「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(295ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a composition which is a water-based herbicide composition containing sodium salt of N-phosphonomethylglycine and sodium salt of 2,2,3,3-tetrafluoropropionic acid in a herbicidally effective mixing ratio and which does not undergo crystal deposition even at low temperatures to thereby show excellent stability during production and storage.例文帳に追加

Ｎ−ホスホノメチルグリシンのナトリウム塩および２，２，３，３−テトラフルオロプロピオン酸のナトリウム塩を除草効果を示すことができる配合割合で含む水性除草剤組成物であって、低温でも結晶析出を起こさず、製造時および保存時安定性に優れた組成物を提供する。 - 特許庁

The gas-sealed bag made by superimposing a plastic film, sealing a peripheral rim section with heat deposition or the like and enclosing the gas inside has a triangular prism configuration which makes the bottom an isosceles triangle Q and is the gas-sealed bag 10' of which the face meeting its apex angle is empty.例文帳に追加

プラスチックフィルムを重ね合わせ、周縁部を熱溶着等により密閉し、内部に気体を封入してなる気体密封袋において、底面を二等辺三角形Ｑとする三角柱形状を有し、その頂角と対面する面が空いている気体密封袋１０′である。 - 特許庁

That is to say, the manufacturing method of the organic light emitting element comprises a process of heating the alkali metal containing cesium carbonate or the like by 8 wt.% or less at a temperature of 400°C or less, and forming a film at a rate of 0.1 Å/sec. or less by vapor deposition.例文帳に追加

すなわち炭酸セシウム等のアルカリ金属の濃度をアルカリ金属として８重量％以下とし、４００℃以下の加熱温度、毎秒０．１Å以下の成膜レートで蒸着する工程を有することを特徴とする有機発光素子の製造方法を用いる。 - 特許庁

To provide a processing method for a silver halide photographic sensitive material by which the amount of effluent can be reduced by reusing a used photographic solution at a high regeneration rate, and which is not accompanied by adverse effects such as faulty desilvering, deposition of crystals and deterioration of image preservability.例文帳に追加

写真廃液を高い再生率で再利用することによって廃液量を低減することができて、しかも脱銀不良、結晶の析出、画像保存性の悪化などの悪影響を伴わないハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供すること。 - 特許庁

This release film for molding FRP by a lamination pressing process which has a metallic vapor deposition layer on one surface of a polyester film and a silicone resin layer with 0.04 to 0.5 g/m^2 amount of coating after drying formed on the other surface and not more than 10% whole light transmission.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの片面に金属蒸着層を有し、もう一方の面に、乾燥後の塗布量が０．０４〜０．５ｇ／ｍ^２となるようにシリコーン樹脂層が設けられたフィルムであり、全光線透過率が１０％以下であることを特徴とする積層プレス法ＦＲＰ成形用離型フィルム。 - 特許庁

To provide an ion plating apparatus which can form a film having stable film characteristics on a workpiece by suppressing the re-vaporization of a formed film deposit which has been deposited on a hearth by the vaporization of a film material, or suppressing the deposition of a formed film deposit on the hearth, and to provide a film-forming method.例文帳に追加

膜材の気化によりハースに付着した成膜堆積物の再気化を抑制、または成膜堆積物がハースに堆積するのを抑制して、ワークに安定した膜特性を有する被膜を成膜することができるイオンプレーティング装置および成膜方法を提供すること。 - 特許庁

In the method of manufacturing the diaphragm, a first thin film is formed by deposition, a second thin film whose internal stress differs from the internal stress of the first thin film is formed, and the internal stress of diaphragm composed of multiple films having the first and the second thin films is adjusted.例文帳に追加

第一の薄膜を堆積により形成し、前記第一の薄膜と内部応力が異なる第二の薄膜を形成することにより前記第一の薄膜と前記第二の薄膜とを有する複層膜からなるダイヤフラムの内部応力を調整する、ことを含むダイヤフラムの製造方法。 - 特許庁

Since a discrete electrode 57 is formed on the base substrate 200 and is thermally treated to sinter the piezoelectric body 58 after the piezoelectric body 58 is formed by an AD (aerosol deposition) method, a warp in the base substrate 200 occurring due to a difference in the thermal expansion coefficient can be reduced during cooling to a normal temperature.例文帳に追加

