「Vapor Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(84ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an in-situ growth method of a polycrystalline thin film permitting the growth of a polycrystalline Si thin film without a separate post-annealing process and dehydrogenation process by using a catalytic chemical vapor deposition apparatus.例文帳に追加

触媒化学気相蒸着装置を利用して別途の後熱処理工程及び脱水素工程なしにも多結晶質Ｓｉ薄膜の成長が可能になるようにした多結晶質薄膜のインサイチュー成長方法を提供する。 - 特許庁

In a process for manufacturing a stamper, as a conductive layer, the composition ratio of a buffer agent to a conductive material is reduced from an original disk side to the thickness direction and the conductive layer having an irregular pattern is formed by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

スタンパの製造工程において、導電層として、導電物質に対する緩衝剤の組成比が原盤側から厚さ方向に減少し、かつ凹凸パターンを有する導電層を、化学気相成長法を用いて形成する。 - 特許庁

The film capacitor 10 includes a capacitor element 11, 21, 31 formed by superposing a pair of metallized films 12, 12, having metal films 13 formed by vapor deposition, on top-side surfaces of a pair of superposed films 16, 16, the capacitor element 11, 21, 31 being wound.例文帳に追加

フィルムコンデンサ（10）は、重畳した一対のフィルム（16,16）のそれぞれの表側の表面に金属膜（13）が蒸着形成された一対の金属化フィルム（12,12）を重ね合わせたコンデンサ素子（11,21,31）を備え、コンデンサ素子（11,21,31）が巻回して形成される。 - 特許庁

In the assembled layer of the nano structures 13, the vapor deposition material and air are mixed at a fixed rate as the whole thin film 11 and the refractive index of the whole thin film 11 is determined by the rate (film packing density of the thin film).例文帳に追加

また、ナノ構造体１３の集合層は、薄膜１１全体として、蒸着材料と空気とが一定割合で混合しており、この割合（薄膜の膜充填密度）により、薄膜１１全体の屈折率が決定される。 - 特許庁

To provide technology of preventing deposition of a solid source material on an inner wall of a vaporization chamber upon vaporizing a source solution by use of an extremely simple heater structure in a vaporizer that vaporizes the source solution and supplies the vapor to the reaction chamber.例文帳に追加

原料溶液を気化して反応室に供給する気化器において、原料溶液を気化させるときに固体原料が気化室内壁に付着するのを、極めて簡単なヒータ構造により防止する技術を提供する。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescent device manufactured by a manufacturing method that improves luminous efficiency and is simplified without depending on a high vacuum thin-film forming technology such as a vapor deposition method or a sputtering method.例文帳に追加

発光効率を向上させ、かつ蒸着法やスパッタ法等の高真空薄膜形成技術によらず簡略化された製造方法により作製された有機エレクトロルミネッセント素子を提供することを課題とすることを目的とする。 - 特許庁

A blue luminous layer 16CB consisting of a low molecule material is formed by a vapor deposition method on the whole surface of the red luminous layer 16GR, the green luminous layer 16CG, and the hole transporting layer 16BB for the blue organic EL element 10B.例文帳に追加

赤色発光層１６ＣＲ，緑色発光層１６ＣＧおよび青色有機ＥＬ素子１０Ｂ用の正孔輸送層１６ＢＢの全面に低分子材料よりなる青色発光層１６ＣＢを蒸着法により形成する。 - 特許庁

To provide a technique for controlling a residual carrier to low concentration without changing characteristics of a semiconductor thin film when epitaxially growing the semiconductor thin film on a semiconductor substrate by an MBE (Molecular Beam Epitaxy) method or an MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) method.例文帳に追加

ＭＢＥ法又はＭＯＣＶＤ法により半導体基板上に半導体薄膜をエピタキシャル成長させる際に、半導体薄膜の特性を変えることなく、残留キャリアを低濃度に制御する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation image conversion panel having a phosphor layer formed by a vapor phase deposition method, which is free from color due to a free element in phosphor and has a high sensitivity, and to provide a method of manufacturing a radiation image conversion panel.例文帳に追加

