「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(85ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a thermoplastic polyester molded article for metal deposition having good mold releasability in molding, furthermore exhibiting good adhesion strength to a vapor-deposited metal and being excellent in heat resistance, particularly in heat cycle properties.例文帳に追加

成形時の離型性が良好で、なお且つ、金属蒸着した場合に金属蒸着膜との接着強度が良好で、耐熱性特にヒートサイクル性の優れた蒸着用熱可塑性ポリエステル成形品を提供すること。 - 特許庁

Moreover, at the time of applying high voltage, the supporting base ST has a bias voltage VB of about 5 kV or less, which is sufficiently smaller than the voltage VP in the absolute value, and cations in the plasma impinge on the vapor-deposition object WO with comparatively low energy.例文帳に追加

また、高電圧印加に際して、支持台ＳＴが絶対値で電圧ＶＰよりも十分小さな５ｋＶ程度以下のバイアス電圧ＶＢとなって、プラズマ中の陽イオンが比較的低エネルギーで被蒸着物ＷＯに入射する。 - 特許庁

As for the method of forming a film, in a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) method wherein a raw material is decomposed, and a film is formed from the decomposed product, a shelter is arranged between a plasma source and a substrate, and the shelter is a first magnet.例文帳に追加

原料をプラズマ中で分解して、この分解物から膜を形成するプラズマＣＶＤ法において、プラズマ源と基板との間に遮蔽物を配置し、該遮蔽物が第１の磁石であることを特徴とする膜の形成方法。 - 特許庁

To provide the manufacture of a semiconductor device which can reduce the stress of a metallic film arising when having formed a high fusing point metal film by chemical vapor deposition method and besides is excellent in controllability.例文帳に追加

本発明の目的は、化学気相成長法により高融点金属膜を形成した際に生じる金属膜の応力を低減することのでき、かつ非常に制御性の良い半導体装置の製造方法を提供することである。 - 特許庁

This method for controlling scan is characterized by inputting waveform data for making the molten surface flat to MPU 11, based on the molten surface of the vapor deposition material obtained by scanning of the electron beam by the use of a generally used triangular wave having a constant scan rate.例文帳に追加

一般的に用いられているスキャン速度が一定の三角波により電子ビームをスキャンして得られる蒸着材料の溶融面を基にした、溶融面が平坦となる波形データをＭＰＵ１１に入力する。 - 特許庁

Accordingly, when the holder 18 is rotated, the Si substrate 20 to be film-formed by the vapor deposition source 30 is replaced by the Si substrate 20B, and thus the six Si substrates 20A to 20F held on the holder 18 can be sequentially film-formed.例文帳に追加

そのため、このホルダ１８を回転させると、蒸着源３０によって成膜されるＳｉ基板２０がＳｉ基板２０Ｂに換わって、ホルダ１８に保持された６枚のＳｉ基板２０Ａ〜２０Ｆが順次成膜可能な状態となる。 - 特許庁

In this case, an electrolytic copper foil with roughly processed top surface is used as a negative electrode collector 12 to form the active material layer on the negative electrode collector 12, where an active material layer formation surface is held in the concave surface shape against a vapor deposition source 3.例文帳に追加

この際、負極集電体１２として表面が粗化された電解銅箔などを用い、活物質層形成面が蒸着源３に対して凹面形状に保持された負極集電体１２に活物質層を形成する。 - 特許庁

To produce a highly reliable magnetic tape medium which is excellent in electromagnetic conversion characteristics, archive characteristics, traveling durability and storage durability by forming a film of a magnetic layer by means of a vapor deposition device for manufacturing usual magnetic tapes.例文帳に追加

既存の磁気テープ製造用蒸着設備を擁して磁性層の成膜を行い、優れた電磁変換特性、アーカイブ性を有し、走行耐久性、及び保存耐久性にも優れた信頼性の高い磁気テープ媒体を作製する。 - 特許庁

A magnetic circuit section 4a of the speaker of this invention is covered with a poly parabanic acid resin 10 being a vapor-deposition resin so as to enhance the performance against corrosion such as rust having been caused in conventional zinc plating.例文帳に追加

本発明のスピーカは磁気回路部４ａを蒸着樹脂であるポリパラバンサン樹脂１０で覆ったものであり、これにより、従来の亜鉛メッキでは発生していた錆などの腐蝕に対する性能を向上させたものである。 - 特許庁