ベース基板２００に個別電極５７を形成し、ＡＤ法によって圧電体５８を形成した後に圧電体５８を焼結させるための熱処理を施すので、常温化する際に熱膨張係数の違いによって発生するベース基板２００の反りを低減できる。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system for forming vapor-depositing a thin film on a substrate in a vacuum which has a simple constitution, can reduce its cost, can easily obtain a uniform film thickness distribution in a large area, and can efficiently use an evaporation material to reduce the waste of the material.例文帳に追加

真空中で基板上に薄膜を蒸着形成する際に、簡易な装置構成で、装置コストの低減を図ることができ、また大面積で均一な膜厚分布を容易に得ることができるようにし、更に、蒸発材料の使用効率が良く、材料のむだを減らすことができるようにする。 - 特許庁

The radiation image conversion panel, having a phosphor layer formed with gas-phase deposition satisfies the relation 0.1≤a/b≤10, where (a) and (b) are mole ratios of center elements of activator/ground material of phosphor respectively at arbitrary two locations in the phosphor layer.例文帳に追加

気相堆積法により形成された蛍光体層を有する放射線像変換パネルにおいて、該蛍光体層の任意の二箇所における蛍光体の付活剤／母体の中心元素のモル比ａおよびｂが、関係式： ０．１≦ａ／ｂ≦１０ を満足することを特徴とする放射線像変換パネル。 - 特許庁

The standard particle application apparatus 10 comprises an aerosol generation part 3 for producing aerosol of standard particles 42 from a diluted solution 31 and a deposition tank 21 into which the aerosol of the standard particles 42 is introduced to deposit the standard particles 42 on an object 1 installed inside.例文帳に追加

標準粒子塗布装置１０は、希釈液３１から標準粒子４２のエアロゾルを生成するエアロゾル発生部３と、標準粒子４２のエアロゾルが導入され内部に配置された対象物１に標準粒子４２を付着させる付着槽２１とを備える。 - 特許庁

At the same time, pyrolysis gas 7 of the deposition property for depositing a film is fed to a high-temperature space 6 demarcated by the high-temperature gas beams 2b, 2c and the surface of the substrate 1, active species of the gas are generated through the pyrolysis thereof, and blown to the surface of the substrate 1.例文帳に追加

これと共に、これら高温ガスビーム２ｂ，２ｃと前記基板１の表面とにより画成された高温空間６に、堆積性を有する膜形成用の熱分解ガス７を供給し、それを熱分解させて活性種を生成させ基板１の表面に吹き付ける。 - 特許庁

In order to manufacture the glass plate 1 coated with a conductive transparent metal oxide 3 by chemical vapor deposition, the conductive transparent metal oxide 3 is chemically vapor-deposited on the glass plate 1 at a coating temperature exceeding but not lower than 50°C temperature of glass transition.例文帳に追加

化学蒸着によって導電性透明金属酸化物３でコートされたガラス板１を製作するために、ガラス板１への前記導電性透明金属酸化物３の化学蒸着が、ガラスの転移温度を５０℃を超えて下回らないコーティング温度で実行される。 - 特許庁

In a portable terminal device 1, a sheet member 5 including at least one of a conductive sheet and a metal deposition sheet is provided inside a case 9, an electronic circuit board 16a is provided inside the sheet member 5, and an antenna member 3a is provided outside the sheet member 5.例文帳に追加

携帯端末装置１は、導電シートと金属蒸着シートとの少なくとも１つを含むシート部材５が筐体９の内側に設けられ、シート部材５の内側に電子回路基板１６ａが設けられ、シート部材５の外側にアンテナ部材３ａが設けられている。 - 特許庁

To provide a method and a device of high frequency plasma CVD capable of stably and efficiently forming a deposition film of high quality with extremely uniform thickness and homogeneous film quality at a high speed on a base substance of wide area of an arbitrary configuration.例文帳に追加

