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「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(57ページ目) - Weblio英語例文検索
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Vapor Depositionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 5223



例文

To enhance the position accuracy of a thin film by accurately controlling substrate temperature in film formation by vapor-phase deposition using a mask.例文帳に追加

マスクを用いた気相堆積法による成膜時の基板温度をより正確に管理し、これにより、これら薄膜の位置精度を向上させること。 - 特許庁

Then, an insulating film 20 is deposited by employing a chemical vapor deposition method or a spin-on-glass method so as to cover the resistor particle 100b.例文帳に追加

そして、化学気相成長法やスピン・オン・グラス法を用いて、抵抗体粒子100bを覆うように絶縁膜20が堆積される。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system being capable of improving the film-thickness uniformity of a grown crystal layer such as a GaN group and having a high yield.例文帳に追加

GaN系などの成長結晶層の膜厚均一性を向上させることができ、歩留まりが高い気相成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition device that highly accurately controls the temperature of a substrate and also controls the diameter of particles to be deposited to have desired size.例文帳に追加

基材の温度制御を高精度に行い、蒸着する微粒子の粒径を所望の大きさにコントロールできる蒸着装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a physical vapor-deposition apparatus which can use a high melting-point metal such as tungsten as an evaporation source, and to provide a method of using the same.例文帳に追加

タングステンなどの高融点金属を蒸発源として用いることができる物理蒸着装置及びそれを用いた方法を提供する。 - 特許庁


例文

The dampproof layer 112 is formed in a device of 5 Pa and 323K by a vacuum vapor-deposition method so that the aluminum is 300 nm thick.例文帳に追加

防湿層112は、5Pa,323Kの装置内で真空蒸着法によってアルミニウムの厚みが300nmとなるように形成する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition excellent in direct vapor deposition properties and low-temperature impact resistance and a molded article for housing a vehicle lighting fixture lamp.例文帳に追加

ダイレクト蒸着性、低温衝撃性に優れた熱可塑性樹脂組成物および車両用灯具ランプハウジング成形品を提供する。 - 特許庁

The shortest distance (d) from the opening end of the ferrule 4 to the end of the vapor deposition film 10 on the ferrule 4 side satisfies a relationship equation of 3≤d≤40.例文帳に追加

フェルール4の開口端から蒸着膜10のフェルール4側の端までの最短距離dが、3≦d≦40なる関係式を満たす。 - 特許庁

The Si partial pressure in a reaction tube 2 during film deposition is controlled by utilizing the fact that the vapor pressure of the Si material 5 is changed when it is heated.例文帳に追加

Si材料5は加熱によってその蒸気圧が変化するため、それによって成膜中の反応管2内のSi分圧を制御する。 - 特許庁

例文

The photocatalytic film consisting of carbon-doped anatase-type titanium dioxide is preferably deposited by an open type chemical vapor deposition method.例文帳に追加

炭素ドープアナターゼ型二酸化チタンからなる光触媒膜は、大気開放型化学気相析出法によって成膜されることが好ましい。 - 特許庁

例文

To provide a method for depositing a metallic and/or metallic nitride layer on a substrate by chemical vapor deposition and to provide a precursor.例文帳に追加

本発明は、化学蒸着により基板上に金属及び/あるいは金属窒化物層を形成するための方法及び前駆体を提供する。 - 特許庁

To provide a mask capable of forming an intended shape of vapor deposition on a substrate with good accuracy, and to provide a manufacturing method of an organic electroluminescent device.例文帳に追加

被蒸着基板に精度良く所望の形状を蒸着可能なマスク及び有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a vapor deposition device capable of continuous forming film for a long time, improving the productivity and capable of uniformizing the distribution of the film thickness.例文帳に追加

長時間連続で成膜することが可能であり、生産性を向上させ、膜厚分布を均一にできる蒸着装置を提供する。 - 特許庁

An electric field is generated using low- and high-frequency RF power in order to generate plasma discharge in the reaction region for film vapor deposition.例文帳に追加

膜を蒸着するべく反応領域にプラズマ放電を生成するために低及び高周波RF電力を使って電場が生成される。 - 特許庁

The thin conductor films 12 are deposited by a technique of vapor deposition of, for example, aluminum and are connected to a common electrode of the recording and reproducing device.例文帳に追加

この導電薄膜12は例えばアルミニウムを蒸着の手法により付けられ、記録再生装置の共通電極に接続されている。 - 特許庁

A film is deposited on the surface of the wafer W by reduced pressure CVD (chemical vapor deposition) in a state where the boat 42 is loaded within the heating furnace 38 in the above-mentioned manner.例文帳に追加

このようにボート42を加熱炉38内にロードした状態で、ウェハWの表面に減圧CVDにより成膜を行う。 - 特許庁

The second barrier layer 142, which is formed on the second surface 112 by the atomic layer deposition method, is made of an inorganic material having water vapor barrier properties.例文帳に追加