The utilization efficiency of the materials for forming the hole transport layer 3 and the light-emitting layer 4 can be enhanced, as compared with the case of formation by over vapor deposition method, and the uniform organic film can be formed over a wide area.例文帳に追加

したがって、蒸着法により形成する場合と比較して、正孔輸送層３および発光層４を形成するための材料の利用効率を良くすることができ、また大面積に均一な有機膜を形成することができる。 - 特許庁

To obtain a film of high quality which has high crystallinity and comprises a low content of impurities at a relatively low substrate heating temperature in a chemical vapor deposition method of depositing an object film using a metal dpm (dipivaloyl methanate) complex as an MO (organometal) gaseous starting material.例文帳に追加

金属ｄｐｍ錯体をＭＯ原料ガスとして用い、目的の膜を堆積させる化学気相成長方法において、比較的低温の基板加熱温度で、結晶性が高く、不純物の少ない高品質の膜を得る。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor-deposition apparatus which prevents a splash material from depositing on a long strip of a substrate even if splash has occurred, and minimizes a part having no vaporizing material deposited on the long strip of the substrate.例文帳に追加

スプラッシュが発生しても、長尺帯状基材に付着するのを防止でき、かつ、長尺帯状基材に蒸着されていない部分の発生をできるだけ少なくすることができる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

This woven or knitted fabric for clothing 10 is characterized by including a woven or knitted fabric 1, a metal film 3 formed by a physical vapor-deposition method on at least one side of the woven or knitted fabric 1 and a protecting layer 5 formed on the metal film.例文帳に追加

織編物１と、前記織編物の少なくとも片面に物理蒸着法によって形成された金属膜３と、前記金属膜上に形成された保護層５とを有していることを特徴とする衣料用織編物１０。 - 特許庁

To provide a gas barrier material which has a vapor-deposition film containing hydroxy-apatite as a film-forming component, formed on the surface of a plastic base material and has an extremely improved gas-barrier property of the plastic base material by making the best use of a characteristic of the hydroxy-apatite.例文帳に追加

ハイドロキシアパタイトを膜形成成分として含む蒸着膜がプラスチック基材の表面に形成されており、ハイドロキシアパタイトの特性が活かされ、プラスチック基材のガスバリア性が著しく高められたガスバリア材を提供する。 - 特許庁

The chemical vapor deposition method is characterized in that the pressure in a reaction chamber is varied by being reached to a first set pressure and a second set pressure, which is higher than the first set pressure, alternately.例文帳に追加

上記課題は、反応室の圧力を、第一設定圧力と、該第一設定圧力よりも高い第二設定圧力とに、交互に達せしめるように変動させることを特徴とする、化学気相成長方法によって達成される。 - 特許庁

To provide a method and device for eliminating the conventional drawback of a chemical vapor deposition that a vaporized metal film is deposited on an insulating member in a processing chamber to degrade insulation to reduce instability of the plasma.例文帳に追加

化学蒸着において、処理室内部の絶縁部材に蒸着金属のフィルムが蒸着して絶縁性を悪化し、プラズマのあって性を低下させるという従来の欠点を解消する方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a light emitting element that employs a mechanism for self-organized growth, can be actualized without using vapor deposition or ultrahigh vacuum, and is industrially simple and has high practicality and a manufacturing method thereof, and an ErSi_2 nano-wire and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

自己組織成長のメカニズムを援用し、蒸着や超高真空を用いずに実現できる、工業的に簡便で実用性の高い発光素子とその製造方法、並びにＥｒＳｉ_２ナノワイヤーとその製造方法を提供する。 - 特許庁

In a printing quality inspection device, if a to-be-printed member is a vapor deposition sheet 2A, light radiated from a light source 22 and reflected at a reflection point 24a of a diffusion reflection plate 24 irradiates an inspection point 2a, and enters a camera 23 through an incident route 32.例文帳に追加

被印刷部材が蒸着紙２Ａの場合は、光源２２から出射され、拡散反射板２４の反射点２４ａで反射した光が被検査点２ａに照射された後、入射経路３２を経てカメラ２３に入射する。 - 特許庁

