「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(296ページ目) - Weblio英語例文検索

To deposit a high reflection optical thin film having high reflectivity without the occurrence of a face change of an oxide substrate by establishing a deposition method capable of eliminating the "water molecules etc.," existing at the boundary between the oxide substrate and the high reflection optical thin film at a substrate temperature <200°C.例文帳に追加

酸化物基板と高反射光学薄膜との界面に存在する「水分子等」を、基板温度200℃未満でなくすことができる成膜方法を確立し、酸化物基板の面変化を発生させることなく高い反射率を有する高反射光学薄膜を成膜することである。 - 特許庁

To provide a droplet removing method by which the droplet of a coating film deposited in the arc-type physical vapor deposition process can be easily and reliably removed without damaging the film, and evaluating adhesivity of the coating film simultaneously with removal of the droplet.例文帳に追加

アーク式物理的蒸着処理で形成されるコーティング皮膜のドロップレットを、皮膜を損傷することなく容易かつ確実に除去でき、さらに、このドロップレットの除去と同時にコーティング皮膜の密着性を評価できるドロップレット除去方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The layer which is deposited on a substrate by pyrolyzing a tantalum-containing organic metallic compound by a chemical vapor deposition method and contains much carbon is exposed to a plasma while the substrate is biased, by which the tantalum-carbon-base thin film of the low specific resistance useful as the barrier layer is obtained.例文帳に追加

化学気相堆積法によりタンタル含有有機金属化合物を熱分解して基板上に堆積させた炭素を多く含む層を、基板にバイアスを印加しつつプラズマに暴露することにより、バリア層として有用な低比抵抗のタンタル−炭素系薄膜を得る。 - 特許庁

To provide a plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) process for depositing n-type and p-type zinc oxide-based transparent conducting oxides (TCOs), which are excellent in optical and electrical properties, on glass or temperature-sensitive materials such as plastics and a polymers at a low temperature.例文帳に追加

ガラスならびにプラスティックおよびポリマーなどの温度に敏感な材料上に、優れた光学的および電気的性質を有するｎ型およびｐ型酸化亜鉛系透明導電性酸化物（ＴＣＯ）を低温で堆積させる、プラズマ増強化学蒸着（ＰＥＣＶＤ）プロセスを提供する。 - 特許庁

The gas barrier film has a base material, the gas barrier film made of a vapor-deposition film formed on one surface or each of both surfaces of the base material, and a water repellent film showing water repellency formed on the gas barrier film.例文帳に追加

本発明は、基材と、上記基材の片面または両面に形成された蒸着膜からなるガスバリア層と、上記ガスバリア層上に形成され、撥水性を有する膜からなる撥水層とを有することを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより上記目的を達成するものである。 - 特許庁

A multi-step process is used to adjust a chemical vapor deposition chamber after cleaning and between successive depositions, by removing fluorine residues from the chamber with a hydrogen plasma, and subsequently depositing a solid compound in the chamber to encapsulate any particles remaining in the chamber.例文帳に追加

洗浄後かつ連続した堆積の間に、水素プラズマでチャンバからフッ素残渣を除去し、続いてチャンバ内に固体化合物を堆積させてチャンバ内に残っている微粒子物を封入することによって、化学気相成長チャンバを調整するマルチステッププロセスを用いる。 - 特許庁

To provide a liquid jet device capable of suppressing deposition of mist occurring in a certain probability.例文帳に追加

高粘度インクや顔料系インクを用いた場合、ノズル面の撥水性、ワイパーの接触角度、インクの状態などの微妙な違いによってワイピング不良が発生して、ミストの堆積が確率的に発生し、確率的に発生するミストの堆積は仕様を管理することによって低減することが困難である。 - 特許庁

A scalable, high-throughput nanoimprint lithography priming tool includes a dual-reactant chemical vapor deposition reactor chamber, a mandrel configured to hold a plurality of hard disks at an inner diameter of the hard disks, and a transport mechanism to move the plurality of hard disks into and out of the chamber.例文帳に追加

拡張可能な、高い処理能力のナノインプリントリソグラフィー用プライミングツールが、二反応物化学蒸着反応チャンバと、複数のハードディスクを、これらのハードディスクの内径部分で保持するように構成されたマンドレルと、これら複数のハードディスクをチャンバ内に移動するための移動機構とを備えている。 - 特許庁

