「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

In the flat surface optical circuit having a plurality of optical path changing mirrors within a substrate, a mirror surface direction (β) is so set that the prescribed mirror angle (δ) can be obtained based on the positional relations (D and θ) on the vapor deposition source and the substrate surface in a diagonal vapor deposition process.例文帳に追加

基板内に複数の光路変換ミラーを有する平面光回路において、斜め蒸着工程における蒸着源と基板面上との位置関係（Ｄ，θ）をもとに、所定のミラー角度（δ）を得られるようにミラー面方向（β）を設定する。 - 特許庁

To provide a gas barrier film attaining high gas barrier performance by improving the adhesive strength of an inorganic oxide vapor deposition film which has been insufficient by a conventional vapor deposition method and a method and an apparatus for producing the gas barrier film with high production efficiency.例文帳に追加

従来の蒸着方法では不十分であった無機酸化物蒸着層の密着強度を改善し、かつ高いガスバリア性能が得られるガスバリアフィルム、該ガスバリアフィルムを高い生産効率で製造可能な製造方法および製造装置を提供する。 - 特許庁

In order to fabricate this lithium thin film, when it is formed as the thin film on the current collector, a vapor deposition amount of Li and the vapor deposition amount of the elements to be added are adjusted so that it becomes higher in the surface side region than in the inside region in the thin film.例文帳に追加

このリチウム薄膜を作製するには、集電体上に薄膜として形成する際に、薄膜中の内部側の領域よりも表面側の領域において高くなるように、Liの蒸着量と添加元素の蒸着量とを調整する。 - 特許庁

A plurality of heaters arranged at the different positions in the depth direction are provided on an outer circumference of the vapor deposition container, and the set temperature of the heaters arranged on the upper side of the vapor deposition material is higher than the set temperature of the heaters arranged on the bottom surface side of the container.例文帳に追加

蒸着容器の外周であって、深さ方向に異なる位置に配置された複数のヒータを備え、蒸着材料の上方側に配されているヒータの設定温度が容器底面側に配されているヒータの設定温度より高い設定温度とされる。 - 特許庁

A heating mechanism 40 for heating the vapor deposition material 20 in a range of 150 to 2,000°C is provided in the crucible 19, and a material feeding device 50 for feeding the vapor deposition material 20 in the crucible 19 is provided in a vicinity of the crucible 19.例文帳に追加

るつぼ１９に、蒸着性材料２０を１５０℃乃至２０００℃の範囲内で加熱できる加熱機構４０が設けられ、るつぼ１９近傍に、るつぼ１９内に蒸着性材料２０を供給する材料供給装置５０が設られている。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus which improves the quality of a thin film formed by vapor deposition, and reduces the fluctuation of the quality of the thin film among products, and hardly damages an article to be treated during the operation.例文帳に追加

気成長によって形成された薄膜の品質を向上させることができるとともに、製品ごとの薄膜の品質のばらつきを小さくすることができ、かつ、動作中に被処理物が損傷してしまうおそれが低減された気相成長装置を提供する。 - 特許庁

Since the opening 23a of the film thickness correction plate 23 has a drum shape whose opening width changes along the Y direction orthogonal to the X direction, the vapor deposition time of the obliquely incident components of the vapor deposition material in the opening edge parts is increased, and film thickness is uniformized.例文帳に追加

膜厚補正板２３の開口２３ａが、Ｘ方向と直交するＹ方向に沿って開口幅が変化する太鼓形状を有することで、開口端部における蒸着材料の斜入射成分の蒸着時間を増大させて膜厚を均一化する。 - 特許庁

At this time, by suitably deciding the thickness of the respective metallic layers or alloy layers, the thermal expansion coefficient in the plane direction of the metal mask for vapor deposition can be controlled so as to be almost the same as that of the glass substrate subjected to vapor deposition.例文帳に追加

その際、それぞれの金属層または合金層の厚みを適切に決定することによって、該蒸着用メタルマスクの平面方向の熱膨張係数を、蒸着の施されるガラス基板の熱膨張係数と略同一に調整することができる。 - 特許庁

To provide a tungsten-oxide sputtering-target material and a vapor- deposition material with which the occurrence of dust (particle) and abnormal electric discharge can be decreased and a high-quality tungsten-carbide film can be stably deposited by a sputtering method or an electron beam evaporation method, and also to provide a manufacturing method for the vapor-deposition material.例文帳に追加

ダスト（パーティクル）や異常放電の発生を低減し高品質の酸化タングステン膜を安定してスパッタリング法や電子ビーム蒸着法により製膜できる酸化タングステンスパッタリングターゲット材および蒸着材ならびにその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the case of manufacturing bulk acoustic elements by thin film layers formed on a substrate by a chemical vapor deposition process, by locally supplying a medium for promoting the chemical vapor deposition process to the substrate, the operating frequencies of the bulk acoustic wave elements can be tuned uniformly.例文帳に追加

