「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(319ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a highly precise mask structure, capable of obtaining a deposition pattern having high dimensional precision and in which a mask is fixed to a mask frame in a state with the tension being applied to the mask, while preventing deformation of the mask frame, and to provide a depositing method using the mask structure and a method of manufacturing an organic light-emitting element.例文帳に追加

本発明の目的は、高寸法精度の蒸着パターンを得ることができ、マスクフレームの変形を防止しつつマスクを張力が加えられた状態でマスクフレームに固定した高精度なマスク構造体およびそれを用いた蒸着方法、並びに有機発光素子の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

Regarding the particulate film structure 1 in which the surface of a substrate 2 is provided with a particulate film 3 composed of a ceramics material and deposited by an aerosol deposition process, the substrate 2 is recessed to the back side of the deposited film, so as to form a pan-shaped or dimple-shaped indentation, and the ceramics particulate film 3 is deposited in the indentation.例文帳に追加

基板２の上に、セラミックス材料から成り、エアロゾルデポジション法により成膜された微粒子膜３を備えた微粒子膜構造体１において、上記基板２を成膜裏面側に凹ませて、皿状あるいはディンプル状の窪みを形成し、この窪みの中にセラミックスの微粒子膜３を形成する。 - 特許庁

A film 4 of ≤1 μm thickness which absorbs almost all of light in the ultraviolet, visible and near infrared wavelength regions is deposited by using a parallel flat plate type sputtering apparatus with Al as a target material, using a gaseous Ar-N_2 mixture as a sputtering gas 3 and controlling the mixing ratio and deposition time (film thickness).例文帳に追加

Ａｌをターゲット材とする平行平板型スパッタリング装置を用いて、Ａｒ，Ｎ_2 の混合ガスをスパッタガス３とし、その混合比及び堆積時間（膜厚）を制御することにより、紫外・可視・近赤外波長領域の光の殆どを吸収する１μｍ以下の膜厚の膜４を形成する。 - 特許庁

To the hydrophilization method for a metallic surface, a first stage in which a metallic surface is subjected to chemical etching treatment accompanied by film deposition and a second stage in which the film deposited on the metallic surface is chemically removed are applied to roughen the metallic surface, and after that, a hydrophilic film is deposited on the metallic surface.例文帳に追加

金属表面に皮膜形成を伴う化学エッチング処理を行う第一工程と、金属表面に形成された該皮膜を化学的に除去する第二工程とを施すことによって金属表面を粗面にし、その後該金属表面に親水性皮膜を形成させる金属表面の親水化処理方法である。 - 特許庁

An apparatus for manufacturing a semiconductor device is provided with a reaction chamber (124) for performing chemical vapor deposition on a semiconductor wafer within the chamber, a source gas injector (125) for supplying the source gas into the reaction chamber, and vacuum pumps (106, 107) for reducing pressure in the source gas injector as well as in the reaction chamber.例文帳に追加

内部の半導体ウェハ上に化学気相堆積を行うための反応室（１２４）と、反応室内に原料ガスを供給するための原料ガスインジェクタ（１２５）と、反応室内のみならず原料ガスインジェクタ内をも減圧するための真空ポンプ（１０６，１０７）とを有する半導体装置の製造装置が提供される。 - 特許庁

The polypropylene film for vapor deposition, one side of which has been provided with corona discharge treatment, has a static coefficient of friction μs between the corona discharge-treated side and the other side of ≥0.02, a dynamic coefficient of friction μd therebetween of ≥0.07, and an area heat shrinkage factor of ≤5.0%.例文帳に追加

片面にコロナ放電処理を施したポリプロピレンフィルムにおいて、コロナ放電処理面と他方の面との静摩擦係数μsが０．２０以上、動摩擦係数μdが０．０７以上であって、かつ面積熱収縮率が５．０％以下であることを特徴とする蒸着用ポリプロピレンフィルム、及びその製造方法。 - 特許庁

A droplet deposition apparatus includes a droplet ejection nozzle, a pressure chamber to which the nozzle is connected and through which the nozzle supplies a liquid for ejecting a droplet, and a chamber wall which is made of an acceptor injection piezoelectric material which can be deformed when an electric signal is applied to eject the droplet from the nozzle.例文帳に追加