Between the highly doped silicon films 6s and 6d which are in contact with a source electrode 8s and a drain electrode 8d, respectively, and the polycrystalline silicon film 4, non-doped or lightly doped (100 ppm or less) hydrogenated amorphous silicon layers 5s and 5d are formed by a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

ソース電極８ｓおよびドレイン電極８ｄにそれぞれ接する高濃度不純物添加シリコン膜６ｓ，６ｄと、多結晶シリコン膜４との間に、無添加または低濃度（１００ｐｐｍ以下）不純物添加水素化非晶質シリコン層５ｓ，５ｄを化学気相成長法により形成する。 - 特許庁

To provide a display device and a method for manufacturing the display device capable of preventing the occurrence of a defect due to foreign matter sticking between pixel apertures and damage in configuration of setting a plurality of divided pixels as one sub-pixel and sharing a vapor deposition pattern among a plurality of pixel apertures.例文帳に追加

複数の分割画素を１つの副画素とするような、蒸着パターンを複数の画素開口で共有する構成において、画素開口間への異物付着や損傷による欠陥発生を防止できる表示装置および表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink-jet ink which suppresses deposition of a pigment and a dispersant in the ink on a face with a discharge outlet by paying attention to state variation of ink sticking to the face with the discharge hole, and which suppresses faulty discharge by suppression of change in the surface characteristics of the face with the discharge hole.例文帳に追加

フェイス面に付着したインクの状態変化に着目することで、インク中の顔料や分散剤のフェイス面への固着を抑制し、フェイス面の表面特性の変化を抑制することで、吐出不良の発生を抑制したインクジェット用インク等を提供すること。 - 特許庁

This vapor-emitting device has a shower plate type emitting portion 11 in which a plurality of emission ports 12 are arrayed in a plane, and a supply pipe 14 which is provided in the emitting portion 11 and supplies the vapor 50 of an organic vapor deposition material to the emitting portion 11.例文帳に追加

本発明の蒸気放出装置は、複数の放出口１２が面内に配列されたシャワープレート型の放出部１１と、放出部１１内に設けられ有機蒸発材料蒸気５０を当該放出部１１内に供給する供給管１４とを有する。 - 特許庁

To provide a drying and washing machine which does not cause the closure of the flow path of washing water or a drying route while eliminating the deposition of lint and cotton dust or the like around a blowing fan by a filter, and the drying and washing machine capable of removing cotton dust or the like entangled with the blowing fan.例文帳に追加

送風ファン周りの糸くずや綿埃などの堆積を、フィルタにより皆無としつつ、洗濯水の流路若しくは乾燥経路の閉塞を招かない乾燥洗濯機、および送風ファンに絡みついた綿埃等を除去することが可能な乾燥洗濯機を提供すること。 - 特許庁

To provide an original plate of a ceramic printed circuit board which has superior heat dissipation characteristics and electric characteristics by forming an adhesion layer and a thick electric conductive layer of high density on a ceramic board by a sputtering method for physical vapor deposition, and to provide a method of manufacturing the original plate.例文帳に追加

セラミック基板上に物理気相蒸着のためのスパッタリング方法により接着層及び厚膜の高密度の電気伝導層を形成し、優れた放熱特性及び電気的な特性を有するセラミック印刷回路基板の原板及びその原板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thermoplastic polyurethane resin composition excellent in melting characteristics, capable of exhibiting hardness suitable for various uses, when subjected to thermo-molding, and capable of giving a molded product which is excellent in yellowing resistance, scarcely causes deposition of a substance derived from an oligomer on its surface, and is excellent in water resistance.例文帳に追加

溶融特性に優れ、熱成形することにより、種々の用途に好適な硬度を有し、耐黄変性に優れ、オリゴマー由来の物質が表面に析出するようなことが殆どなく、耐水性にも優れた成形品を得ることができる熱可塑性ポリウレタン樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an additive for a toner and a toner such that degradation in images due to deposition of fine particles as the additive for the toner on a photoreceptor drum or the like is prevented, parts of electrophotographic machine, copying machine, printer or the like are not damaged, and the fixing temperature of the toner can be suppressed to low temperature.例文帳に追加