基板上に化学蒸着法によって形成した薄膜層によってバルク音響波素子を作製する際、化学蒸着の促進媒体を基板上の局所に供給することにより複数のバルク音響波素子の動作周波数を均一に同調する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition apparatus and a vapor deposition method which prevent the clogging of gas discharge holes in a shower head, consequently suppress the occurrence of variance in reaction gas flow to be fed, and thereby securing film uniformity on the substrate to be processed and film reproducibility.例文帳に追加

シャワーヘッドのガス吐出孔の塞がりを防止することにより、供給される反応ガス流のばらつきの発生を抑制し、被処理基板上での膜均一性及び膜の再現性を確保し得る気相成長装置及び気相成長方法を提供する。 - 特許庁

The inorganic vapor deposition film is constituted by providing an inorganic oxide vapor deposition layer (12) at least on one side of a plastic film (11) and providing a protective layer (13) as a film composed of a mixture of melamine and an aromatic carboxylic compound or an aromatic carboxylic compound derivative on the layer (12).例文帳に追加

プラスティックフィルム（１１）の少なくとも片面に無機酸化物蒸着層（１２）を設け、さらにその上にメラミン及び芳香族カルボン酸化合物または該芳香族カルボン酸化合物誘導体の混合物を成分に持つ被膜である保護層（１３）を設けた。 - 特許庁

A manufacturing device of an organic EL element makes the element substrate for the organic EL element to be deposited with a vapor deposition material consisting of organic materials, and is equipped with a film thickness monitoring part 23 to monitor the film thickness of the vapor deposition material deposited on the element substrate.例文帳に追加

本発明の有機ＥＬ素子の製造装置は、有機ＥＬ素子の素子基板に有機材料からなる蒸着材料を蒸着させるとともに、素子基板に蒸着される蒸着材料の膜厚を監視する膜厚監視部２３を備える。 - 特許庁

The barrier film is constituted by providing the vapor deposition film of the inorganic oxide on one surface of a base material film and further providing a primer agent layer on the vapor deposition film of the inorganic oxide and further more providing a thermally adhesive resin layer on the primer agent layer.例文帳に追加

基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の上に、プライマ−剤層を設け、更にまた、該プライマ−剤層の上に、熱接着性樹脂層を設けることを特徴とするバリア性フィルムに関するものである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a sequentially biaxially oriented polyester film having excellent mechanical strength and dimensional stability, and capable of being suitably used as the base material film of a vapor deposition film excellent in the adhesion with a vapor deposition film comprising metal aluminum, silicon oxide or the like.例文帳に追加

優れた機械強度、寸法安定性を有し、かつ、金属アルミニウム、酸化珪素などの蒸着被膜との密着性に優れた蒸着フィルムの基材フィルムに好適に用いることのできる逐次二軸延伸ポリエステルフィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

The moisture-proof sheet comprises a synthetic resin-made base material layer 10 and a vapor deposition layer 11, a primer layer 15 for adhesion being mounted on the vapor deposition surface, wherein a coupling agent is added to the primer layer for adhesion.例文帳に追加

合成樹脂製基材層１０と蒸着層１１とからなり、前記蒸着層面に接着用プライマー層１５を設けてなる防湿シートであって、前記接着用プライマー層がカップリング剤が添加されてなる層であることを特徴とする防湿シート。 - 特許庁

To provide a highly practical vapor deposition film excellent in transparency, having high gas barrier properties, not deteriorated in its physical properties even after boil sterilization or retort sterilization and having boil resistance and retort resistance not causing delamination or the like, and a packaging material using the vapor deposition film.例文帳に追加

透明性に優れ、且つ高いガスバリア性を有すると共にボイル殺菌やレトルト殺菌後も物性の劣化がなく、デラミネーション等の発生がないボイル耐性、レトルト耐性を持つ実用性の高い蒸着フィルムおよびこの蒸着フィルムを用いた包装材料。 - 特許庁

After having passed through vapor deposition processes (c) to (f) to vapor-deposit the organic layer and electrode, a test process (g) to perform a predetermined test to the vapor-deposited organic layer and electrode is equipped, and a sealing process (h) is performed after the test process.例文帳に追加

基板に有機層及び電極を蒸着する蒸着工程（ｃ）〜（ｆ）を経た後に、この蒸着された有機層及び電極に対して所定の検査を行う検査工程（ｇ）を備え、該検査工程の後に封止工程（ｈ）を行う。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition withstanding the rise of temperature and capable of high precision masking when prescribed patterns or the like are vapor-deposited to the substrate to be vapor-deposited using a stock such as plastics, a glass substrate or the like with different thermal expansion coefficients.例文帳に追加