任意形状の大面積の基体上に、膜厚が極めて均一で且つ均質膜質である高品質な堆積膜を高速度で安定に形成し、効率よく堆積膜を形成することができる高周波プラズマＣＶＤ法および高周波プラズマＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition film having heat treatment resistance which is resistant to deteriorations in initial gas barrier properties and laminate strength even when subjected to heat treatment by boiling sterilization, retort sterilization, heating cooking, etc., and to breakage by falling and is made to be excellent in sticking properties.例文帳に追加

ボイル殺菌、レトルト殺菌、加熱調理等による加熱処理がなされても当初のガスバリア性及びラミネート強度が劣化しにくく、落下による破袋がしにくく、突き刺し性に優れるようにした、加熱処理耐性を有する蒸着フィルムの提供を目的とする。 - 特許庁

To suppress aggregation of a nickel film due to heat not only after aggregation suppression processing but also during a processing process (e.g., temperature raising process) when processing (e.g., cap film deposition) for suppressing aggregation of the nickel film on a substrate to be processed is performed.例文帳に追加

被処理基板上のニッケル膜の凝集を抑制するための処理（例えばキャップ膜成膜）を行う際に，その凝集抑制処理後のみならず，その処理過程（例えば昇温工程）においても，ニッケル膜の凝集を抑制するニッケル膜の熱による凝集を抑制する。 - 特許庁

In a first step, a vapor deposition method with a polycrystalline sintered body having an IGZO-based composition as a target is used to form, on a substrate 12, a thin film 10A comprising an amorphous oxide semiconductor containing at least one element in a group comprising In, Ga, and Zn.例文帳に追加

第１工程として、基板１２上に、ＩＧＺＯ系の組成を有する多結晶焼結体をターゲットとした気相成膜法を用いて、ＩｎとＧａとＺｎからなる群のうち少なくとも１つの元素を含有する非晶質酸化物半導体からなる薄膜１０Ａを成膜する。 - 特許庁

To provide a method for forming a thin film, which prevents splash or the like causing a large trouble in production and can stably grow a flat film through a vacuum deposition method; a positive electrode for a lithium battery which has been formed through the method for forming the thin film; and a lithium battery provided with the positive electrode.例文帳に追加

蒸着法によって、生産上大きなトラブルの原因となるスプラッシュ等を防止し、安定して平坦な膜を成長することができる、薄膜形成方法、その薄膜形成方法で形成したリチウム電池用正極、その正極を備えるリチウム電池を提供する。 - 特許庁

According to the type of a silicon wafer 101 to be deposed, a second member 107 suitable for providing a uniform temperature variation in the surface of the silicon wafer 101 is selected, transferred into a deposition chamber 102, and placed on a first member 103 thereby forming a susceptor 110.例文帳に追加

成膜が行なわれるシリコンウェハ１０１の種類に応じて、シリコンウェハ１０１の面内の温度分布を均一にするのに最適な第２の部材１０７を選択して成膜室１０２内に搬送し、第１の部材１０３に載置することでサセプタ１１０を完成させる。 - 特許庁

This battery is composed by using a plate having a lead sulfate layer formed on the surface layer of the plate, and partial drop of electrolyte density in a glass mat is restrained during electrolyte injection, so that dissolution of lead is prevented, and the deposition of lead into the glass mat during formation is restrained.例文帳に追加

極板表面層に硫酸鉛層を形成した極板を用いて電池を構成し、電解液注入時にガラスマット内での部分的な電解液密度の低下を抑制し、鉛の溶解を防止すると共に、化成時のガラスマット中への鉛の析出を抑制する。 - 特許庁

The interconnection structure of the invention has improved technical extensibility for semiconductor society compared with the interconnection structure of the prior art in which a barrier material is formed by a conventional PVD process, conventional ionized plasma deposition, CVD, or ALD.例文帳に追加

本発明の相互接続構造体は、従来のＰＶＤプロセス、従来のイオン化プラズマ堆積、ＣＶＤ、又はＡＬＤによってバリア材料が形成される従来技術の相互接続構造体と比べると、半導体業界のための改善された技術拡張性を有する。 - 特許庁

The precursor of the present invention is a precursor of an active substance composed of an inorganic oxide and has hydroxy groups in an amount to enable the deposition of the inorganic component in a reaction solution on the surface of the inorganic oxide when immersed in the reaction solution.例文帳に追加