気相堆積法によって形成された蛍光体層を有する放射線像変換パネルであって、蛍光体の遊離元素に起因する着色の無い、高感度な放射線像変換パネルおよび製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a metal thin film consisting of large single crystal grains, in which the ratio of the thickness of the thin film to the grain size exceeds 50, independently from the kind of a substrate or a specific vapor deposition process.例文帳に追加

基板の種類とか、特定の蒸着方法に依存しなくても、平均金属薄膜の粒子大きさに対する厚さの比が５０を超える単結晶巨大粒子からなる金属薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a plasma chemical vapor deposition device, at least a part of the surface shape of a cathode 2 provided in a reaction chamber is made into the one consistent with the surface shape of automotive plastic parts 10 such as head lump lenses.例文帳に追加

プラズマ化学蒸着装置において、反応室内１に設けられたカソード２の少なくとも一部の表面形状は自動車用ヘッドランプレンズ等のプラスチック部品１０の表面形状に一致した表面形状とする。 - 特許庁

To provide an optical information recording medium having an inorganic recording layer formed by a sputtering or a vapor deposition by solving defects that it is low yield and impossible to tracking in a single sided two-layer DVD-R disk.例文帳に追加

片面２層DVD-Rディスクにおける低歩留まりとトラッキングできない等の欠点を解決し、スパッタリングまたは蒸着によって形成された無機記録層を有する、光情報記録媒体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In several aspects of the method, a thin-film oxide layer is superposed on the second silicon layer oxidized and formed by a high-density plasma excitation chemical vapor deposition treatment and the inductively coupled plasma source at a temperature lower than 400°C.例文帳に追加

この方法のいくつかの局面において、薄膜酸化物層は、酸化された第２のシリコン層の上に重なり、４００℃未満の温度で、高密度プラズマ励起化学蒸着処理および誘導結合プラズマソースによって形成される。 - 特許庁

In a method for manufacturing a stimulable phosphor plate, the stimulable phosphor layer 3 is formed on a prescribed substrate 2 by a well-known vapor phase deposition method at first and then the layer 3 is irradiated with microwaves.例文帳に追加

本発明に係る輝尽性蛍光体プレートの製造方法では、始めに、周知の気相堆積法により所定の基板２上に輝尽性蛍光体層３を形成し、その後輝尽性蛍光体層３にマイクロ波を照射する。 - 特許庁

The sunshine shielding film is formed by laying, on one surface of a polyester film, an aluminum vapor deposition layer having a visible light transmittance of 15-75% and a hard coat layer in the order and providing an adhesive agent layer on its opposite surface.例文帳に追加

ポリエステル系フィルムの一方の面に、可視光線透過率が１５〜７５％のアルミニウム蒸着層及びハードコート層が順に積層され、かつその反対面に粘着剤層が設けられてなる日射遮蔽フィルムである。 - 特許庁

To provide a plastic film which is excellent in gas-barrier properties after vapor deposition by having excellent adhesion to an inorganic oxide layer and which does not deteriorate the adhesion and the gas-barrier after the filling of contents, and a package using the plastic film.例文帳に追加

無機酸化物層との優れた接着性を有し、それにより蒸着後のガスバリア性に優れ，かつ、内容物充填後による接着性，ガスバリア性が悪化しないプラスチックフィルムおよびその包装体を提供すること。 - 特許庁

The method for manufacturing the ultrafine particles includes a process for applying a target substance on the surface of a flowing liquid by vapor deposition to obtain a liquid containing particles, and a process for substituting the liquid with a solvent to obtain the particles.例文帳に追加

流動する液面上へターゲット物質を蒸着させて粒子を含有する液体を得る工程、および、該液体を溶媒に置換して粒子を得る工程を含むことを特徴とする超微粒子の作製方法。 - 特許庁

To provide an oblique vapor deposition film element which does not cause decrease in qualities such as decrease in transmittance for rays and changes in retardation when the element is used as a phase difference element and which can be extremely easily and efficiently manufactured.例文帳に追加

位相差素子として用いた場合に、光線透過率の低下、リターデイション値の変化など、品質の低下を引き起こすことがなく、しかも、極めて簡単にかつ効率良く製造することのできる斜め蒸着膜素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical fiber preform free from unsintered parts or air bubbles, in which an inside chemical vapor-phase deposition (CVD) method using a plasma burner as a heat source is utilized, and by which a wide heating width can be obtained while keeping the maximum temperature of a starting pipe low.例文帳に追加