The first dichroic filter is provided with an optical film wherein many two-layered films comprising silicon dioxide and titanium oxide or a titanium oxide-based composite material are layered by physical vapor deposition to a base material made of a heat-resistant plastic material.例文帳に追加

そして、第一ダイクロイックフィルタは、耐熱性プラスチック材の基材に対する物理的蒸着によって、二酸化珪素と酸化チタンまたは酸化チタン系複合材の二層膜とを多層とした光学膜を備えて形成する。 - 特許庁

Accordingly, the injection can be performed under the optimum conditions in all the liquid crystal elements within the mother substrate 14, and the alignment irregularity due to the direction of forming a vapor deposition alignment layer composed of the columnar structural body can be reduced.例文帳に追加

これによりマザー基板１４内のすべての液晶素子において最適な条件で注入をおこなうことができ、柱状構造物からなる蒸着配向膜の形成方向に起因する配向ムラを軽減できる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminate by which an organic coating material layer can be formed continuously and stably on a thermoplastic support by vaporizing an organic matter consecutively, in a film forming velocity range of a chemical vapor deposition process or a sputtering process.例文帳に追加

化学蒸着法やスパタリング法の成膜速度領域で、有機物を連続的に気化させ、熱可塑性支持体上に連続的に有機被覆物層を安定して形成できる積層体の製造方法を提供することである。 - 特許庁

The functional transfer sheet is constituted by forming a release layer (2) on one side of a base film (1), forming a functional urethane resin layer (3) on the surface of the release layer (2) and forming a vapor deposition layer (5) on the functional urethane resin layer (3).例文帳に追加

ベースフィルム（１）の片面上にリリース層（２）を形成し、リリース層（２）の面上に機能性ウレタン樹脂層（３）を形成し、さらに機能性ウレタン樹脂層（３）の面上に蒸着層（５）を形成した機能性転写シート。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus to continuously and uniformly form a single phase film or a mixed film which consists of a single element or different elements and has a predetermined composition and a target thickness on a traveling film.例文帳に追加

走行中のフィルム表面に単一元素または異なる元素からなり、所定の組成比および目標厚みを有する単相膜または混合膜を、連続的かつ均一に形成できる真空蒸着装置を提供する。 - 特許庁

The process device 1 is a vacuum device, such as a vapor deposition device, a molecular beam epitaxial device or an ion beam sputtering device, or a thin-film growth device, such as an organic-metal gas-phase growth device or a liquid phase epitaxial device, or a surface treatment device, etc.例文帳に追加

プロセス装置１は、蒸着装置、分子ビームエピタキシャル装置、イオンビームスパッタ装置等の真空装置や、有機金属気相成長装置、液相エピタキシャル装置等の薄膜成長装置、表面加工装置等である。 - 特許庁

The composite material is used as the target material to perform dry process vapor deposition such as a reactive sputtering method or the like to obtain a product such as a cutting tool, a slide part or the like coated with a hard thin film excellent in abrasion resistance or oxidation resistance.例文帳に追加

該複合材をターゲット材として、反応性スパッタ法等のドライプロセス蒸着を行い、表面に耐摩耗性又は耐酸化性の優れた硬質薄膜をコーティングした切削工具又は摺動部品等の製品を得る。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for vaporizing and feeding a liquid material by which a liquid material can be vaporized and fed by minimum heating in a CVD (Chemical Vapor Deposition) process, and many materials can quickly be vaporized.例文帳に追加

ＣＶＤプロセスにおいて液体材料を最低限の加熱により気化供給することができ、多くの材料を速やかに気化できる液体材料気化供給装置および液体材料気化供給方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an antireflection stacked body having high abrasion properties, film hardness lower than that of a DMS thin film and higher than that by a vapor deposition process, and reduced luminescent points, to provide an optically functional filter, and to provide an optical display.例文帳に追加

本発明は、擦傷性が強く、膜硬度がＤＭＳ薄膜より低く、蒸着法より高い、輝点の少ない反射防止積層体の製造方法、光学機能性フィルタおよび光学表示装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, a change of relative location relationship of a dome 5 with a correcting plate 7 is prevented; as the result, film thickness of vapor deposition film is precisely corrected; and thickness of film which is vacuum deposited on a glass substrate 4 is uniformized.例文帳に追加