本発明の活性物質の前駆体は、無機酸化物からなる活性物質の前駆体であって、反応溶液中に浸漬した場合に該反応溶液中の無機成分が前記無機酸化物の表面に析出可能な程度の水酸基を有することを特徴とする。 - 特許庁

A light emitting layer formed of EL material is laminated on the transparent electrode 14 by using vacuum thin film forming technology including deposition to form a back electrode formed of Al-Li in a predetermined shape on the surface of the light emitting layer in opposition to the transparent electrode 14.例文帳に追加

この透明電極１４にＥＬ材料からなる発光層１６を蒸着等の真空薄膜形成技術により積層し、発光層１６の表面に、透明電極１４に対向した所定形状のＡｌ−Ｌｉ等の背面電極１８を形成する。 - 特許庁

To provide an evaporation doner substrate that makes it possible to evaporate only a desired evaporation material in the case of performing deposition by an evaporation method, thus the use efficiency of an evaporation material can be increased resulting in reduction in production cost, and further a film with high uniformity can be deposited.例文帳に追加

蒸着法による成膜を行う場合において、所望の蒸着材料のみが蒸着されることを可能にし、蒸着材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させると共に、均一性の高い膜を成膜することが可能な蒸着用基板を提供する。 - 特許庁

As the rotational mirror with a low inertia moment using a flat mirror capable of surely securing a smooth reflection face, differently from a conventional one, a thin flat mirror is stuck to an aluminum plate with an adhesive, and its length and width are decided while taking the vapor deposition areas into consideration.例文帳に追加

また、平滑な反射面が確実に確保できる平面鏡を使用した慣性モーメントの小さい回転ミラーとして、従来とは異なる薄い平面鏡をアルミ板に接着剤にて貼り付けるとともに、その長さと幅は前述の蒸着範囲を考慮した。 - 特許庁

In the process for cooling a decomposed gas obtained in a pyrolysis vessel 2 by a condenser 7 to separate and recover a decomposed oil and crystals, the deposition of the crystals on the inner wall of the condenser 7 is prevented by jetting the decomposed oil onto the inner wall of the condenser 7 from nozzles 11 of a conduit 10.例文帳に追加

熱分解槽２で得られた分解ガスを凝縮器７で冷却して分解油と上記結晶を分離、回収する方法において、凝縮器７内壁に分解油を導管１０のノズル１１から噴射して凝縮器７内壁に該結晶が堆積するのを防止する。 - 特許庁

In order to especially form an organic light emitting diode, in a method for forming the ITO layer on the substrate, a part of a thickness of the ITO layer is firstly given by a sputter-deposition at a controlled temperature profile in such a mode that formation of a crystal nucleus may be prevented.例文帳に追加

特に有機発光ダイオードを生成するために、基板上にＩＴＯ層を生成するための方法において、ＩＴＯ層の厚さの一部を最初に、制御された温度プロフィールで、結晶化核の形成が防がれるような態様で、スパッタ堆積によって与える。 - 特許庁

In forming a silver series transparent conductive thin film of the thickness of 1 to 30 nm by a sputtering method with a target with silver as a main ingredient put on a substrate, the method utilizes an atmosphere containing oxygen gas as a sputtering atmosphere in deposition.例文帳に追加

基体上に、銀を主成分とするタ—ゲツトを用いて、スパツタリング法により厚さが１〜３０ｎｍの銀系透明導電体薄膜を成膜するにあたり、成膜時のスパツタリング雰囲気を酸素ガスを有する雰囲気としたことを特徴とする銀系透明導電体薄膜の製造方法。 - 特許庁

To provide a water sterilization device in which the propagation of microorganisms in water is suppressed by preventing deposition of a sterilizing component eluted in water on the surface of a submerged member or the like to prevent the lowering of the concentration of the sterilizing component in water and to provide a humidification device.例文帳に追加

水中に溶出した殺菌性成分が水没部材等の表面に付着するのを防止することにより、水中の殺菌性成分の濃度の低下を防止して、水中における微生物の繁殖を抑制するようにした水除菌装置及び加湿装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target which is used for depositing a high refractive index thin film by a DC sputtering process, and allows a high film deposition rate of the high refractive index thin film and high productivity, and to provide a method of depositing the high refractive index thin film using the target.例文帳に追加