プラズマバーナを熱源とした内付けＣＶＤ法を用いて、出発パイプの最高温度を低く保ちつつ、広い加熱幅を得ることが可能で、未焼結や気泡のない光ファイバ母材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask for vapor deposition which permits use of a thin metallic sheet, makes it possible to obtain high working accuracy, is excellent in workability, and can reproduce pattern dimensions accurately as designed.例文帳に追加

厚みの薄い金属薄板材を使用することが可能で、高い加工精度が得られ、作業性も良好であり、設計通りのパターン寸法を精度良く再現することができる蒸着用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a product causing no problem consequent on aluminum vapor deposition and being free of sticking of dirt from the hands, fat, dust or the like to a dent-shaped emblem and occurrence of a defective due to the sticking.例文帳に追加

凹凸プラスチック樹脂成形でなる車輌用エンブレム品において、アルミ蒸着に伴う問題を生じず、また凹形エンブレムへの手垢、脂肪、埃等の付着と、この付着に基づく不良品の発生のない製品を提供する。 - 特許庁

A processing apparatus 1 as the vapor deposition apparatus comprises a susceptor 5, a reaction tube 3, a cooling member (a gap between an outer periphery member 6 and an inner periphery member 8 of an upper wall 4 of the reaction tube, and a cooling material 10), and a heater 9.例文帳に追加

気相成長装置としての処理装置１は、サセプタ５と反応管３と冷却部材（反応管上壁４の外周部材６と内周部材８との間の間隙および冷却材１０）とヒータ９とを備える。 - 特許庁

To provide a method for producing a multilayer thin film capable of easily making its quality to the high one by stabilizing the flow rate of 2nd gas in a chemical vapor deposition method in which the 2nd gas is intermittently mixed at the time of film formation by a 1st gas.例文帳に追加

第１ガスによる成膜時に第２ガスを間欠的に混合する化学蒸着法において、第２ガスの流量を安定化させて容易に高品質化できる多層薄膜の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a method of manufacturing a piezoelectric film 17 as the dielectric film, a first piezoelectric film 15 to be preferentially oriented to (002) is first formed on a lower electrode layer 14 preferentially oriented to (002) using a sputtering method or an MOCVD (metal organic chemical vapor deposition) method.例文帳に追加

圧電体膜１７の製造方法は、まず、（００２）に優先配向された下部電極層１４上に、同じ（００２）に優先配向する第１圧電体膜１５をスパッタ法又はＭＯＣＶＤ法を用いて形成する。 - 特許庁

The hard material is produced by using a plasma-enhanced chemical vapor deposition method by pulse discharge, and subjecting the oxide of at least one of elements selected from B, Ti, W, and Si to hydrogen reduction, then to nitriding, carbonizing or carbonitriding.例文帳に追加

硬質物質は、パルス放電によるプラズマ化学気相成長法を用いて、Ｂ、Ｔｉ、ＷおよびＳｉから選択される少なくとも１種の元素の酸化物を水素還元し、窒化、炭化または炭窒化させることにより製造される。 - 特許庁

Argon gas and gas containing carbon is mixed with each other and introduced from a gas inlet 11, the bias voltage is applied to the rotary shaft 10, the voltage of a sputter power source 17 is applied to the vapor deposition source 15 to generate plasma in the vacuum tank 13.例文帳に追加

ガス導入口１１からアルゴンガスと炭素を含むガスを混合し導入し、その後、回転軸１０にバイアス電圧を印加し、蒸発源１５にはスパッタ電源１７を印可し、真空槽内１３にプラズマを発生させる。 - 特許庁

The gas-barrier substrate has a base, a flattening layer formed on the base and the gas-barrier layer of a vapor deposition film formed on the flattening layer.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成された平坦化層と、前記平坦化層上に形成された蒸着膜からなるガスバリア層とを有することを特徴とするガスバリア性基板を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum vapor deposition apparatus having a mask pattern forming machine which facilitates the pressure adjustment of a print roller and a backup roller and improves the productivity by increasing the operational speed with less unclear pattern or less wear/breakage of projecting parts.例文帳に追加

