength of a spun fiber of carbon nanotube formed by chemical vapor deposition.例文帳に追加

化学気相成長法によって生成されたカーボンナノチューブの紡糸繊維の強度を向上させることができる技術を提供する。 - 特許庁

A polythiophene coat is formed on the surface of the substrate by the plasma-activated chemical vapor deposition method using gasified thiophene as a raw material.例文帳に追加

また、ガス化したチオフェンを原料として、プラズマCVD法により、基板の表面にポリチオフェンの被膜を形成する構成とした。 - 特許庁

A first insulating film of silicon carbide or silicon oxycarbide is formed on a semiconductor substrate by plasma-aided chemical vapor deposition.例文帳に追加

半導体基板の上に、プラズマ化学気相堆積により、シリコンカーバイドまたはシリコンオキシカーバイドからなる第1の絶縁膜を形成する。 - 特許庁

Oligomer is deposited by simple vapor deposition and a desired semiconductor characteristic such as high mobility can be obtained, for example.例文帳に追加

これらのオリゴマーは簡単な蒸着により堆積させ、例えば、高移動度などのような所望の半導体特性を得ることが出来る。 - 特許庁

To provide a catalyst line for catalyst CVD (Chemical Vapor Deposition), which can form the entire length of catalyst with the catalyst line for the desired catalyst reaction.例文帳に追加

所望の触媒反応のため、触媒単線により触媒全長を構成し得る触媒CVD用触媒線を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition system for synthesizing carbon nanotubes in a large amount and to provide a method for synthesizing carbon nanotubes using same.例文帳に追加

カーボンナノチューブを大量に合成するための化学気相蒸着装置およびそれを用いたカーボンナノチューブ合成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a compound having a carbazolyl group which is useful as an organic electroluminescent element material, enables vapor deposition, and shows a high Tg.例文帳に追加

有機EL素子用材料に有用で、蒸着が可能であり、且つ、高いTgを示す、カルバゾリル基を有する化合物を提供する。 - 特許庁

A vapor-deposition raw material 4 is vaporized by an electron gun 3 to deposit a reflection preventive film on lenses 2a held on a coat dome 2.例文帳に追加

蒸着原料4を電子銃3によって蒸発させて、コートドーム2に保持したレンズ2aに反射防止膜を堆積させる。 - 特許庁

In this state, the vapor-deposition mask 1 is fixed on the mask frame 2 with a method such as adhesion, and is used in the film formation of an organic EL element and the like.例文帳に追加

この状態で、蒸着マスク1をマスクフレーム2に接着等の方法で固定し、有機EL素子等の成膜に使用する。 - 特許庁

A retardation compensating element comprises a biaxial birefringent material and is manufacture by oblique vapor deposition of an inorganic material on a substrate.例文帳に追加

位相差補償素子は二軸性複屈折体からなり、基板上に無機材料を斜方蒸着することによって作製される。 - 特許庁

Therefore, the solution sample S is condensed on the carbon vapor deposition film 3, resulting in excellent generation of the fluorescent X-rays as the secondary X-rays.例文帳に追加

したがって溶液試料Sはカーボン蒸着膜3に凝縮し2次X線である蛍光X線の発生が良好となる。 - 特許庁

As a manufacturing method of the metal thin film fine pieces, a vapor deposition method is designated in the case of a metal having a low melting point like aluminum.例文帳に追加

金属薄膜細片の製法としては、アルミニウムのように融点の低い金属の場合は蒸着による方法が挙げられる。 - 特許庁

A vapor deposition film thus formed on each of a plurality of the substrates 11 has a columnar structure of which the tilting angle varies in the thickness direction.例文帳に追加

複数の基板11のそれぞれには、傾斜角度が厚み方向に変化した柱状構造からなる蒸着膜が形成される。 - 特許庁

REDDISH ORANGE FLUORESCENT MATERIAL AND VAPOR DEPOSITION PELLET, TARGET FOR SPUTTERING, DISPLAY AND LED CHIP PRODUCED BY USING THE SAME例文帳に追加

赤橙色蛍光体及びその赤橙色蛍光体を用いて得られる蒸着用ペレット、スパッタリング用ターゲット、ディスプレイ、LEDチップ - 特許庁

The mask 210 which has completed vapor deposition is moved to a cleaning preparation chamber 201 and then, moved to a cleaning chamber 202 being in an atmospheric pressure.例文帳に追加