トナー用添加剤である微粒子の感光体ドラム等への付着による画像悪化がなく、電子写真機、複写機、プリンター等の部品を傷めることもなく、トナーの定着温度を低温に抑えることのできるトナー用添加剤及びトナーを提供する。 - 特許庁

Carbon concentration of at least one rolling surface of an inner ring, outer ring, and a rolling unit is set to 0.30% or more 0.80% or less, so as to hold hardness of required minimum limit and reduce deposition of film- state carbide in an old austenite grain boundary of the rolling surface.例文帳に追加

内輪及び外輪及び転動体のうちの少なくとも一つの転がり面の炭素濃度を０．３０％以上０．８０％以下とすることにより、必要最小限の硬さを保持し且つ転がり面の旧オーステナイト粒界にフィルム状炭化物が析出するのを減少する。 - 特許庁

Duty ratio of valve open period t2 during which supply of secondary air is performed is controlled in a range of supply quantity for keeping catalyst temperature L2 of the three-way conversion catalyst at a predetermined value or less and in a range of supply quantity preventing carbon deposition deterioration L3 of the three-way conversion catalyst while air-fuel ratio is rich.例文帳に追加

空燃比がリッチ状態の間、２次空気の供給が行われる開弁期間ｔ２のディユーティ比を供給量が三元触媒の触媒温度（Ｌ２）を所定値以下に維持する範囲、かつ供給量が三元触媒の炭素析出劣化（Ｌ３）を抑止した範囲で制御される。 - 特許庁

A vacuum vapor deposition device 100 for forming a film on a substrate 20 comprises a substrate holder 103, a holder heating part 105, a raw material holding part for housing a raw material of the film formed on the substrate 20 inside, a first blocking part 111, and a second blocking part 112.例文帳に追加

真空蒸着装置１００は、基板２０の上に膜を形成する真空蒸着装置であって、基板ホルダ１０３と、ホルダ加熱部１０５と、基板２０上に形成する膜の原料をその内部に収容する原料保持部と、第１遮断部１１１と、第２遮断部１１２と、を備えている。 - 特許庁

In the non-fold-over type cylinder head gasket 1 which is formed by stacking a plurality of metal sheets 3, 5, and 7 and provides a combustion chamber hole 11 to be sealed with its periphery, an edge section of the combustion chamber hole 11 between the stacked metal sheets 3 and 5 forming the gasket 1 is sealed by deposition.例文帳に追加

複数の金属板３，５，７を積層することにより形成し、周囲をシールされるべき燃焼室穴１１を有するノンホールドオーバータイプのシリンダヘッドガスケット１において、ガスケット１を構成する積層金属板３，５間における燃焼室穴１１の縁部を溶着によりシールする。 - 特許庁

To provide a semi-conductor manufacturing device to improve the quality for forming a film on a wafer by uniformly straightening the flow of a reaction gas, forming a uniform reaction condition on a surface of a susceptor, suppressing adhesion and deposition of non-reacted gas or reaction product, and reducing generation of the dust.例文帳に追加

反応ガスを流れを均一に整流してサセプター上面で均一な反応状態を形成して未反応ガスや反応生成物の付着堆積を抑制し、ダストの発生を低下させてウェーハ上への成膜品質の向上を図った半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thermoionic cathode fluorescent lamp which can prevent a deposition of scattering substance from a filament to a glass bulb and a stem and can shorten a distance between a sealing part and the filament and is provided with a shielding member which is a coldest spot and is serving as a getter to suck an impurity gas in a tube.例文帳に追加

ガラスバルブやステムへのフィラメントからの飛散物質の付着を防ぎ、封止部とフィラメント間の距離を短くすることができ、最冷点となり、管内不純ガスの吸着をおこなうゲッターの役割を果たす遮蔽部材を備えた熱陰極型蛍光ランプを提供する。 - 特許庁

Further, using metal silicate powder, a metal silicate film is formed on the body to be film-formed by the aerosol deposition process, and the composite body of the metal silicate film and the body to be film-formed is heat-treated so as to produce the dense composite of the metal silicate film and the body to be film-formed.例文帳に追加

また、金属ケイ酸塩粉末を用い、エアロゾルデポジション法により被成膜体上に金属ケイ酸塩膜を形成し、その金属ケイ酸塩膜と被成膜体の複合体を熱処理することで、緻密な金属ケイ酸塩膜と被成膜体の複合体を製造する。 - 特許庁

