「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(81ページ目) - Weblio英語例文検索

A component of a mixed evaporation gas of CVD materials for use in forming the ferroelectric film is analyzed by using FTIR, and the gas is supplied to a semiconductor manufacturing apparatus, while monitoring, to carry out vapor deposition.例文帳に追加

前記強誘電体膜の成膜に用いられるＣＶＤ原料の混合気化ガスを、ＦＴＩＲを用いてその成分を分析、監視しながら半導体製造装置へ供給し気相成長を行なう。 - 特許庁

A lead electrode 23 extended from an exciting electrode 21 of a crystal oscillator body 2 is made of thin films formed by sputtering or vapor-deposition whose first layer is a Ti film 23a and whose second layer is a Pd film 23b.例文帳に追加

水晶振動体２の励振電極２１から延在する引出電極２３は、スパッタリング又は蒸着により形成された薄膜であり、第一層がＴｉ膜２３ａ、第二層がＰｄ膜２３ｂである。 - 特許庁

To provide a method for arranged vapor deposition of metal nanoparticles and a method for growing carbon nanotubes using metal nanoparticles, wherein metal nanoparticles having no inclusion of impurities are placed in a uniform particle size at a desired position.例文帳に追加

金属ナノ粒子の配列蒸着方法及び金属ナノ粒子を用いたカーボンナノチューブの成長方法に関し、不純物の混入のない金属ナノ粒子を粒径を揃えて且つ任意の位置に配置する。 - 特許庁

To provide an organic thin film electroluminescence panel including a metal electrode having a low wiring resistance and a method for manufacturing the same by preventing glass transition of an organic film due to radiation heat generated in a vapor deposition source in forming the metal electrode.例文帳に追加

金属電極形成時における蒸着源からの輻射熱による有機膜のガラス転移を防ぎ、配線抵抗の低い金属電極を有する有機薄膜ＥＬパネルとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To stably manufacture a conversion panel causing no crack nor peeling in a phosphor layer with improved sensitivity, in manufacturing of a radiographic image conversion panel forming a phosphor layer by vapor phase deposition.例文帳に追加

気相堆積法によって蛍光体層を形成する放射線像変換パネルの製造において、蛍光体層のクラックや剥離がなく、かつ、感度が良好な変換パネルを、安定して製造することを可能にする。 - 特許庁

To provide a film forming material (vapor deposition material) for forming a protective layer of an excellent plasma display panel, to achieve the plasma display panel for displaying an excellent image.例文帳に追加

本発明は、良好なプラズマディスプレイパネルの保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルの実現を可能とする成膜材料（蒸着材料）を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a drying method of a work wherein deposition of particles is prevented when the work is dried, and components in liquid are not left on the work, as gas or material of high vapor pressure after drying.例文帳に追加

ワークの乾燥時にパーティクルの付着を防止するとともに、乾燥後にガスあるいは蒸気圧の高い物質として液中成分がワークに残ることがないワークの乾燥方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The method includes the process in which, after forming a fluid polymerized film into a gap by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method, an in-situ treatment to convert the film to a dielectric material is performed.例文帳に追加

間隙に流動性重合膜をプラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）法によって形成した後で、当該膜を誘電材料に変換するためのインサイチュ（ｉｎ−ｓｉｔｕ）処理を実行することを含む。 - 特許庁

To reduce manufacturing cost of a light-emitting device having a layer containing an organic compound by increasing a utilization efficiency of a vapor deposition material and reduce a manufacturing time required for manufacturing the light-emitting device.例文帳に追加

蒸着材料の利用効率をたかめ、有機化合物を含む層を有する発光装置の製造コストを低減するとともに、発光装置の製造に要する製造時間を短縮させることを課題とする。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device which can carry out a high-contrast display by preventing a contrast ratio from decreasing owing to the formation of no alignment film in an area in a shadow when an alignment film is formed by oblique vapor deposition.例文帳に追加

斜方蒸着により配向膜を形成する際に、陰となる領域に配向膜が形成されないことに起因するコントラスト比の低下を防止して、高コントラスト表示ができる液晶装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of precipitating a material on a long-size, nonflat, flexible, filament-shaped base material by a physical vapor deposition method and also capable of forming a fine structure by using lithography and to provide a device therefor.例文帳に追加

長尺の平坦でない可撓性フィラメント状基材上に物理蒸着法により材料を析出可能な、かつリトグラフィー技術を用いて微細構造体を形成可能な方法と装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the focusing ring 1, which is used for the plasma device, is a method wherein the ceramic film 3 is formed on a circular ring-shaped base material 2 by the chemical vapor deposition method to manufacture the ring 1.例文帳に追加