印刷ローラとバックアップローラの押し圧調整を容易にし、パターンの不鮮明や凸部の磨耗破損の少ない、かつ、高速化により生産性向上が可能なマスクパターン形成機を設けた真空蒸着機を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the hard carbon film sliding member comprises forming the hard carbon film of ≤0.5at% in the content of the hydrogen atoms in the sliding area of the sliding member composed of steel as the base material by a PVD (Physical Vapor Deposition) method.例文帳に追加

硬質炭素被膜摺動部材の製造方法では、鋼材を基材とする摺動部材の摺動部位に、水素原子の含有量が０．５原子％以下の硬質炭素被膜をＰＶＤ法（物理気相堆積法）により形成する。 - 特許庁

To prevent a reduction in a production yield due to deposition of a flake of a reaction product to a substrate or to a compound semiconductor layer on the substrate in manufacturing of a compound semiconductor using a metal organic vapor phase epitaxy.例文帳に追加

有機金属気相成長法を用いた化合物半導体の製造において、剥がれた反応生成物が基板または基板上の化合物半導体層上に付着することに起因する歩留まりの低下を抑制する。 - 特許庁

A method of manufacturing the semiconductor device includes a step of depositing a hole forming agent-containing film having a plurality of regions differing in carbon concentration, hole forming agent concentration, and oxygen concentration, on a semiconductor substrate by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

半導体基板の上に、化学気相成長法により、炭素濃度、空孔形成剤濃度及び酸素濃度がそれぞれ異なる複数の領域を有する空孔形成剤含有膜を形成する工程を備えている。 - 特許庁

The hydrogen storage material is obtained by placing the hydrogen storage alloy in an atmosphere to be heated, supplying a carbon source gas and growing the CNT from the surface of the hydrogen storage alloy by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

そして、この水素吸蔵材は、加熱雰囲気下に水素吸蔵合金を配置するとともに炭素源ガスを供給し、化学的気相合成法により水素吸蔵合金の表面からカーボンナノチューブを成長させることで得られる。 - 特許庁

When this electromagnetic wave shielding material 20 is to be manufactured, first the transparent base 21 is prepared, many first linear metal layers 22A arranged in one direction are formed on this transparent base 21 through mask vapor deposition.例文帳に追加

この電磁波シールド材２０を製造する場合、まず透明基材２１を準備し、この透明基材２１上に、マスク蒸着により、一方向に並ぶ直線状の多数の第１直線状金属層２２Ａを形成する。 - 特許庁

The metal or metal compound coated optical fiber can be obtained by coating at least part of a coated optical fiber at a joining end with a coating material containing a metal or metal compound by using a vacuum arc vapor deposition process.例文帳に追加

真空アーク蒸着法を用いて、接合端部の光ファイバ芯線の少なくとも一部を金属または金属化合物を含む被覆材で被覆することによって得ることのできる金属または金属化合物被覆光ファイバ。 - 特許庁

The electron emitting source is an electron gun for an electron beam vapor deposition device, an electron beam welding device, or an electron beam machining device formed of carbide of one or more kinds of metal elements selected from a group composed of Ta, Hf, Nb, and Zr.例文帳に追加

本発明は、Ｔａ、Ｈｆ、Ｎｂ、及びＺｒからなる群の１種以上から選ばれた金属元素の炭化物からなる、電子ビーム蒸着装置、電子ビーム溶接装置、又は電子ビーム加工装置用の電子銃である。 - 特許庁

Further, each film thickness of the antireflection film 50 is thin, therefore, the temperature rising of the base body upon film forming hardly occurs and, thereby, the antireflection film can be satisfactorily formed on the base body made of synthetic resin by using a vacuum vapor deposition method.例文帳に追加

また、反射防止膜５０の各膜厚が薄いため成膜時の基体の温度上昇が少く、真空蒸着法を用いて合成樹脂製の基体に反射防止膜を良好に成膜することが可能となる。 - 特許庁

A vapor deposition equipment 10 includes: a globe box 12 filled with the nitrogen gas; and a reactor vessel 14, disposed in the globe box 12, for forming a compound layer on a substrate 13 by an epitaxial growth method.例文帳に追加