これにより、ドーム５と補正板７との相対的な位置関係が変わってしまうこと等が抑制されるので、蒸着膜の膜厚の補正が正確に行われ、ガラス基板４に蒸着される膜厚の均一化を図ることができる。 - 特許庁

After the formation of an aluminum oxide thin film 8 having adhesive properties on the metallic bonding film composed of MCrAlY, a ceramic layer 10 is formed on the aluminum oxide thin film by a physical vapor deposition method, and its structure is formed into the columnar one.例文帳に追加

前記のＭＣｒＡｌＹから成る金属結合膜上に接着性を有する酸化アルミニウム薄膜を形成した後、物理的蒸着法により前記酸化アルミニウム薄膜上にセラミック層を形成し柱状構造にする。 - 特許庁

After an embedded oxide film 8 is formed by embedding into the groove 6 and the opening 3a through high density plasma chemical vapor deposition(CVD), the embedded oxide film 8 on the SiN film 3 is removed and flattening is performed by chemical-mechanical polishing(CMP).例文帳に追加

高密度プラズマＣＶＤ法により、溝６および開口３ａの内部に埋め込むようにして、埋め込み酸化膜８を形成した後、ＳｉＮ膜３上の埋め込み酸化膜８を除去し、ＣＭＰ法により平坦化を行う。 - 特許庁

The SiC formed body with the hindering light transmission is comprised of the SiC formed body that is manufactured by a chemical vapor deposition(CVD) method, a texture and a structure of a fine grain polycrystalline and a light transmittance of 0.3% or less at the wavelength range of 500 to 3000 nm.例文帳に追加

ＣＶＤ法により作製されるＳｉＣ成形体であって、微粒多結晶性の組織構造からなり、５００〜３０００nmの波長域における光透過率が０．３％以下である光不透過性ＳｉＣ成形体。 - 特許庁

An image reader is provided with what is called an electroluminescence lamp (EL lamp (EL element)) provided with a plane type light emission unit 80 on the reverse surface (on a device inner side) of a second platen glass 52B by vapor deposition and including the second platen glass 52B as a substrate.例文帳に追加

第２プラテンガラス５２Ｂの裏面（装置内部側）に面状の発光部８０が蒸着等により設けられ、第２プラテンガラス５２Ｂを基板とした所謂エレクトロルミネッセンスランプ（ＥＬランプ（ＥＬ素子））が設けられた構成となっている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film, which forms the thin film on a substrate with a large area and a wide wire rod and solves a problem that a vapor deposition method with a conventional pulsed laser beam forms a practically-uniform thin film on just a narrow region.例文帳に追加

従来のパルスレーザ蒸着法では、実用上均一な薄膜形成の可能な薄膜形成領域が狭いため、大面積基板や幅広線材への薄膜形成が可能な薄膜製造方法を提供する。 - 特許庁

The above polysiloxane coated film is formed by performing chemical vapor deposition with a siloxane-based compound and a Si-H group addition reacting on the inorganic compound fine particles in a chamber, and further making them as hydrophilic by performing a heat-treatment or hydroxylation reaction.例文帳に追加

前記ポリシキロサン被膜は、チャンバ内で無機化合物粒子にシキロサン系化合物を化学蒸着とＳｉ−Ｈ基の付加反応を行い、さらに加熱処理またはヒドロキシン化反応によって親水性にすることにより形成する。 - 特許庁

In the metal halide lamp, a protection film 8 having a thickness of 1.0-5.0 μm formed by vapor deposition of AlN or Si_2N_4 is formed on the inner surface of the light-emitting tube 1a made of quartz glass at the part which becomes the bottom part at the time of lighting.例文帳に追加

メタルハライドランプにおいて、石英ガラスからなる発光管１ａの点灯時に下部となる部分の内表面にＡｌＮまたはＳｉ２Ｎ４蒸着させて形成する厚さ１．０〜５．０μｍの保護膜８を形成する。 - 特許庁

A method for manufacturing the SiC-coated carbon substance is comprised of surface-treating a carbon substrate as its surface roughness (Ra) is of 5 to 20 μm, after that, carrying out a highly purifying treatment and then forming a SiC-coated film by a CVD(chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