および、プラズマ装置に用いられるフォーカスリングの製造方法において、円環状の基材に化学気相蒸着法によってセラミック被膜を成膜してフォーカスリングを製造するフォーカスリングの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for removing any abnormal product of a vapor growth device capable of removing abnormal control in a short time only by a simple removing treatment even when abnormality caused by the product occurs during the film deposition on a substrate in a reaction chamber.例文帳に追加

反応室内で基板に成膜を行っている最中に生成物による異常が発生しても、簡単な除去処理のみで短時間に生成物除去を行うことができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetron sputtering system in which a vapor deposition rate is high, a multi-element thin film is deposited at a high speed, the composition control of the film is flexible, a denser multi-element thin film is easily covered at a high speed, and, moreover, maintenance is easy.例文帳に追加

蒸着速度が早く、多元素薄膜を高速で成膜し、膜の組成制御がフレキシブルで、より緻密な多元素薄膜を高速で容易に被覆し、さらにはメンテナンスの容易なマグネトロンスパツタ装置を提供。 - 特許庁

A holding mechanism 20 has a rotating mechanism 21 which holds a translucent substrate 13 in a facing manner to the first and second vapor deposition sources 3 and 4, and rotates the translucent substrate 13.例文帳に追加

保持機構２０は第１，第２の蒸着源３，４に対して透光性基板１３が対向する状態にて保持するとともに、透光性基板１３を回転可能とする回転機構２１を備えている。 - 特許庁

A metal film 1 is formed on the back of the conductive SiC substrate 2 doped with impurities by vapor deposition or sputtering by selecting one metal from Ni, Ti, Pd, Fe, Ru, Os, Ge, Sn, V, Ta, and Nb.例文帳に追加

不純物がドープされた導電性ＳｉＣ基板２の裏面に、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｄ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｖ、Ｔａ、Ｎｂから一つの金属を選んで蒸着、もしくはスパッタで金属膜１を形成する。 - 特許庁

The manufacturing apparatus is equipped with a cleaning means for supplying a cleaning medium for removing an alignment layer material 18 sticking on the shield plate 4 to nearby the opening portion 12 of the shield plate 4 on the side of the vapor deposition means.例文帳に追加

遮蔽板４に付着した配向膜材料１８を除去するためのクリーニング媒体を、遮蔽板４の蒸着手段側における開口部１２近傍に供給する、クリーニング手段５が備えられている。 - 特許庁

The translucent thin film is obtained by depositing the silicon dioxide film by an arc plasma enhanced vapor-deposition method using a pressure gradient type plasma gun.例文帳に追加

二酸化珪素膜がアルゴンを含有し、含有されるアルゴンの量が、原子の数の比で、珪素の１００に対してアルゴンの１〜１０である、二酸化珪素膜を、圧力勾配型プラズマガンを用いたアークプラズマ蒸着法で成膜する - 特許庁

To provide a wafer with a tapered edge of an improved manufacturing yield for film forming in a semiconductor manufacturing process, by chemical vapor deposition (CVD), impurity diffusion, annealing, epitaxial growth, or other processes.例文帳に追加

半導体製造工程に於いてウェーハに化学的気相成長（ＣＶＤ）、不純物拡散、アニール、エピタキシャル成長、その他の処理を成膜する場合、製造歩留まりを向上させるエッジがテーパー状のウェーハを提供する。 - 特許庁

The impurity diamond is formed by microwave plasma chemical vapor deposition inputting microwaves of 50 kW or higher in a reaction chamber wherein the gas pressure is adjusted at a constant level within a range of 80 to 150 Torr.例文帳に追加

不純物ダイヤモンドは、５０ｋＷ以上のマイクロ波を、ガス圧を８０〜１５０Ｔｏｒｒの範囲内の一定値に調整した反応室に投入するマイクロ波プラズマ化学気相蒸着法により形成される。 - 特許庁

To provide a film forming material (vapor deposition material), for forming a protective layer of an excellent plasma display panel, to achieve the plasma display panel for displaying an excellent image.例文帳に追加

本発明は、良好なプラズマディスプレイパネルの保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルの実現を可能とする成膜材料（蒸着材料）を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

A vapor deposition material 25 is arranged on a cooling electrode 23, a refrigerant is made to flow in a circulation pipe 30 in a supporting electrode 22 and to circulate in the cooling electrode 23, so that the surface is not melted.例文帳に追加

蒸着材料２５を、冷却電極２３上に配置し、支持電極２２内の循環パイプ３０内に冷媒体を流し、冷却電極２３内を循環させ、表面が溶融しないようにする。 - 特許庁

To provide a vapor phase deposition apparatus which forms wiring having stress and resistivity which are sufficiently controlled not to be increased, on a base substance, as well as sufficiently controls the generation of particles.例文帳に追加