第2のバリア層142は、第2の面112に原子層堆積法によって形成され、水蒸気バリア性を有する無機材料からなる。 - 特許庁

This chemical vapor deposition silicon carbide product comprises a plurality of parts 112, 114 combined by a sintered ceramic connecting part 116.例文帳に追加

化学気相堆積炭化ケイ素物品は、焼結セラミック結合部116によって結合された複数の部品112、114で構成されている。 - 特許庁

To provide a diffractive optical member that attains a higher power efficiency and performs the vapor deposition of an additional layer after etching without degradation in performance.例文帳に追加

より高い効率を達成でき、性能を低下させずにエッチング後の追加層の蒸着を可能にする回折光学部材を提供すること。 - 特許庁

The protective layer 32 has a structure which has a more highly precise dimension and is denser than when it is formed by vapor deposition.例文帳に追加

保護層32は、蒸着法などによって形成された場合よりも、高精度な寸法を有すると共に緻密な組織を有するものとなる。 - 特許庁

To provide a vapor deposition method capable of forming a film uniform in its film thickness and film quality for an object having a large area to be provided with a film.例文帳に追加

大面積の成膜対象物に対して膜厚及び膜質が均一の膜を形成することができる蒸着技術を提供する。 - 特許庁

As a result, the splash that occurs because the oxidized layer 3 does not melt but only the core material 2 evaporates in vapor deposition can be suppressed.例文帳に追加

この結果、蒸着の際に酸化層3が溶融せず芯材2のみが蒸発することで発生するスプラッシュを抑制することができる。 - 特許庁

To provide a method for forming a silicon carbonitride film on a base material by means of chemical vapor deposition of a precursor for forming the silicon carbonitride film.例文帳に追加

炭窒化ケイ素膜形成用前駆体の化学気相成長により基材上に炭窒化ケイ素膜を形成するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a silicon oxide film on a base material by chemical vapor deposition of a silane oxide precursor at a relatively low temperature.例文帳に追加

シラン酸化物前駆体の化学気相成長によって基材上に比較的低温で酸化ケイ素膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

A coating of Ta is applied to the medical device, such as a stent, by vapor deposition so that the thermomechanical properties of the stent are not adversely affected.例文帳に追加

ステントなどの医療装置の熱機械特性に悪影響を及ぼさないように、蒸着により医療装置にTaコーティングを施す。 - 特許庁

To provide a metal mask for vapor deposition, which stabilizes sagging of a substrate due to own weight and facilitates the mask to adhere to the substrate using the sagging.例文帳に追加

基板の自重たわみを安定させると共にこのたわみを利用して基板との密着を容易にする蒸着用メタルマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a backseat implemented by vapor deposition processing to an acrylic film with high heat resistance, and to provide a solar cell module using the backseat.例文帳に追加

耐熱性の高い、アクリルフィルムに蒸着加工を施した構成のバックシートと該バックシートを用いた太陽電池モジュールを提供すること。 - 特許庁

An energy beam irradiation is applied to a film forming surface when the solid electrolyte layer is formed by a vapor-phase deposition method.例文帳に追加

なお前記固体電解質層の形成方法が気相成膜法である場合に、被成膜面にエネルギー照射を行う電気化学素子の製法。 - 特許庁

RAW MATERIAL LIQUID FOR METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND METHOD OF PRODUCING Hf-Si CONTAINING COMPLEX OXIDE FILM USING THE RAW MATERIAL LIQUID例文帳に追加

有機金属化学気相成長法用原料液及び該原料液を用いたHf−Si含有複合酸化物膜の製造方法 - 特許庁

An X ray photoconductive layer 4 is formed by vapor deposition on the crystal growth acceleration layer 31 and the crystal growth suppression layer 32.例文帳に追加

結晶成長促進層31上および結晶成長抑制層32上に、X線光導電層4を気相成長法にて形成する。 - 特許庁

The metal is separated from the obtained metal vapor deposition film to obtain a plate-shaped metal particle having a thickness of 20 to 50 nm and an average particle size of 4 to 6 μm.例文帳に追加

得られた金属蒸着フィルムから金属を分離させ、厚さ20〜50nm、平均粒径が4〜6μmの板状金属粒子を得る。 - 特許庁

The above organic layer comprises a luminous layer 14 in which the host material and the guest material become a prescribed doping ratio after forming a film by vapor deposition.例文帳に追加

前記有機層は蒸着による成膜後にホスト材料とゲスト材料とが所定のドーピング割合となる発光層14を有する。 - 特許庁

A decompression chamber 4 is formed on the peripheral wall of the crucible 1 housing a vapor deposition material 6 and a heat medium 5 is loaded to constitute a heat pipe.例文帳に追加

蒸着材料6を収容するルツボ1の周壁に減圧室4を形成して、熱媒体5を装填し、ヒートパイプを構成する。 - 特許庁

The organic dye film is formed by applying a solution of the organic dye on the substrate, and the oxide film is formed by vapor deposition on the organic dye film.例文帳に追加