本発明は、高屈折率薄膜をＤＣスパッタリング法で形成する際に用いられるスパッタリングターゲットであって、高屈折率薄膜の成膜速度が速く生産性が高いスパッタリングターゲットおよび該ターゲットを用いた高屈折率薄膜の形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

The target contains a receiving board 302 having a center part 308 and a flange part 314 fittable to the physical vapor deposition chamber, a part 304 elongating from the center part of the receiving board and capable of sputtering and an annular rising part 332 arranged on the surface of the flange part.例文帳に追加

ターゲットは中央部分３０８と前記物理蒸着チャンバーに取付可能なフランジ部分３１４とを有する受板３０２と、該受板の中央部分から延びるスパッタ可能な部分３０４と、前記フランジ部分の表面に配置された環状の隆起部３３２とを含んでいる。 - 特許庁

To provide a manufacturing apparatus that gives a conductive material with high productivity while preventing reduction in the commercial value of the conductive material by deposition of sludge on a conductive material precursor after developed and preventing reduction in a plating efficiency upon electroless plating.例文帳に追加

現像処理後の導電性材料前駆体にスラッジが付着することによる導電性材料としての商品価値を低下させない、また無電解めっきの際のめっき効率を低下させない、生産性の良い導電性材料が得られる製造装置を提供する。 - 特許庁

An ITO(indium tin oxide) electrode 2, a hole transport layer 3a forming part of an organic compound layer 3, an electron transporting light emitting layer 3b forming part of the organic compound layer 3, and a metal electrode layer 4 as a back plate are respectively formed on a surface glass plate 1 by vacuum deposition.例文帳に追加

表ガラス板１上にＩＴＯ（インジウム，チン，オキサイド）電極２、有機化合物層３の一部を成すホール輸送層３ａ、有機化合物層３の一部を成す電子輸送性発光層３ｂ、背面電極としての金属電極層４を、それぞれ真空蒸着により成膜する。 - 特許庁

In the film deposition method, a film of a reaction product is formed on the surface of a substrate by irradiating the surface of the substrate with a laser beam so as to heat the substrate and react raw material components while introducing the raw material components containing a gaseous substance in the direction of the substrate.例文帳に追加

本膜形成方法は、気体物質を含む原料成分を基板方向に導入しながらレーザー光を基板表面に照射し、基板の加熱と同時に原料成分の反応によって反応生成物からなる膜を基板の表面に形成するものである。 - 特許庁

Regarding the cleaning method where a titanium chloride M stuck to the inside of a treatment vessel 4 for performing film deposition to a substrate W is removed, in a state of heating the inside of the treatment vessel to ≥130°C, the titanium chloride is removed using a ClF based gas as a cleaning gas.例文帳に追加

基板Ｗに対して成膜を行なう処理容器４内に付着したチタン塩化物Ｍを除去するクリーニング方法において、前記処理容器内を１３０℃以上に加熱した状態でクリーニングガスとしてＣｌＦ系ガスを用いて前記チタン塩化物を除去する。 - 特許庁

The metal particles 4 having catalyst activity and an additive particles 3 for improving catalyst activity of the metal particles are precipitated and carried by a physical deposition, for example, sputtering on the surface of a conductive powder 2, and furthermore, are heated, that is, annealed simultaneously with, before or after the precipitation and carrying.例文帳に追加

導電性粉体２の表面に、触媒活性を有する金属粒子４と、この金属粒子の触媒活性を向上させる添加物粒子３とを物理蒸着例えばスパッタリングによって析出担持させ、更に析出担持と同時に或いは前後して加熱すなわちアニール処理を施す。 - 特許庁

In this slice sample fixing method, deposition by focused ion beam irradiation is applied to a predetermined position of the slice sample placed on the sample base or the fixing base such as a mesh while gas is jetted by means of a gas gun, and consequently, the slice sample is fixed to the fixing base.例文帳に追加

本発明の薄片試料の固定方法は試料台若しくはメッシュなどの固定台上に載置された薄片試料の所定個所に、ガス銃によってガスを噴射しつつ集束イオンビームを照射するデポジションを施し、これによって、前記固定台に薄片試料を固定するようにした。 - 特許庁