気相成長装置１０は、窒素ガスが充填されたグローブボックス１２と、このグローブボックス１２内に配置された、エピタキシャル成長法により基板１３上に化合物層を形成するための反応容器１４を備えている。 - 特許庁

A shield 46 in a PVD (physical vapor deposition) vacuum processing chamber 30 is constituted so that generation of particles due to peeling off from the shield 46 and from arcing between a biased target and surrounding grounded pieces is reduced or prevented.例文帳に追加

シールド４６からおよび、バイアスのかかったターゲットと周囲の接地部材との間のアークからの剥離による粒子の発生を低減または防止する構成を有する、ＰＶＤ真空プロセスチャンバ３０内のシールド４６を開示する。 - 特許庁

To provide a film forming material (vapor deposition material), from which a protective film of a plasma display panel is successfully formed to achieve a plasma display panel performing a satisfactory image display.例文帳に追加

本発明は、プラズマディスプレイパネルの保護層を良好に形成することを可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルを実現することを可能とする成膜材料（蒸着材料）の提供を目的とするものである。 - 特許庁

Joule heat generated in the electrode pattern 11 vaporizes the vapor deposition material 12, the vaporized material is deposited on the surface facing the substrate 30 to form a thin film 31 of the pattern shape corresponding to the electrode pattern 11.例文帳に追加

これにより、電極パターン１１において発生するジュール熱が蒸着材料１２を蒸発させ、これが基板３０の対向面に蒸着し、電極パターン１１に対応したパターン形状の薄膜３１が形成される。 - 特許庁

To provide a carrying apparatus carrying electronic parts such as a crystal element, a ceramic element and a semiconductor device when treatment such as vapor deposition and sputtering is performed thereto, and to provide a method for producing the carrying apparatus.例文帳に追加

本発明は、水晶素子、セラミック素子、半導体素子等の電子部品に対して、たとえば、蒸着またはスパッタ等の処理を行う際にこれらを搬送する搬送装置および搬送装置の作製方法に関するものである。 - 特許庁

In the radiographic image conversion panel with a fluorescent layer formed by a vapor deposition sedimentation method, the fluorescent layer consists of an europium activated cesium bromide stimulable phosphor having a basic composition formula (I).例文帳に追加

気相堆積法により形成された蛍光体層を有する放射線像変換パネルであって、該蛍光体層が、基本組成式（Ｉ）を有するユーロピウム付活臭化セシウム系輝尽性蛍光体からなる放射線像変換パネル。 - 特許庁

The producing method of the antibacterial polymer comprises a vapor deposition polymerization of a gas obtained by vaporizing the diaminobenzoic acid monomer or the halogen element-containing diamine monomer and a gas obtained by vaporizing the monomer which can react with the former monomers on the surface of the article to be deposited in vacuum.例文帳に追加

ジアミノ安息香酸モノマー又はハロゲン元素含有ジアミンモノマーを蒸発させて得たガスと、これらのモノマーと反応し得るモノマーを蒸発させて得たガスとを、真空中で物品表面上で蒸着重合させる。 - 特許庁

To prevent the covering of a fuel electrode caused by carbon deposition or drop in activity in a solid oxide fuel cell for generating electric power by reforming mixed gas containing organic material fuel and water vapor.例文帳に追加

有機物燃料と水蒸気とを含む混合ガスを改質して発電を行うための固体電解質型燃料電池セルにおいて、炭素析出による燃料極の被覆や活性低下を防止できるようにすることである。 - 特許庁

To provide a method for forming an ohmic layer by plasma chemical vapor deposition(PCVD) which can improve resistivity characteristics and the problem that the surface of a semiconductor substrate is damaged, when titanium silicide is formed as an ohmic layer.例文帳に追加

オーミック層としてチタンシリサイドを形成する時、抵抗率特性、および半導体基板表面に損傷が生じる問題点を改善することができるプラズマ化学蒸着（ＰＣＶＤ）によるオーミック層形成方法を提供する。 - 特許庁