基板に、有機色素の溶液を塗布して有機色素膜を形成し、有機色素膜の上に蒸着により酸化物膜を形成する。 - 特許庁

A plurality of doughnut-shaped flat plates 2 is vertically stacked in a crucible 1, and a vapor deposition material 3 is thinly mounted on each of the doughnut-shaped flat plates 2.例文帳に追加

ルツボ1内に複数のドーナツ型平板2を上下に積み重ねて、各ドーナツ型平板2上に蒸着材料3を薄く載置する。 - 特許庁

The substrate 12 includes a quartz glass substrate and the surface of the substrate is covered with an SiO_2 vapor deposition insulating film so as to expose the electrode 13.例文帳に追加

基板12は、石英ガラス基板から成り、電極13が露出するよう、表面がSiO_2蒸着絶縁膜により覆われている。 - 特許庁

This polyester thin film for vapor deposition is characterized by being10 μm in thickness determined by gravimetric method and ≤5.0% in blocking tendency.例文帳に追加

重量法によるフィルム厚みが10μm以下、ブロッキング性が5.0%以下であることを特徴とする蒸着用薄膜ポリエステルフィルム。 - 特許庁

A copper thin film is produced from the copper complex or the mixture by an organic metal chemical vapor deposition method.例文帳に追加

本発明の銅薄膜は、上記銅錯体又は上記混合物を用いて有機金属化学蒸着法により作製された薄膜である。 - 特許庁

The clad and the core are formed with at least a trialkylsylyl compound as an organic source by a chemical vapor deposition method in an ozone atmosphere.例文帳に追加

少なくともトリ・アルキル・シリル系化合物を有機ソースとし、オゾン雰囲気中の化学気相成長法によって、クラッド及びコアを成膜する。 - 特許庁

To provide a metal organic chemical vapor deposition device which can fundamentally suppress occurrence of thermal convection flow caused by a difference of higher and lower temperatures in a chamber.例文帳に追加

チャンバ内部の上下温度差による熱帯流の発生を根本的に抑える金属有機化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD, AUXILIARY RAW MATERIAL USED THEREFOR, AND FILM AND ELEMENT PREPARED BY THE METHOD例文帳に追加

化学気相成長方法、化学気相成長方法に用いる補助原料、及び化学気相成長方法によって作製された膜並びに素子 - 特許庁

When the source material (14, 24) is eroded during the process of physical vapor deposition, the target (10, 20) can be repaired by applying coating again.例文帳に追加

物理的蒸着工程の間ソース材料(14、24)が侵食すると再度コーティングを付与することによってターゲット(10、20)を改修する。 - 特許庁

The metal-deposited molded product is obtained by forming metallic coating film or metal oxide coating film on a molded product formed by the resin composition by at least metal vapor deposition.例文帳に追加

樹脂組成物で形成された成形品に、少なくとも金属蒸着により金属被膜又は金属酸化物被膜を形成する。 - 特許庁

On top of a semiconductor substrate 102 including an opening which reaches an interconnection in a lower layer, a TiN/Ti adhesion layer 103 is deposited by CVD (chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

下層配線に達する開口部を含む半導体基板102上へTiN/Ti密着層103をCVD法で堆積する。 - 特許庁

On the intermittent metal liner 18, a metal is further deposited by physical vapor-deposition to form a metal filling structure part.例文帳に追加

この不連続的な金属ライナ18の上に、物理蒸着によりさらに金属を堆積を堆積し、金属充てん構造部を形成する。 - 特許庁

To provide an Ru alloy target in which abnormal discharge is hard to occur upon vapor phase film deposition, and which has uniform composition; and to provide its production method.例文帳に追加

気相成膜の際に異常放電が起こり難く均一な組成を有するRu合金ターゲットとその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a high-quality self-organized monolayer by chemical vapor deposition of a forming material for a self-organized membrane.例文帳に追加

自己組織膜形成材料を化学蒸着することによって高品質の自己組織化単分子膜を作製する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate cassette which is applicable to chemical vapor deposition process and has an electrode array therein adaptive to attachment of a plurality of substrates.例文帳に追加

化学気相蒸着工程に適用でき、内部の電極配列が複数の基板の装着に対応できる基板固定ケースを提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum arc vapor deposition apparatus capable of forming a thin film having a smooth surface, good adhesion, high purity and good quality on a substrate.例文帳に追加

基体に表面平滑で、密着性の良い、純度の高い良質の薄膜を形成できる真空アーク蒸着装置を提供する。 - 特許庁

例文

The transparent layer 2 formed by the vapor deposition method is a dense layer and blocks the transmission of gas.例文帳に追加

気相蒸着法によって形成される透明層2は、緻密な層として形成されるものであり、ガスが透過することを遮断することができる。 - 特許庁




  
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