The undiluted solution of deposition is one containing polyethersulfone and a solvent for thermally induced phase separation, and 3-pyridine methanol, 4-methyl-1,3-dioxolane-2-on, 4-benzyl piperidine, trimethyl phosphate, 1,3-dioxolane-2-on, and one selected from a group consisting of these mixtures are used as the solvent.例文帳に追加

ポリエーテルスルホンと、熱誘起相分離用の溶媒とを含有する製膜原液であって、その溶媒として、３−ピリジンメタノール、４−メチル−１，３−ジオキソラン−２−オン、４−ベンジルピペリジン、リン酸トリメチル、１，３−ジオキソラン−２−オンおよびこれらの混合物からなる群から選択されるものを使用する。 - 特許庁

In the film deposition method, a reaction gas including nitrogen atoms is introduced in the downstream of distribution holes 21a through the distribution holes 21a after being exposed to a surface wave of a microwave, and is made to react with an inorganic silane gas; thus a silicon nitride film is deposited on a substrate placed in the downstream side.例文帳に追加

窒素原子を含む反応ガスを、マイクロ波の表面波に曝した後、流通孔２１ａを通過させて該流通孔２１ａの下流に導き、該下流において無機シランガスと反応させることにより、上記下流に配置された基板上にシリコン窒化膜を成膜する成膜方法による。 - 特許庁

Winding grooves are formed on major faces where the metal magnetic films of at least one of the pair of nonmagnetic substrates are deposited and at least one stress relaxation grooves for relaxation of the stresses at the time of deposition are formed in parallel with the winding grooves between the adjacent winding grooves.例文帳に追加

一対の非磁性基板の少なくとも一方の非磁性基板の金属磁性膜を成膜する主面に巻線溝を形成するとともに、隣り合う巻線溝の間に巻線溝に並行して、成膜時の応力を緩和するための応力緩和溝を少なくとも１本形成する。 - 特許庁

To provide a build-up substrate having high reliability by using a surface treating method of copper wiring of a multilayer substrate which is valid for preventing a clearance, a gouging and a plating deposition failure, generated in a boundary between the copper wiring of a via hole bottom part and a photosensitive insulation resin.例文帳に追加

本発明の目的は、ビアホ−ル底部の銅配線と感光性絶縁樹脂との境界に発生する隙間、エグレ及びめっき析出不良の防止に有効な多層基板の銅配線の表面処理方法を用いた接続信頼性の高いビルドアップ基板を提供する。 - 特許庁

An infrared ray absorptive layer 2 is formed below a particle size orientation control layer 3 in order to optimize a film-deposition temperature, and the magnetic particle orientation and the particle size distribution of a magnetic layer 4 are improved by using the particle size orientation control layer 3 thus obtained, having a good orientation condition.例文帳に追加

成膜温度を適正化するために、赤外線吸収層２を粒径配向制御層３の下に形成し、その結果得られた配向条件のよい粒径配向制御層３を用いて、磁性層４の磁性粒子の配向、粒径分布の良好な磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide toner for developing an electrostatic charge image, quick in a rise for charging, capable of obtaining instantaneously a charge quantity required for development, having enhanced flowability, not generating deposition or the like onto a developing roller, and capable of maintaining thereby charging performance over a long period, and an image forming device using the same.例文帳に追加

帯電立ち上がりが速く、瞬時に現像に必要な帯電量を得ることが出来、しかも、流動性が高く、現像ローラへの付着等を起こさないので、長期に亘って帯電性能を維持することが出来る静電荷像現像用トナーと、それを用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

In the vacuum treatment tank 52, a metallic film is formed on a substrate 55 in first and second film deposition areas 57 and 59 while turning a rotary supporting drum 53, and the metallic film on the substrate 55 is oxidized in the oxidation area 60 by the oxidation source 69.例文帳に追加

真空処理槽５２内において、回転支持ドラム５３を回転させつつ第一及び第二成膜領域５７、５９にて基板５５上に金属膜を形成し、かつ、酸化領域６０にて基板５５上の当該膜に対して酸化源６９によって酸化処理を行う。 - 特許庁