液小滴射出ノズル、該ノズルが連結していてそこからノズルが小滴射出用液を供給する圧力チャンバ、およびノズルから小滴を射出するために電気信号を印加すると変形可能であるアクセプター注入圧電材料からなるチャンバ壁をもつことを特徴とする。 - 特許庁

The coating film 20 and the hole injection layer 4 are tungsten oxide layers having a thickness of 2 nm or more deposited under certain deposition conditions and, in the electron state thereof, an occupied level is made to exist in a range of bond energy which is 1.8-3.6 eV lower than the lowest bond energy in the valence band.例文帳に追加

被覆膜２０及びホール注入層４は所定の成膜条件で成膜した膜厚２ｎｍ以上の酸化タングステン層とし、かつ、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーよりも１．８〜３．６ｅＶ低い結合エネルギーの範囲内に占有準位を存在させる。 - 特許庁

In the electrolytic copper coating film manufactured by electrolytic deposition, the electrolytic copper coating film and a method for forming the same obtain crystal distribution having ≥70% of the heat treated crystal grains having a maximum crystal grain length of 10 μm or more when a heat treatment in which the LMP value shown in equation 1 is 9,000 or greater is applied.例文帳に追加

電解析出で製造した電解銅皮膜において、式１に示すＬＭＰ値が９０００以上となる加熱処理を施すと、加熱処理後の結晶粒の最大長さが１０μｍ以上となる結晶粒子が７０％以上存在する結晶分布となる電解銅皮膜とその製造方法。 - 特許庁

A setting of an optical system as an optimum way of scanning charged particle beam, a beam staying period, and a scanning distance are found against an intended irradiation area for film formation and selective etching, depending on a deposition rate stored in advance or a scanning cycle dependent etching rate, and the result of judgment is displayed.例文帳に追加

成膜又は選択エッチングをするための所望の照射領域に対して，あらかじめ記憶したデポレート又はエッチングレートの走査周期依存性から，荷電粒子線の最適走査方法となる光学系の設定とビーム滞在時間と走査間隔を見つけ出し，その判断結果を表示する。 - 特許庁

In the rubber-like elastic part clamped and used between the two members opposed to each other without using the adhesive, a deposition member specifying structure is provided such that when the two members are left from each other, the rubber-like elastic part is always separated from one member and deposited on the other member.例文帳に追加

互いに対向する二部材間に接着剤を用いることなく挟着使用されるゴム状弾性部品において、前記二部材を離間させたときに当該ゴム状弾性部品が必ず一方の部材から離れて他方の部材に付着するように付着部材特定構造を設けることにした。 - 特許庁

In this manufacturing method, after forming the titanium nitride film 12 on a semiconductor substrate, provided with a contact hole 10 by using the organic metal raw material gas containing titanium and chlorine by the chemical vapor deposition method, the titanium nitride film 12 is patterned into a desired shape, and then a wiring composed of a conductive material is formed on the titanium nitride film 12.例文帳に追加

コンタクトホール１０を含む半導体基板１上に、化学的気相成長法によりチタン及び塩素を含む有機金属原料ガスを使用して、窒化チタン膜１２を成膜した後、同窒化チタン膜１２を所望の形状にパターニングし、次に同窒化チタン膜１２上に導電性材料からなる配線を形成する。 - 特許庁

The glass fiber is a glass fiber surface-treated with the sizing agent of the glass fiber and the deposition ratio of the mass of the sizing agent for the glass fiber stuck on chopped strands to the mass of the non surface-treated glass fiber is 0.1-5.0 mass%.例文帳に追加

また本発明のガラス繊維は、上記本発明のガラス繊維用集束剤により表面処理されたガラス繊維であって、チョップドストランドに付着したガラス繊維用集束剤の質量が表面処理を行っていないガラス繊維の質量に対する付着率が、質量百分率表示で０．１％から５．０％の範囲内にある。 - 特許庁

To provide a cooling water manifold for cooling a die in which scale deposition on the inner peripheral surface of a cooling hole and a cooling water distributing hose can be restrained for a long term and also admixture included in the cooling water supplied into the cooling hole in the die can be removed.例文帳に追加

