「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(83ページ目) - Weblio英語例文検索

After an oxide film is formed by a vacuum vapor deposition method on a substrate containing a fluoride or on a fluoride thin film, another oxide film is formed by an ion plating method or an ion assist method on the first oxide film.例文帳に追加

フッ化物を含む基板上またはフッ化物薄膜上に、真空蒸着法により酸化物膜を形成した後、酸化物膜の上にイオンプレーティング法またはイオンアシスト法により酸化物膜を形成する。 - 特許庁

The resin-coated member having excellent water-resistant adhesion comprises, on the surface of the metal-made core material, a hydrophilic surface treatment layer formed by combustion chemical vapor deposition and the coating resin layer on it.例文帳に追加

金属製芯材の表面に、燃焼化学蒸着で形成した親水性の表面処理層を有し、その上に被覆樹脂層を有していることを特徴とする耐水密着性に優れた樹脂被覆部材とした。 - 特許庁

To provide a method for improving reliability of a reactor for stably performing, in particular, etching or vapor deposition by effectively removing chlorine-based residues adsorbed by a reaction tube.例文帳に追加

反応管に吸着された塩素系の残留物を効果的に除去することにより、特にエッチング又は蒸着を安定して行うことができる、反応装置の信頼性改善方法を提供することにある。 - 特許庁

The method for forming various kinds of semiconductor thin films includes irradiating the substrate simultaneously with a semiconductor molecule beam evaporated from the vapor deposition unit 5, and the atomic beam emitted from the gas dissociation irradiation unit 6.例文帳に追加

蒸着装置５より蒸発した半導体分子ビームと、気体解離照射装置６より射出した原子ビームを、基板上に、同時に照射することによって多種類の半導体薄膜を作製する。 - 特許庁

By laminating the metallic film 5 by sputtering on the cathode 4 formed by vapor deposition, tensile stress is relatively produced against the cathode 4 on the side of the metallic film 5 formed by the sputtering.例文帳に追加

蒸着によって形成された陰極４の上にスパッタリングによって金属膜５が積層されると、スパッタリングによって形成された金属膜５の側に、陰極４に対して相対的に引っ張り応力が生じている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a birefringent plate by which the characteristic of the birefringent plate obtained after cutting a substrate to which oblique vapor deposition of an optical material is performed is exactly inspected before cutting it into the birefringent plate.例文帳に追加

光学材料が斜め蒸着された基板を複屈折板に切断する前であっても、複屈折板に切断した後の特性を正確に検査することのできる複屈折板の製造方法を提案すること。 - 特許庁

If raw gas is emanated from pipes 101-104 for introducing the raw gas arranged in the vicinity of it, it is decomposed by plasma and is formed into film by vapor deposition on substrates 221-224 arranged in the vicinity of it.例文帳に追加

その近傍に設けられた原料ガス導入管１０_1〜１０_4から原料ガスが噴出されると、プラズマにより分解され、近傍に配置された基板２２_1〜２２_4の表面に気相成長して成膜される。 - 特許庁

The reflecting optical element with the LiF film 7 which is manufactured in this method is capable of preventing a reflecting surface of the Al film 3 from oxidizing during the vapor deposition, so the reflecting optical element has a high reflectivity over a wide wavelength range, especially, in the ultraviolet range.例文帳に追加

この方法で製造されるＬｉＦ膜７を持つ反射光学素子は、蒸着時にＡｌ膜３の反射面の酸化が防止できるため、広い波長範囲、特に紫外域で高い反射率を示す。 - 特許庁

The position of the shim part in the hologram film or the position of the pattern joint in the vapor deposition film is detected by a sensor and the position of the sheet is also detected at the same time by a separate sensor.例文帳に追加

前記ホログラムフィルムにおけるシム部の位置、または蒸着フィルムに形成されている柄の繋ぎ目位置は、センサによって検出されると同時に、前記枚葉紙の位置も、別のセンサによって検出される。 - 特許庁

A heater housing part 102 sealed against the treating chamber 30 is formed in the vapor deposition head 65, and a communication passage 101 which communicates between the heater housing part 102 and the outside of the treating chamber 30 is provided.例文帳に追加

蒸着ヘッド６５の内部には、処理室３０内に対して封止されたヒータ収納部１０２が形成されるとともに、ヒータ収納部１０２と処理室３０の外部とを連通させる連通路１０１が設けられる。 - 特許庁