パーティクルの発生を十分に抑えることができると共に、ストレス及び抵抗率の増大が十分に抑制された配線を基体上に形成できる気相堆積装置を提供することを目的の一つとする。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system, an evaporation material scraping device and an evaporation material feeder, capable of stably feeding an evaporation material into an evaporation source device.例文帳に追加

本発明の目的は，蒸着材料を蒸発源装置に安定供給することができる蒸着装置および蒸着材料擦り切り装置並びに蒸着材料供給装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a vapor deposition device which extends an exchange cycle by preventing the local deterioration of a silica protection member and which makes the exchange of a thermocouple easy and a method of manufacturing a silicon epitaxial wafer using the same.例文帳に追加

石英製保護部材の局所的劣化を防止することで交換サイクルを延ばし、さらに、熱電対の交換が容易な気相成長装置及びそれを用いたシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

Since alignment is performed in a self-aligned manner, no misalignment occurs, and the oblique vapor deposition layer precursor 18a' can be removed with high shape accuracy to prevent display unevenness in the liquid crystal device.例文帳に追加

自己整合的に位置合わせが行えるため、アライメントずれ等が発生せず、高い形状精度を持った状態で斜方蒸着層前駆体１８ａ’を除去でき、液晶装置の表示むらが抑えられる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an epitaxial substrate and a vapor phase growth system which suppress the deposition of indium contained particles on a surface of a film of a group III nitride containing indium.例文帳に追加

インジウムを含有するIII族窒化物の膜の表面にインジウムを含有するパーティクルが付着することを抑制することができるエピタキシャル基板の製造方法及び気相成長装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a polyester-based laminated film and a vapor deposition film using the polyester-based laminated film excelling in gas barrier property and also excelling in flatness and interlayer adhesion force in spite of laminating different polyester.例文帳に追加

本発明の目的は、ガスバリア性に優れ、異なるポリエステルを積層しているにも関わらず平面性及び層間接着力に優れるポリエステル系積層フィルム、及びそれを用いた蒸着フィルムを提供することである。 - 特許庁

After a vacuum vapor-deposition device coats a surface of an original diffraction grating 1 with a release agent 2, an LiF film 7, and an Al film 3 successively in order, a replica substrate 5 is fixed to the Al film 3 across resin 4.例文帳に追加

オリジナル回折格子１の表面に真空蒸着装置によって、離型剤２、ＬｉＦ膜７、Ａｌ膜３を順次連続的に被覆した後、Ａｌ膜３に樹脂４を介してレプリカ基板５を固着する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin composition suitably employed as a material for a vehicle lamp, and an improved housing part for a vehicle lamp which dispenses with an undercoat treatment in a preparatory step for aluminum vapor deposition.例文帳に追加

車両灯具用材料として好適に使用できる熱可塑性樹脂組成物、アルミニウム蒸着処理の準備工程でのアンダーコート処理を省略できる改良された車輌灯具用のハウジング部品の提供。 - 特許庁

To improve the workability of a film structure having silicon carbide film while making good use of the properties of the silicon carbide film deposited by chemical vapor deposition (CVD), that is, denseness and high corrosion resistance.例文帳に追加

炭化珪素膜を有する被膜構造体において、緻密質であって高い耐蝕性を有するという、化学的気相成長法によって生成した炭化珪素膜の特性を生かしつつ、その加工性を改善する。 - 特許庁

To provide a metal-organic vaporizing and feeding apparatus which can be simplified, metal-organic chemical vapor deposition apparatus, gas flow rate regulator, semiconductor manufacturing apparatus, and semiconductor manufacturing method.例文帳に追加

装置の簡素化を図ることのできる有機金属気化供給装置、有機金属気相成長装置、有機金属気相成長方法、ガス流量調節器、半導体製造装置、および半導体製造方法を提供する。 - 特許庁

An unjoined first resin layer is provided from the pellet using an extrusion machine, and an unjoined second resin layer having a metal film layer formed by applying vapor deposition to a metal and the metallic luster is heated and pressurized.例文帳に追加

次いで、このペレットを押出成形機にて未接合第１樹脂層を得ると同時に、金属を蒸着して形成された金属膜層を備え、金属光沢を有する未接合第２樹脂を加熱及び加圧する。 - 特許庁

When depositing an amorphous silicon carbide film on a substrate by using raw material gas containing silicon compounds by a microwave plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) method, negative high frequency bias voltage (-V_RF) is continuously applied to the substrate.例文帳に追加

マイクロ波プラズマＣＶＤ法によりケイ素化合物を含む原料ガスを用いて基板上にアモルファス炭化ケイ素膜を形成する際に、基板に負の高周波バイアス電圧（−Ｖ_ＲＦ）を連続的に印加する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device and its manufacturing method to enable strong bonding between a wiring layer and an underlying anti-diffusion layer (barrier layer), even when the wiring layer is formed by chemical vapor deposition(CVD).例文帳に追加