蒸着を終わったマスク210はクリーニング準備室201に移動し、その後、大気圧であるクリーニング室202に移動する。 - 特許庁

To provide a method for forming a film on a base material by means of chemical vapor deposition in a precursor for forming a silicon carbonitride film.例文帳に追加

炭窒化ケイ素膜形成用前駆体の化学気相成長により基材上に膜を形成するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus which traps a substance produced by bumping, and stably forms a film having a sufficient thickness, and to provide a method therefor.例文帳に追加

蒸着装置および方法において、突沸により発生した物質を捕捉するとともに、十分な膜厚を安定して確保する。 - 特許庁

The substrate holder 7 and the corrective plate 9 for correcting a distribution of film thickness on the substrate are separately carried into the vapor deposition vessel 1 respectively from the vacuum vessel 3 and the vacuum vessel 5, to be vapor deposited.例文帳に追加

基体ホルダー7と基体の膜厚分布を補正するための補正板9とは、それぞれ、真空槽3と真空槽5から別々に蒸着槽1内へ搬入されて蒸着される。 - 特許庁

An organic EL (electroluminescent) element material is vapor-deposited onto the surface of the glass substrate 130 from a vapor deposition source 140 via an opening 2 of the shadow mask 1 to carry out patterning of the organic EL element.例文帳に追加

蒸着源140からシャドウマスク1の開口部2を通してガラス基板130の表面に有機EL素子材料の蒸着を行うことにより、有機EL素子のパターン形成を行う。 - 特許庁

To provide a stock for vapor deposition from which a vapor-deposited tape of high quality which has the low number of splashes and a low scum rate, and is also utilizable as a medium for recording information such as the data of a computer, can be obtained.例文帳に追加

スプラッシュ数やスカム率が低く、コンピュータのデータ等の情報を記録する媒体としても利用可能な高品質の蒸着テープを得ることができる蒸着用 素材を提供する。 - 特許庁

To adhere released charged micro-particles to the object to be treated with high efficiency in a vapor deposition device using a coaxial type vacuum arc vapor depositing source and to form a film having a uniform thickness.例文帳に追加

同軸型真空アーク蒸着源を用いた蒸着装置において、放出された荷電微小粒子を処理対象物に対して効率良く付着させて均一な厚さの膜を形成する。 - 特許庁

A vacuum process apparatus facilitates heating of substrates and films, exposure of substrates and films to vapor with minimal vapor leakage, deposition of thin films onto substrates, and stripping thin films from substrates.例文帳に追加

真空処理装置によって、基体および膜の加熱、蒸気漏出を極力抑制した、基体および膜の蒸気への暴露、基体上への薄膜の成膜、および薄膜の基体からの剥離が容易になる。 - 特許庁

In a vapor-deposition chamber, an infrared-ray lamp unit 11 is arranged at places not exposed to the vapor, and the evaporant accumulated around the nozzle is removed by irradiating the vicinity of the nozzle of the evaporation source with infrared rays.例文帳に追加

蒸着室内において、蒸気が当たらない箇所に赤外線ランプユニット11を配置し、赤外線を蒸発源のノズル付近に照射して、ノズル付近に堆積した蒸着物質を除去する。 - 特許庁

The design film 12 of the second layer is formed by applying printing or aluminum vapor deposition to a co- extrusion film made of a polyolefinic resin, for example, polypropylene, polyethylene or the like, and further applying design processing to the printed or vapor- deposited film.例文帳に追加

第二層の意匠性フィルム12は、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン系樹脂製の共押し出しフィルムに印刷もしくはアルミ蒸着を施し、意匠加工を施したものである。 - 特許庁

An organic vapor deposition apparatus has a planar vapor releasing device 10 in which a horizontal diffusion section 10H and a vertical diffusion section 10V where vapors of a host material and a dopant material being evaporation materials are successively diffused, are provided.例文帳に追加

面蒸気放出器10に、蒸発材料であるホスト材料及びドーパント材料の蒸気が順次拡散される水平方向拡散部10H及び鉛直方向拡散部10Vを有する。 - 特許庁

Owing to deflection by the deflector 19, the electron beam 8 can be emitted from the horizontal direction of the vapor deposition material 5 in which vapor generation concentration is thin, and the generation degree of electron beam scattering is reduced.例文帳に追加

偏向器19の偏向により、電子ビーム8は、蒸気発生濃度が薄く、電子ビーム散乱の発生度合いが小さい、蒸着材料5の横方向から照射することができる。 - 特許庁

By using a metal mask 2 of a smaller size than a substrate 1, the vapor deposition is sequentially carried out on one part of the substrate 1 after another, and a pattern of vapor-deposited matter 6 is film-formed on a whole surface of the substrate 1.例文帳に追加