To provide a continuous manufacturing apparatus for nano carbon enabling the realization of the continuous running of the CVD (Chemical Vapor Deposition) by a basal plate method using a rotary table having the basal plates and excellent in the stability and controllability employing the advantage of the basal plate method.例文帳に追加

基板を有する回転テーブルを用いて基板法ＣＶＤの連続運転を実現可能にし、基板法の利点を生かした安定性、制御性の良いナノカーボンの連続製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an organic EL display device excellent in light emitting property, in which elements can be deposited by contacting a substrate and a mask closely without complicating a mechanism of a vapor deposition apparatus, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

蒸着装置の機構を複雑にすることなく、基板とマスクとを確実に密着させて素子の蒸着を行うことができる、発光特性に優れた有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The problem is solved by controlling a substrate temperature at the start of forming a phosphor layer by the vapor phase deposition to 152-189°C and controlling a substrate temperature at the end of such forming to 190-250°C, respectively.例文帳に追加

気相堆積法による蛍光体層の形成開始時における基板温度を１５２〜１８９℃に、形成終了時における基板温度を１９０〜２５０℃に、それぞれ制御することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus has two perpendicular/horizontal transport mechanisms 100 which can each independently move a substrate-holding tool 18 in a horizontal direction and a perpendicular direction in a chamber 1.例文帳に追加

気相成長装置は、チャンバ１内で基板保持器具１８を水平方向および垂直方向のそれぞれに独立して移動させることが可能な２つの垂直・水平方向搬送機構１００を備えている。 - 特許庁

To provide a silicon carbide surface which is electrically excellent with less defect by removing at least a part of the surface of silicon carbide formed on a substrate through chemical vapor deposition(CVD) by at least 500 nm.例文帳に追加

化学蒸着（ＣＶＤ）により基板上に形成された炭化珪素の表面の少なくとも一部を５００ｎｍ以上除去することにより、欠陥が少なく電気的に良好な炭化珪素表面を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a mask 1 for vapor deposition, a plurality of metallic thin films 10 are fixed to a frame 11 while applying the tension T thereto, and then, a plurality of through hole patterns 10A are formed in each metallic thin film 10.例文帳に追加

蒸着用マスク１の製造方法は、複数の金属薄膜１０を、張力Ｔを付加しつつ枠体１１に固着させたのちに、各金属薄膜１０に複数の透過孔パターン１０Ａを形成する。 - 特許庁

The protective film for the surface of a metal working tool is composed of a mixed film or a stacked film of the nitride of a transition metal element and carbon having an amorphous structure and deposited on a metal surface by a vapor phase thin film deposition process.例文帳に追加

気相薄膜形成法によって金属表面に形成される、遷移金属元素の窒化物と非晶質構造の炭素との混合膜又は積層膜からなる金属加工工具表面保護膜。 - 特許庁

To provide a compound which serves as a photoelectric conversion element when applied to the photoelectric conversion element, exhibits high photoelectric conversion efficiency, low dark current, and rapid response, and does not decompose during vapor deposition.例文帳に追加

光電変換素子に適用した場合に光電変換素子として機能し、高光電変換効率、低暗電流性、高速応答性を示し、かつ蒸着時に分解が起こらない化合物を提供すること。 - 特許庁

This invention provides a method for manufacturing a matrix of carbon nanotubes by the chemical vapor deposition method, in which grown tubes have a uniform and controlled length and do not connect with each other and can easily disperse, as compared to the conventional technology.例文帳に追加

従来の技術に比べて、本発明は化学気相成長法により、一種の生長の長さが均一で且つ制御され、結ばなく、分散し易い炭素ナノチューブのマトリックスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metallic vapor-deposited transfer sheet for molding, which needs no washing process and can be manufactured efficiently and which has a vapor deposition layer capable of dealing with patterns corresponding to various requirements on demand, and to provide a decoration method for obtaining moldings having superior metallic luster, high designability, and high-quality surface decoration, in a method for performing injection molding simultaneous decoration using the metallic vapor-deposited transfer sheet.例文帳に追加

水洗処理が無く、効率よく製造でき、またオンデマンドで、様々な要求に応じたパターンに対応できる蒸着層を有した成型加工用金属蒸着転写シートを提供し、該金属蒸着転写シートを使用して、射出成型同時加飾を行なう方法において、優れた金属光沢を有し、意匠性が高く、高品質の表面装飾を有した成型品が得られる加飾方法を提供する。 - 特許庁