熱線膨張係数の異なるプラスチック、あるいはガラス基板等の素材を用いた被蒸着基板に対して所定のパターン等を蒸着する際、温度上昇に耐え、高精度のマスキングをすることができる蒸着用マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a release vacuum position switch which can be applied to a film deposition apparatus of vapor deposition apparatuses or sputtering apparatuses, capable of constantly detecting the position of a work with an object to be film-deposited mounted thereon, and automating the film deposition apparatus.例文帳に追加

本発明は、蒸着、或いはスパッタ装置類の成膜装置に適用可能で、被成膜物を搭載したワーク位置を常時検出することが可能であり、成膜装置を自動化することができるレリーズ真空位置スイッチを提供すること。 - 特許庁

The film deposition chamber is coupled with the pressure regulation chamber C2, and a thin film is deposited on a substrate S5 arranged in the film deposition space based on the vapor of the evaporation substance while the pressure regulation space is communicated with the evaporation space and the film deposition space.例文帳に追加

成膜室が圧力調整室Ｃ２に結合され、圧力調整空間が蒸発空間と成膜空間とに連通した状態において、蒸発物質の蒸気に基づき、成膜空間に配置された基板Ｓ５上に薄膜を形成する。 - 特許庁

To provide a ruthenium compound for an organometallic chemical vapor deposition method that can control a deposition rate and reproducibility of the deposition rate using a solid sublimation method, and to provide a ruthenium-containing thin film obtained from the compound.例文帳に追加

固体昇華法を用いた有機金属化学蒸着法により成膜速度及び成膜速度の再現性を制御し得る有機金属化学蒸着法用ルテニウム化合物及び該化合物により得られたルテニウム含有薄膜を提供する。 - 特許庁

To prevent peeling of a film deposited just after periodical cleaning of a plasma chemical vapor deposition apparatus without loading a substrate by making the deposition thin, and to stabilize film quality of gate insulating film and an amorphous silicon semiconductor film, which are deposited subsequently after the deposition of the film.例文帳に追加

本発明はプラズマ化学気相堆積装置の定期的なクリーニング直後に、基板を設置しない薄い堆積でもって、膜の剥離防止とともに、その後に作製するゲート絶縁膜、非晶質シリコン半導体層の膜質を安定化。 - 特許庁

The deposition property of a vapor-deposited film on a side surface and a bottom surface of a veer can be enhanced irrespective of the radial position of the substrate.例文帳に追加

これにより、基板の半径位置に関係なく、ビアの側面や底面に対する蒸着膜の付き回り性を高めることができる。 - 特許庁

METHOD FOR FEEDING RAW MATERIAL LIQUID INTO RAW MATERIAL VESSEL USED FOR ORGANOMETALLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD AND RAW MATERIAL VESSEL FED WITH THE RAW MATERIAL LIQUID例文帳に追加

有機金属化学蒸着法に用いる原料液の原料容器充填方法及び該原料液を圧入した原料容器 - 特許庁

The reflection layer 16 is formed by spraying, thereby forming it at a low cost without using any expensive device such as a vapor deposition device.例文帳に追加

また、スプレーによって反射層１６を形成できるので、蒸着装置のような高価な装置を使用せずに安価に形成できる。 - 特許庁

To provide a masking device in which it is possible to carry out a vacuum vapor deposition in manufacturing an organic EL element with high productivity and high-precision patterning.例文帳に追加

有機ＥＬ素子製造における真空蒸着を生産性良く且つ高精細パターニングで実施可能なマスク装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film-forming apparatus which forms a thin film showing an adequate thickness distribution within a substrate face on the substrate by chemical vapor deposition.例文帳に追加

基板面内の膜厚分布の良好な、化学気相成長により基板上に薄膜を成膜する成膜装置を提供する。 - 特許庁

ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION, ACTIVE ENERGY RAY-CURABLE RESIN COMPOSITION FOR FRP METAL VAPOR-DEPOSITION, AND COATED ARTICLE例文帳に追加

活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、ＦＲＰ金属蒸着用活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、及び塗装物に関する。 - 特許庁

Since the reflection layer 16 is formed by spraying, it is formed at a low cost without using any expensive device such as a vapor deposition device.例文帳に追加

また、スプレーによって反射層１６を形成できるので、蒸着装置のような高価な装置を使用せずに安価に形成できる。 - 特許庁

The vapor deposition source substrate 14 is constituted by mounting a heater 12 for heating the containing member 11 on the top surface of a supporting substrate 13.例文帳に追加

蒸着源基板１４は、収容部材１１を加熱するためのヒータ１２を支持基板１３の上面に取り付けて構成される。 - 特許庁

The method improves the treatment speed and reduces damage of a workpiece in comparison with charged particle vapor deposition and etching.例文帳に追加