基板1よりも小さなサイズのメタルマスク2を用いて、基板1の一部ずつに対して順次に蒸着を行ない、基板1の全面に蒸着物質6のパターンを成膜する。 - 特許庁

The optical fibers are formed by depositing the Ti films of 10 to 50 nm by vacuum vapor deposition thereon within the vacuum chamber and depositing the Ni films of a thickness 10 to 50 nm by vacuum vapor depositing thereon.例文帳に追加

本発明の光ファイバは、プラズマを発生させた真空槽内で、10nm〜50nmのTi膜が真空蒸着によって成膜され、そのTi膜の上に、厚みが10nm〜50nmのNi膜が真空蒸着によって成膜されたものである。 - 特許庁

The plasma of a nanoparticle (the vapor deposition material) is emitted from above toward alumina powder (the body 7 to be vapor-deposited) being a carrier housed in an agitation vessel 73 while agitating the alumina powder to deposit a catalytic metal on the surface of the alumina powder.例文帳に追加

攪拌容器73に収納された担持体であるアルミナ粉(被蒸着体7)を攪拌しながらナノ粒子(蒸着体)のプラズマを上から照射し、アルミナ粉表面に触媒金属を担持させる。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus 1 includes a vacuum chamber 2, an index table 30 (rotating bed), a plurality of vapor sources 31, a rotating mechanism 32, and first and second heating mechanisms 33 and 34.例文帳に追加

本発明に係る蒸着装置1は、真空チャンバ2と、インデックステーブル30(回転台)と、複数の蒸発源31と、回動機構32と、第1及び第2の加熱機構33、34とを具備する。 - 特許庁

The substrate 1 on which an organic EL layer is formed is vertically set in a vapor-deposition chamber 5, and a fine metal mask 4 for selectively vapor-depositing the organic EL layer is arranged on the substrate 1.例文帳に追加

有機EL層が形成される基板1が蒸着室5内に垂直に設置され、基板1の上には、有機EL層を選択的に蒸着するためのファインメタルマスク4が配置されている。 - 特許庁

The method further comprises stopping generation of the direct-current plasma after the vapor deposition of the indium metal, and without breaking the vacuum, preferably vapor depositing a noble metal on the indium metal electrode so as to form a film for preventing the oxidation.例文帳に追加

さらに、インジウム金属の蒸着の後に、直流プラズマの発生を停止し、真空を破ることなく、インジウム金属電極上に、酸化防止のための貴金属膜を蒸着させるとよい。 - 特許庁

To provide a vapor or liquid phase reagent dispensing apparatus that may be used for dispensing vapor or liquid phase reagents such as precursors for deposition of materials in the manufacture of semiconductor materials and devices.例文帳に追加

半導体材料の製造および装置において、材料を被着するための前駆体等の気相または液相試薬の送出に使用可能な気相または液相試薬送出装置を提供する。 - 特許庁

In a state wherein the substrate is held at a suitable temperature of 10 to 400°C, Fe_3 and Si_4 are simultaneously vapor-deposited on a surface of the oxide film 2 at a vapor-deposition speed ratio of nearly 3:1.例文帳に追加

基板温度を10℃から400℃の範囲の適当な温度に保持した状態で、該酸化膜2の表面にFe3とSi4とをほぼ3:1の蒸着速度比で同時蒸着させる。 - 特許庁

The method includes a process of forming a lower conductive pattern on a semiconductor substrate and after the vapor deposition of a barrier metal film using a metal organic precursor, cleaning the vapor-deposited barrier metal film.例文帳に追加

この方法は半導体基板上に下部導電パターンを形成し、金属有機前駆体を使って、バリア金属膜を蒸着した後、蒸着されたバリア金属膜を浄化する段階を含む。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system by which a uniform film is vapor-deposited on the surface of the substrate to be treated by matching the relative positional relation between a substrate holding member and the bottom part of a flow passage composing member with high precision.例文帳に追加

基板保持部材と流路構成部材底部の相対位置関係を精度よく合わせることで、被処理基板表面に均一性の膜を気相成長させる気相成長装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an extremely thin metal vapor-deposited film using a plastic material having heat resistance at a time of the vapor deposition of a metal and excellent in the adhesiveness with other member of a laminate as a raw material and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

金属蒸着時に耐熱性を有し、積層体の他の部材との接合性に優れるプラスチックを原料プラスチックとした極薄の金属蒸着フィルム及びその製造方法を提供する。 - 特許庁




  
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