In the vapor phase growth method of placing the wafer on a susceptor in a reaction chamber and forming the thin film on the wafer by vapor phase deposition, the material gas is branched to at least two lines, each of the branched material gases is temporarily branched into two and then mixed together, and further branched into two to be supplied to the reaction chamber, thereby carrying out the vapor phase growth.例文帳に追加

反応室のサセプタ上にウエーハを載置し、該ウエーハ上に薄膜を気相成長させる方法であって、少なくとも、原料ガスを、２つのラインに分岐し、その後該分岐させた原料ガスの各々を一旦２つに分岐させた後に合流させ、その後更に２つに分岐させて、原料ガスを前記反応室に供給しながら気相成長させることを特徴とする薄膜の気相成長方法。 - 特許庁

Disclosed is the method for manufacturing the liquid crystal panel constituted by charging a liquid crystal layer 17 between a couple of substrates S each having an alignment film 15 formed on a surface, and the alignment film 15 is formed by an oblique vapor-depositing method of supplying vapor molecules at a vapor-deposition angle θ1 of 45 to 60° to a normal Lv of one main surface of a substrate S.例文帳に追加

本発明は、表面に配向膜１５が形成された一対の基板Ｓ間に液晶層１７を封止してなる液晶パネルの製造方法であって、基板Ｓの一主面の法線Ｌｖに対して４５度を超える６０度以下の蒸着角度θ１から蒸着分子を供給する斜方蒸着法により、配向膜１５を形成することを特徴とする液晶パネルの製造方法および液晶パネルである。 - 特許庁

The method for manufacturing products of magnesium or magnesium alloys comprises a step of working magnesium or the magnesium alloys into a product shape, and a step of forming a magnesium vapor-deposited layer on the surface of the workpiece manufactured in the working step, with a vapor deposition method employing magnesium or the magnesium alloy as a vapor depositing metal, in a vacuum condition with an atmospheric pressure of 1 or lower and at 650°C or lower.例文帳に追加

マグネシウム、マグネシウム合金を用いて製品形状に加工する加工工程と、この加工工程で加工された加工製品を気圧が１気圧以下で、温度が６５０℃以下の真空中でマグネシウム、マグネシウム合金を蒸着金属として用いた蒸着によって表面にマグネシウム蒸着層を形成するマグネシウム蒸着工程とでマグネシウム、マグネシウム合金製品の製造方法を構成している。 - 特許庁

The protective film for PDP is formed by the electron beam vapor deposition method, the ion irradiation vapor deposition method or the sputtering method using the single crystal MgO sintered compact as the target material.例文帳に追加

粒径２００μm以上の粒子を含有するとともに、Ｘ線回折法により測定した（２００）面のＸ線強度及び（１１１）面のＸ線強度を、それぞれａカウント毎秒及びｂカウント毎秒としたとき、２０＜ａ／ｂ＜３００であることを特徴とする単結晶ＭｇＯ焼結体、及び、この単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したＰＤＰ用保護膜である。 - 特許庁

Colors are changed by the visual angles to be observed for a color-changing vapor deposition transfer medium, and a cured radiation curable resin composition 13h and a metal vapor deposition layer 14 are formed successively in the above order on a base 11, and fine recessed and projected shape formed based on the difference of elongation of the base when the radiation curable resin composition is heated.例文帳に追加

本発明の変色性蒸着転写媒体は、観察する視角度により色彩が変化する変色性蒸着媒体であって、基材１１上に、硬化した放射線硬化型樹脂組成物１３ｈと、金属蒸着層１４と、が順次設けられており、当該金属蒸着層には、放射線硬化型樹脂組成物が加熱された際の基材との伸びの差に基づく微細な凹凸形状が、形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic elastomer resin composition that is flexible, has excellent elasticity and molding processability, is easily surface-treated by plating, vapor deposition, coating, etc., and has excellent thermal adhesiveness to an ABS resin and a molded article using the same.例文帳に追加

柔軟で弾性に富み成形加工性に優れ、メッキ、蒸着、塗装などの表面処理が容易で、ＡＢＳ樹脂との熱接着性にも優れた熱可塑性エラストマ樹脂組成物およびそれを使用した成形品の提供。 - 特許庁

To provide a film forming device capable of forming films of high quality in such a manner that the plural faces to be film-formed in the body to be film-formed are correctly orientated toward the directions respectively suitable for film formation by a simple constitution and to provide a vapor deposition device for lenses.例文帳に追加