局部的プラズマ処理方法は、帯電粒子蒸着およびエッチングに比べて、処理速度を向上させ、加工物損傷を低減する。 - 特許庁

This hose is provided at least with a thin film resin layer 5 of an inner most layer, and a laminate layer 7 containing a metal foil or a metal vapor-deposition film.例文帳に追加

少くとも最内層の薄膜樹脂層５と、金属箔又は金属蒸着層を含むラミネート層７とを備える、冷媒ホース。 - 特許庁

A tungsten film is deposited on a surface of an aperture of a layer structure on a substrate by a chemical vapor phase deposition method.例文帳に追加

この発明は、基板上の層構造が有する開口の表面上に化学気相堆積法によってタングステン膜を形成する。 - 特許庁

The optical filter (50) includes a plastic base and a transparent coating film fixed on the base by physical vapor deposition.例文帳に追加

その光学フィルタ(50)は、プラスチックによる基材と、その基材に対する物理的蒸着によって固定された透明皮膜と、を備える。 - 特許庁

First and second vapor deposition sources 3 and 4 have first and second crucibles 3a and 4a to accommodate the host material 5 and the guest material 6.例文帳に追加

第１，第２の蒸着源３，４はホスト材料５及びゲスト材料６を収納する第１，第２のルツボ３ａ，４ａを備える。 - 特許庁

An ITO 11a is formed by vapor deposition on the glass substrate 10 and an insulating layer 11b made of PVK is formed on it.例文帳に追加

ガラス基板１０上に、蒸着によりＩＴＯ１１ａを形成し、その上にＰＶＫから成る絶縁層１１ｂを形成した。 - 特許庁

A fast axis L6 of the O plate 86 is parallel to a vapor deposition direction 96 orthogonally projected on the surface of the O plate 86.例文帳に追加

Ｏプレート８６の進相軸Ｌ６は蒸着方向９６をＯプレート８６の表面に正射影した方向と平行となる。 - 特許庁

To provide a method of conducting multiple-step multiple-chamber chemical vapor deposition while avoiding reactant memory in reaction chambers.例文帳に追加

反応チャンバにおいて反応体メモリーを防止しながら、複数工程複数チャンバ化学気相堆積を行う方法を提供する。 - 特許庁

In this way, the formation of contaminated particles at the inside of the shower head and the reaction chamber 100 is suppressed, and the vapor deposition rate is increased.例文帳に追加

これによりシャワーヘッド及び反応チャンバ１００の内部における汚染粒子の生成を抑え、蒸着速度を増大させる。 - 特許庁

The film formation method by vacuum deposition uses, as a concurrently evaporating substance, an inactive molecule which has vapor pressure of 1 Pa or less at room temperature but shows higher vapor pressure than that of an organic semiconductor molecule, evaporates or sublimes under the vacuum deposition condition, and exhibits volatility on a heated substrate, when vacuum-depositing the organic semiconductor molecule constituting the vapor deposition film of the organic semiconductor on the substrate.例文帳に追加

有機半導体の蒸着膜を構成すべき有機半導体分子を基板に真空蒸着させるに当たり、室温における蒸気圧が１Pa以下であるが有機半導体分子よりも高い蒸気圧を示し、真空蒸着条件下において蒸発又は昇華すると共に加熱された基板上において揮発性を示す不活性分子を共蒸発物として用いる真空蒸着成膜方法。 - 特許庁

A dichroic filter 31 which does not transmit the light of a wavelength not longer than that of green light is formed on a green LED device 200 by vapor deposition.例文帳に追加

緑色ＬＥＤ素子２００上に緑色以下の短波長の光を透過しないダイクロイックフィルタ３１を蒸着形成する。 - 特許庁

A ZnO vapor deposition material consists of a porous sintered body of ZnO which has an average pore diameter of 0.1-500 μm.例文帳に追加

ＺｎＯ蒸着材は、ＺｎＯの多孔質焼結体からなり、その焼結体が０．１〜５００μｍの範囲の平均気孔径を有する。 - 特許庁

A heating mechanism 40 for heating the vapor deposition material 20 in a range of 1,000 to 2,500°C is provided in the crucible 19.例文帳に追加

るつぼ１９に、蒸着性材料２０を１０００℃乃至２５００℃の範囲内で加熱できる加熱機構４０が設けられている。 - 特許庁

To provide a technique of preventing deterioration in film quality caused by the peeling of a vapor deposition material stuck to the partial surface in a vacuum tank.例文帳に追加

真空槽内の部分表面に付着した蒸着材料の剥離に起因する膜質の劣化を防止する技術を提供する。 - 特許庁