A single-crystal silicon wafer is put into a thermal diffusion furnace, heated at 900-1,150°C in a mixed atmosphere of boron tribromide, nitrogen and oxygen of a p-type impurity, the boron is thermally diffused on the front surface of the wafer from the mixed atmosphere, and a boron diffusion layer is formed (boron deposition step).例文帳に追加

単結晶シリコンウェハを熱拡散炉に入れ、Ｐ形不純物である三臭化ボロンと窒素と酸素の混合雰囲気中にて９００〜１１５０℃で加熱し、その混合雰囲気からウェハ表面にボロンを熱拡散させてボロン拡散層を形成する（ボロンデポジション工程）。 - 特許庁

A vapor deposition thin film of specified kind of a metal constituting solder alloy components in an island shape is laminated on an endless insulation heat resistant belt, the laminate is electrified, heated and melted, successively, by removing the electrification, the laminate is peeled from the insulation heat resistant belt, the solder alloy superfine particle is recovered.例文帳に追加

エンドレスの絶縁耐熱性ベルト上にハンダ合金成分を構成する所定種類の金属の島状の蒸着薄層を積層し、その積層に帯電させ、加熱溶融し、その後に帯電を除去し絶縁耐熱性ベルトから剥離しハンダ合金超微粒子を回収する。 - 特許庁

Thus the tap water in the water tank 4 is brought into contact with artificial zeolite in flowing down to the water storing portion, and a cation such as a calcium ion and a magnesium ion contained in the tap water exchanges an ion and adsorbed to the artificial zeolite, so that it's deposition to the vaporization filter 5 and the water storing portion 3 can be prevented.例文帳に追加

これにより、水タンク４の水道水が貯水部に流下する際に人工ゼオライトと接触し、水道水に含まれるカルシウムイオンやマグネシウムインなどの陽イオンがイオン交換して人工ゼオライトに吸着され、気化フィルター５や貯水部３に析出することが防止される。 - 特許庁

The method for forming the thin-film transistor comprises the steps of executing a plurality of times of a step of using a plasma chemical vapor deposition process in the same depositing chamber, and executing gas cleaning of the depositing chamber and film performing, at each execution step of using the process.例文帳に追加

薄膜トランジスタの形成において、プラズマ化学気相堆積法を用いたステップが、同一の堆積室内において複数回実施され、かつ、１回実施される毎に堆積室のガスクリーニングおよび予備成膜が行われる薄膜トランジスタ形成方法を提供する。 - 特許庁

This method includes a vapor deposition process step of vapor depositing a resin material by heating the resin material at a heating temperature higher than the melting point of the resin material in a reduced pressure atmosphere and the viscosity average molecular weight of the resin material is within a range from 100 to 1,000,000.例文帳に追加

減圧雰囲気下において、樹脂材料の融点よりも高い加熱温度で樹脂材料を加熱することによって樹脂材料を蒸着する蒸着工程を含み、上記樹脂材料の粘度平均分子量が１００〜１００００００の範囲内である。 - 特許庁

The packaging laminated material for the chocolate consists of a paper substrate having a printing layer, a reinforcing layer laminated on the above paper substrate, a heat fusion nature resin layer overlying the above reinforcing layer and an aluminum vapor deposition layer overlying the above reinforcing layer and/or the heat fusion nature resin layer.例文帳に追加

印刷層を有する紙基材と、前記紙基材に積層された補強層と、前記補強層に積層された熱融着性樹脂層と、前記補強層および／または熱融着性樹脂層に積層されたアルミ蒸着層とからなることを特徴とする、チョコレート用包装積層材である。 - 特許庁

To provide a method for depositing a catalytic metal on the surface of a carrier in such a state that the catalytic metal exhibits high efficiency as a catalyst, namely, has minute particle size of ≤1 nm and is deposited at a high deposition rate and to provide a metal catalyst manufactured by this depositing method.例文帳に追加

本発明の目的は、担体表面に、触媒としての効率の高い状態、すなわち粒径１ｎｍ以下の微小な状態、かつ担持率の高い状態で、触媒金属を担持させる方法及びその方法で製造した金属触媒を提供することである。 - 特許庁