簡単な構成によって、被成膜体の複数の被成膜面をそれぞれ成膜に適した方向に正確に向けて高品質の成膜ができるようにした成膜装置及びレンズの蒸着装置を提供する。 - 特許庁

This composite material for vapor deposition has a bar-shaped core material composed of a mixture of metal powder of aluminum or the like and carbon powder and an external material composed of metal such as aluminum provided so as to cover the core material and be adhered thereto.例文帳に追加

この蒸着用複合材料は、アルミニウム等の金属粉体とカーボン粉体の混合物から成る棒状の芯材と、この芯材を覆い密接して設けられたアルミニウム等の金属から成る外装材とを有する。 - 特許庁

The laminated material for camouflage including the cloth substrate having infrared absorption and reflection capacities is obtained by laminating a cloth substrate layer, a metal foil layer or a metal vapor deposition layer, an ink pattern layer, and a resin layer in turn.例文帳に追加

この積層材料を衣料として偽装用の戦闘服などの衣類や、個人装具、さらには艦船用、航空機用、戦車用等のカバー等にも利用される布基材を含む積層材料を提供するものである。 - 特許庁

When ≤15 at.%, preferably 1-5 at.% one or more selected from P, Al and B as promoters are dispersed in the coating 14 by addition to the mixed oxide before chemical vapor deposition on the glass substrate 12, light scattering observed as cloudiness is suppressed.例文帳に追加

この蒸着により形成された珪素酸化物及び錫酸化物より成るフィルムの成長速度はジエチルシランを珪素含有前駆体として使用した対照例の１２９Å／秒に比較して１８１Å／秒である。 - 特許庁

A cyclic chemical vapor deposition process using a silicon source substance and a nitrogen source gas is performed to form a silicon nitride film 20 containing a silicon-rich nitride (Si_xN_y, a value of x/y is 0.7 to 1.5) on the first oxide film 15.例文帳に追加

シリコンソース物質と窒素ソースガスを用いたサイクリック化学気相蒸着工程を実施し、第１酸化膜１５上にシリコンリッチ窒化物（ＳｉｘＮｙ、ｘ／ｙの値が０．７〜１．５である）を含むシリコン窒化膜２０を形成する。 - 特許庁

To provide a vacuum film-forming apparatus having a thermometry means for precisely estimating the heat transferred onto a substrate from a heated vapor-deposition material through radiation, in a state of rotating the substrate, arranged in a proper position in a vacuum chamber.例文帳に追加

蒸着材料の加熱に基づく基板への輻射伝熱について、基板を回転させた状態で正確に見積るための温度測定手段を、真空槽内の適所に配置した真空成膜装置を提供する。 - 特許庁

A first organic SOG(spin-on-glass) layer 13, a reinforcing insulating layer 14 of a silicon oxide or nitride film formed by a plasma CVD(chemical vapor deposition) method, and a second organic SOG layer 16 are formed on a wiring layer 12 in this order.例文帳に追加

配線層１２上には、第１の有機ＳＯＧ層１３、プラズマＣＶＤ法で形成されるシリコン酸化膜或いはシリコン窒化膜からなる補強絶縁層１４、及び第２の有機ＳＯＧ層１６がこの順で積層される。 - 特許庁

To provide a resin composition which hardly produces chips in pellet production, has stable extrusion moldability and shapability, and is excellent also in flame retardancy, long-term high-temperature aging property and suitability to metal vapor deposition property in the form of an extrusion molded body.例文帳に追加

ペレット生産時の切り粉の発生が少なく、かつ、安定した押出成形性・賦形性を有し、押出成形体での、難燃性、長期高温エージング性、及び金属蒸着性にも優れる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a patternized color conversion layer, capable of coping with a large-sizing and high precision by patternizing, without giving damages to the color conversion layer formed by a dry process of vapor deposition method, or the like.例文帳に追加

蒸着法などのドライプロセスによって形成される色変換層にダメージを与えることなしにパターン化して、大型化および高精細化に対応することができる、パターン化された色変換層の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing device equipped with a vapor deposition device which is one manufacturing device in which the manufacturing cost is reduced by improving the utilization efficiency of an EL material and which is superior in the uniformity and in the throughput of EL layer formation.例文帳に追加