化学気相蒸着（ＣＶＤ）によって配線層を形成する場合においても、該配線層を下地の拡散抑制（バリヤ）層と強固に接合することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

As for this vapor deposition device 10, the inside of the main anode electrode 11 is provided with auxiliary anode electrodes 131 to 133, and, in small partitions 141 to 143 formed thereby, cathode electrode members 121 to 123 are respectively arranged.例文帳に追加

この蒸着装置１０は、主アノード電極１１内に補助アノード電極１３_1〜１３_3が設けられ、それらによって形成された小区画１４_1〜１４_3内にそれぞれカソード電極部材１２_1〜１２_3が配置されている。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT, METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION DEVICE, SURFACE LIGHT-EMITTING TYPE SEMICONDUCTOR LASER ELEMENT FORMED BY USING THEM, AND OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM USING THE LASER ELEMENT例文帳に追加

半導体発光素子の製造方法および有機金属気相成長装置、ならびにこれらを用いて形成した面発光型半導体レーザ素子、該面発光型半導体レーザ素子を用いた光通信システム - 特許庁

Commercial qualities of the granular silicon can be produced by depositing silicon on silicon seeds in a first chemical vapor deposition (CVD) reactor, thereby growing the seeds into larger secondary seeds.例文帳に追加

第１の化学気相蒸着（ＣＶＤ）反応装置内で、シリコン・シードにシリコンをデポジットさせ、それによってシードをより大きな二次シードに成長させて、商業的品質の顆粒状シリコンを製造することができる。 - 特許庁

To provide a graft copolymer that is obtained in high productivity with reduced amount of fine particles and can give a thermoplastic resin composition having excellent weather resistance, high brightness after direct vapor deposition and vibration welding.例文帳に追加

微粒子量が少なく、高い生産性で得られ、しかも、耐候性とダイレクト蒸着後の光輝性と振動溶着性に優れた熱可塑性樹脂組成物を得ることが可能なグラフト共重合体を提供する。 - 特許庁

A branch piping part 3 having an opening part 3a directed in the substrate direction and a branch piping part 4 having an opening part 4a not directed in the substrate direction are connected to a container 1 for evaporating a vapor deposition material 2.例文帳に追加

蒸着材料２を蒸発させる容器１に、基板方向に向いた開口部３ａを有する分岐配管部３と、基板方向に向かない開口部４ａを有する分岐配管部４を接続する。 - 特許庁

To provide a plastic film laminate for a packaging material excelling in appearance design with film configuration having a PET film, a metal vapor deposition layer or metal foil, heretofore difficult with a solventless adhesive.例文帳に追加

従来、無溶剤型接着剤では困難であった、ＰＥＴフィルム／金属蒸着層又は金属箔を有するフィルム構成で、外観の意匠性に優れる包装材料用のプラスチックフィルム積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a method for polymerizing vinyl monomers containing an acrylic ester by which deposition of polymeric scales on the inner wall of a vapor phase part of a polymerizer can effectively be prevented and a high- quality product can be obtained with good productivity.例文帳に追加

重合器の気相部内壁への重合体スケールの付着を効果的に防止し、生産性よく高品質の製品を得ることができるアクリル酸エステルを含むビニル単量体の重合方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor ceramic element having favorable heat resistance and a negative temperature characteristic of resistance with a small long-term resistance change by stabilizing a thin film formed for use in an electrode by a vapor deposition or sputtering method.例文帳に追加

蒸着やスパッタリング法で電極用として形成された薄膜を安定化させ、耐熱性がよく、長期にわたる抵抗変化が小さな負の抵抗温度特性を有する半導体セラミック素子を得る。 - 特許庁

To realize a series of steps by setting an aluminum vapor deposition film depositing step and a plasma polymerized film depositing step in a line, and to prevent a protective film (a silicone polymerized film) from being formed on a back side of a reflector base material.例文帳に追加

アルミニウム蒸着膜形成工程とプラズマ重合膜形成工程をライン化して一連の工程とすること、リフレクタ基材の背面に保護膜（シリコーン重合膜）が形成されないように工夫すること。 - 特許庁

To prevent the falling-off of silicon metal from the region, at the surface of a substrate, free from film deposition in depositing a film by vapor growth method on the surface of a substrate composed of an SiC/Si composite material.例文帳に追加

Ｓｉ−ＳｉＣ複合材料からなる基体の表面に気相成長法によって膜を形成するのに際して、基体の表面のうち膜を形成しない領域からの珪素金属の抜けを防止する。 - 特許庁