To provide an apparatus for depositing an epitaxial semiconductor layer with which auto-doping of a front surface of a substrate as well as a back surface defect of the substrate possibly occurring during an epitaxial deposition process for forming the epitaxial layer on the front surface of the substrate are reduced, and to provide a method of using the apparatus.例文帳に追加

基板の前面にエピタキシャル層を形成するためのエピタキシャル堆積プロセス中に、該基板の該前面のオートドープを減少させ、かつ該基板の裏面の欠陥を減少させるエピタキシャル半導体層を堆積するための装置及びその装置を使用するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resin composition for mineral fiber binder, depositing no salt crystal even if stored at low temperatures and high in storage stability with no salt crystal deposition even in the case of being compounded with an additive such as urea, and enabling mineral fiber of high resistance to moisture absorption to be obtained.例文帳に追加

低温保管しても塩の結晶が析出せず、また、尿素等の添加剤を配合した場合においても塩の結晶析出せずに保存安定性が良好で、耐吸湿性に優れる鉱物繊維を得ることのできる鉱物繊維バインダー用樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The effect to suppress the scale deposition is remarkably improved by forming a multilayer film from the plated layers in which the inorganic particles having excellent water wettability are dispersed, exposing the inorganic particles dispersed in each layer on the outermost surface to remarkably increase the dispersion quantity of the inorganic particles on the outermost surface.例文帳に追加

水濡れ性の良い無機粒子を分散させためっき皮膜で多層膜を形成し、各層に分散させた無機粒子が最表面に露出するようにして、最表面の無機粒子の分散量を飛躍的に増加させ、水垢付着を抑制する効果を大きく向上させる。 - 特許庁

In operation, the reaction solution may be maintained within the CSTR at a substantially constant concentration and within a reaction temperature range for a reaction period sufficient to obtain nanoparticles having a desired average particle size of, for example, less than 10 nm formation and/or deposition.例文帳に追加

作動中、反応溶液は、ＣＳＴＲ内において、例えば１０ｎｍ未満の所望の平均粒径を有するナノ粒子の形成及び／又は堆積を得るのに十分な反応時間の間における実質的に一定の濃度及び反応温度範囲内に維持することができる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a cellulose acylate film avoiding deposition of a sublimate on the film by removing gases containing a sublimate coming out from the die lip portion, a cellulose acylate film free from impurities manufactured by the manufacturing method and a polarizing plate and a liquid crystal display using this film.例文帳に追加

ダイのリップ部からの昇華物を含むガスを除去して、昇華物がフィルム上に付着することのないセルロースアシレートフィルムの製造方法と、該製造方法により製造した異物のないセルロースアシレートフィルム、このフィルムを用いた偏光板及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photocatalyst filter unit which does not release contamination gas primarily comprising hexamethyl disilazane and trimethyl silanol even when accumulating the contamination gas therein, can easily remove a deposited decomposition product on a photocatalyst filter, has a long life of an optical source, has a resistance to an alkalline gas too and can avoid the deposition of salt.例文帳に追加

ヘキサメチルジシラザン及びトリメチルシラノール主体の汚染ガスを蓄積しても再放出せず、光触媒フィルタ上の堆積分解生成物を容易に除去出来、光源の寿命も長く、アルカリ系ガスにも強く、塩の付着を防護できる光触媒フィルタユニットを提供する。 - 特許庁

In a method of manufacturing an electrode for a metal melting and deposition type electrochemical display element, an auxiliary compound which can be oxidized and reduced in a pressure condition of 0.01 to 0.5 MPa is fixed to a porous electrode comprising a metal oxide to manufacture the display element.例文帳に追加

金属酸化物から成る多孔質電極に０．０１ＭＰａ以上０．５ＭＰａ以下の範囲の加圧条件下で、酸化還元されうる補助化合物を固定化して作製することを特徴とする金属溶解析出型の電気化学表示素子用電極の製造方法。 - 特許庁

The production method of the silica-coated aluminum pigment comprises a step of dispersing aluminum particles in a solution containing a hydrolyzing catalyst, water and a hydrophilic organic solvent, and a step of adding a solution containing an Si-containing compound to the dispersion at a maximum silica film deposition rate of ≤3 nm/hr.例文帳に追加