本発明は、ＥＬ材料の利用効率を高めることによって製造コストを削減し、且つ、ＥＬ層成膜の均一性やスループットの優れた製造装置の一つである蒸着装置を備えた製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a gas-barrier film which relaxes propagation of an external stress to the barrier layer by imparting a stress relaxing layer to the outer surface of the vapor deposition film and presents performance from deteriorating even under compression/expansion stress due to changes of the circumstance.例文帳に追加

蒸着膜の外面に応力緩和層を付与することで、外部応力のバリア層への伝播を緩和し、環境変化による圧縮／膨張応力によっても性能が劣化しないガスバリアフィルムを提供すること。 - 特許庁

The biaxially oriented polyamide film, characterized in that the elongation in the transverse direction (TD direction) when moisture is absorbed by changing humidity from 20°C, 0%RH to 20°C, 65%RH is 2.5% or less, is used as a substrate film for transparent vapor deposition.例文帳に追加

２０℃、０％から２０℃、６５％ＲＨへ湿度変化させたときの横方向（ＴＤ方向）吸湿伸び率が２．５％以下であることを特徴とする二軸延伸ポリアミドフィルムを透明蒸着用基材フィルムとして用いる。 - 特許庁

In a co-extrusion laminated film consisting of an antistatic agent-containing layer (A) and an antistatic agent-free layer (B), an anchor coat layer and an inorganic matter vapor deposition layer are successively formed on the surface of the antistatic agent-free layer (B).例文帳に追加

帯電防止剤含有層（Ａ）と帯電防止剤非含有層（Ｂ）とから成る共押出積層フイルムにおいて、帯電防止剤非含有層（Ｂ）の表面にアンカーコート層と無機物蒸着層とを順次に形成して成る。 - 特許庁

In the vapor deposition mask 20, a first aperture 7 is formed in the surface of a substrate 13, and also a second aperture 8 communicating with the first aperture 7 from the rear side and being larger than the first aperture 7 is provided.例文帳に追加

蒸着用マスク２０は、基板１３表面に第１の開口窓７を形成し、この裏面側から第１の開口窓７に連通し、この第１の開口窓７よりも大きい第２の開口窓８を有するようにしたものである。 - 特許庁

The film composed of the carbon-containing silicon oxide is produced through plasma excitation chemical vapor deposition process by using an organosilicon compound as a base material which has a structure in which alkoxyalkyl is directly bonded to a silicon atom, as shown below in formulae 1 and 4 for examples.例文帳に追加

アルコキシアルキルがケイ素原子に直結した構造を有する有機ケイ素化合物、例えば下式１、４を原料として用い、プラズマ励起化学気相成長法により炭素含有酸化ケイ素からなる膜を形成する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for manufacturing of an electronic device, capable of cleaning vapor deposition masks without giving rise to increase of an occupation space of the electronic device manufacturing apparatus or loss time at flowing of a substrate.例文帳に追加

電子デバイス製造装置の占有スペースの増大や基板を流動させる際のロスタイムを発生させることなく、蒸着マスクをクリーニングすることのできる電子デバイス製造装置および電子デバイスの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a vapor deposition mask structural body manufacturing method, a mask under the tension is fixed to a first frame, a rear side of the mask and a second frame are fixed on the inner side of the first frame, and the mask is cut from the first frame.例文帳に追加

テンションがかかったマスクを第１のフレームに固定し第１のフレームの内側においてマスクの裏面と第２のフレームとを固定し、マスクを第１のフレームから切断して蒸着用マスク構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, a transparent electrode 3 and a p-side electrode 4 are formed on the surface of the p-type contact layer 10 through a vacuum vapor deposition method or the like, and an n-side electrode 5 is formed on the oxygen polar plane 1b of the ZnO substrate 1.例文帳に追加

次いで、真空蒸着法等によりｐ形コンタクト層１０の表面に透明電極３及びｐ側電極４を形成し、また、ＺｎＯ基板１の酸素極性面１ｂ上にｎ側電極５を形成する。 - 特許庁

Thus, the function of the frame body 3 of checking the dimensional change and shape change of the mask body 2 caused by thermal influence can satisfactorily be secured, and a vapor deposition layer having a uniform shape can be formed at high precision with satisfactory reproducibility.例文帳に追加

従って、熱影響によるマスク本体２の寸法変化、形状変化を阻止するという枠体３の機能を良好に担保でき、均一な形状を有する蒸着層を高精度に再現性良く形成できる。 - 特許庁