カ−ボン基材を表面粗さ（Ｒａ）を５〜２０μｍとなるように表面処理した後、高純度化処理し、次いでＣＶＤ法によりＳｉＣコ−ト膜を形成させるＳｉＣコ−トカ−ボン材の製造方法。 - 特許庁

To provide a cleaning apparatus for effectively cleaning a metal stuck to a tool in the tool used in a dry etching apparatus, a CVD (chemical vapor deposition) apparatus, or the like, used in a process for manufacturing a semiconductor, a liquid crystal substrate or a solar battery.例文帳に追加

半導体又は液晶基板、太陽電池の製造過程で使用されるドライエッチング装置、ＣＶＤ装置などで使用される冶具に対して、この冶具に付着した金属を有効に洗浄する洗浄装置を実現すること。 - 特許庁

Further, as a crucible 8, the one whose opening diameter is smaller than that of a substrate holder 16 is used, thus the amount of vapor upon arrival at the substrate 6 can be made uniform on the substrate 6, and uniform film deposition by ion plating is made possible.例文帳に追加

また、坩堝８として開口径が、基板ホルダー１６の径より小さいものを用いることより、基板６到達時の蒸気量を基板６上で均一にすることができ、イオンプレーティングによる均一成膜が可能である。 - 特許庁

The chemical vapor deposition (CVD) apparatus and method are provided with external metal halide gas generators that reduce air leakage into the generators so as to improve efficiency of use of the metal charge residing in each generator.例文帳に追加

各ジェネレーターに存在する金属電荷の使用効率を改良するようにジェネレーターへの空気の漏れを減少する外部のハロゲン化金属ガスジェネレーターを備える化学蒸着法（ＣＶＤ）装置及び方法が提供される。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing metal/carbon nanotube composite using electroplating in order to solve problems remaining in growth form at the time of high temperature growth taking place through the conventional chemical vapor deposition process.例文帳に追加

従来の化学気相蒸着方法を通じてなされる高温成長の際の成長形態に残存する問題を解決するために、電気メッキ方法を利用する金属／炭素ナノチューブ複合材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

The barrier laminate has at least one organic layer containing a resin having an annular carbon skeleton and at least one inorganic layer formed by a plasma assist vapor deposition method.例文帳に追加

少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機層を有し、前記有機層は、炭素環状骨格を有する樹脂を含み、前記無機層はプラズマアシスト蒸着法によって形成されることを特徴とする、バリア性積層体。 - 特許庁

Because acceleration energy can be minimized by the use of the helium ion beam, the rise in the temperature of the substrate at vapor deposition can be prevented and the titanium oxide thin film can be formed even on the substrate made of organic material easily affected by heat.例文帳に追加

ヘリウムイオンビームを用いることにより、加速エネルギーが小さくてすむため、蒸着の際の基板の温度上昇を押さえることができ、熱に弱い有機材料基板上にも酸化チタン薄膜を形成させることができる。 - 特許庁

To provide a biaxially oriented polyester film having uniform heat resistance and dimensional stability capable of withstanding metal vapor deposition, capable of also corresponding to deep drawing and having transparency of a degree not damaging the appearance of a molded product after thermoforming.例文帳に追加

均一な金属蒸着するに耐えられる耐熱性、寸法安定性を有し、かつ深い絞りにも対応可能であり、かつ熱成形後に成形物の外観を損なわない程度の透明性を有するフィルムを提供することにある。 - 特許庁

The vapor deposition apparatus 10 has the second treatment container 200 and the first treatment container 100 installed separately, accordingly needs not open the first treatment container 100 to the atmosphere when restocking a film-forming material for the second treatment container to enhance the exhaust efficiency.例文帳に追加

第２の処理容器２００と第１の処理容器１００とを別体にて設けることにより、成膜材料補充時、第１の処理容器１００内を大気に開放することがないため、排気効率を上げることができる。 - 特許庁

Then, a material gas is introduced into the plasma vapor deposition system leaving the substrate 101 in it, and a fluorine diffusion inhibiting film 10 is grown on the fluorine-doped silicon oxide film 2 by the use of the plasma.例文帳に追加

次いで、プラズマ気相成長装置内に基板１０１を設置したまま材料ガスをプラズマ気相成長装置内に供給し、プラズマを用いてフッ素ドープシリコン酸化膜２上にフッ素拡散抑制膜１０を成長させる。 - 特許庁