アルミニウム粒子を加水分解触媒、水、親水性有機溶剤を含む溶液に分散させる工程、該分散液にＳｉ含有化合物を含む溶液をシリカ膜の最大堆積速度が３ｎｍ／ｈｒ以下にして添加する工程、を含むシリカ被覆アルミニウム顔料の製造方法。 - 特許庁

Thereby, the surface of the single crystal SiC substrate 5 is terminated in a step having a full unit height corresponding to one cycle in a deposition direction of SiC molecules that constitute the single crystal SiC substrate, or having a half unit height corresponding to a half cycle, and the surface is flattened in a molecular level.例文帳に追加

これによって、当該単結晶ＳｉＣ基板５の表面が、単結晶ＳｉＣ基板を構成するＳｉＣ分子の積層方向の１周期分であるフルユニットの高さ又は半周期分であるハーフユニットの高さからなるステップで終端し、分子レベルで平坦化される。 - 特許庁

Around the main transfer chamber 20, heat treatment apparatuses 24, 25 performing heat treatment on the wafer W, a deposition apparatus 26 depositing a resist film on the wafer W, an exposure apparatus 27 exposing the deposited resist film, and a development apparatus 28 developing the exposed resist film are arranged.例文帳に追加

主搬送室２０の周囲には、ウェハＷを熱処理する熱処理装置２４、２５と、ウェハＷ上にレジスト膜を成膜する成膜装置２６と、成膜されたレジスト膜を露光する露光装置２７と、露光されたレジスト膜を現像する現像装置２８と、が配置されている。 - 特許庁

When interdigital electrodes with a comparatively large mass is formed in the SAW device 10, a film thickness of a metallic thin film 18 for the interdigital electrode that is manufactured through deposition is made thin by using a metallic material with high specific gravity for the metallic thin film 18 for the interdigital electrode.例文帳に追加

ＳＡＷデバイス１０において、比較的質量の大きいすだれ状電極を形成する場合、すだれ状電極用金属薄膜１８が比重の大きい金属材料で構成されていれば、堆積させるすだれ状電極用金属薄膜１８の膜厚を薄くすることができる。 - 特許庁

To provide a reinforcement toe puff for safety shoes with which deflashing work and adhesives applying work can be abbreviated by heat deposition of a toe cap supporter using an overhang part and a projection part formed at a rear end part of a main body of the toe puff and a flash of the main body of the toe puff generated during a time of formation.例文帳に追加

先芯本体の後端部に成形した張出部、突起部および成形時に生じた先芯本体のバリ等を利用し、ト−キャップサポ−タを熱融着することにより、バリ取り作業、接着剤塗布作業を省略できる安全靴の補強用先芯を提供する。 - 特許庁

This cross section form observation method includes a process for forming a protective film on a specimen surface by a deposition method; a process for forming a protective film for working on the protective film by using a FIB; and a process for cutting the specimen with the protective film for working formed thereon by using the FIB to observe its cross section.例文帳に追加

試料表面に蒸着法により保護膜を形成する工程と、前記保護膜上にＦＩＢを用いて加工用保護膜を形成する工程と、前記加工用保護膜の形成された試料をＦＩＢにより切断し、断面を観察する工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a film-shaped product, in which the film-shaped product having a nano-sized network structure on the surface thereof can be manufactured easily by an electrospray deposition process, wherein a fibrous assembly such as a nonwoven fabric manufactured by the same process, is used for investigating influences of the network structure to be exerted on the propagation or differentiation of a cell.例文帳に追加

エレクトロスプレーデポジション法で表面にナノサイズの網目構造を有するフィルム状物を簡便に製造することができ、同じ手法で作製された不織布等の繊維状の集合体を用いてその構造が細胞の増殖や分化に与える影響等を調べることができる。 - 特許庁

A laminar deposition mask is fixed to a frame with an adhesive on a joining surface outside a reference surface by applying tension to the mask, or an amount of the adhesive of a cross-sectional area for setting the cross-sectional area of the applied adhesive not more than that of the joining surface outside the reference surface of the frame is applied.例文帳に追加

マスクにテンションをかけて基準面の外側の接着面で接着剤により薄板状蒸着マスクとフレームとを固定するか塗布する接着材の断面積が、フレームの基準面外側の接着面断面積以下となる断面積の接着剤量を塗布する。 - 特許庁