金型の冷却穴や冷却水分配ホースの内周面にスケールが沈着するのを長期にわたって抑制することが出来ると共に、金型の冷却穴内に供給する冷却水中に混入している夾雑物を除去することが出来る金型冷却用冷却水マニホールドを提供すること。 - 特許庁

The gas barrier film comprises: a base material comprising a resin; a first inorganic layer being the vapor deposition film and formed on the base material; and a second inorganic layer being a film formed on the first inorganic layer and formed of ultrafine particles.例文帳に追加

本発明は、樹脂からなる基材と、上記基材上に形成され、蒸着膜である第１無機層と、上記第１無機層上に形成され、超微粒子で形成された膜である第２無機層とを有することを特徴とするガスバリアフィルムを提供することにより、上記目的を達成するものである。 - 特許庁

The vacuum deposition apparatus comprises the vacuum chamber 1; a rod-shaped evaporation source 2 which is installed so as to freely elevate toward the inside and outside of the vacuum chamber 1; and the workpiece support means 3 for supporting workpieces W which are arranged so as to surround the evaporation source 2 when the evaporation source 2 comes down into the vacuum chamber 1.例文帳に追加

本発明に係る真空蒸着装置は、真空チャンバ１と、該真空チャンバ１の内外に昇降自在に設けられたロッド状の蒸発源２と、前記真空チャンバ１内に降下した前記蒸発源２に対して該蒸発源２を取り囲むように配置されるワークＷを支持するワーク支持手段３を備える。 - 特許庁

A solid electrolyte membrane deposition method works in such a way that a magnet is placed on one side of a tray of a vapor growth device and, while the nonaqueous electrolyte battery electrode is being fixed to the other side of the tray by magnetic forces of the magnet, a solid electrolyte membrane is deposited over the surface of the nonaqueous electrolyte battery electrode through a vapor growth method.例文帳に追加

気相成長装置のトレイの一方の面にマグネットを配置し、非水電解質電池用電極をマグネットの磁力によりトレイの他方の面に固定した状態で、非水電解質電池用電極の表面全体に気相成長法を用いて固体電解質膜を成膜する固体電解質膜の成膜方法。 - 特許庁

This radiological image conversion panel having a stimulable phosphor layer on a support has a characteristic wherein the stimulable phosphor layer is formed by a vapor-phase method (namely, a vapor-phase deposition method) so as to have the film thickness of 50μm -1 mm and a thermoplastic resin is provided on the support.例文帳に追加

支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、輝尽性蛍光体層が気相法（気相堆積法ともいう）により５０μｍ〜１ｍｍの膜厚を有するように形成され、該支持体上に熱可塑性樹脂膜を有することを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

To improve handleability by suppressing the deposition of dirt and the entry of a finger of an operator at a gap between a fixed type washing nozzle provided on the side wall surface of a washing tub and a washing tub side face in a dishwasher for washing dishes by jetting washing water from a washing nozzle to the dishes.例文帳に追加

洗浄ノズルより食器類に向けて洗浄水を噴射して食器類を洗浄する食器洗い機において、洗浄槽の側壁面に設けた固定式洗浄ノズルと洗浄槽側面との間の隙間に汚れが堆積したり、作業者の指が入ったりするのを抑え、使い勝手を向上する。 - 特許庁

A full color light-emitting device is realized by a plurality of kinds of light-emitting elements which has between a pair of electrodes a first material layer formed selectively by a liquid drop injection device and a second material layer formed by a vapor deposition method using a conductive surface substrate on which surface a layer containing an organic compound is formed.例文帳に追加

液滴吐出装置で選択的に形成した第１の材料層と、表面に有機化合物を含む層が形成された導電表面基板を用いる蒸着法で形成した第２の材料層との積層を、一対の電極間に設けた複数種類の発光素子でフルカラーの発光装置を実現する。 - 特許庁

The image forming apparatus is configured to detect a toner deposition amount on a toner pattern, by measuring a ratio of diffused-reflected light components at the toner-deposited part of the toner pattern formed on an intermediate transfer body 12 to regular-reflected light components at the base surface part of the intermediate transfer body 12 by an optical sensor 21.例文帳に追加

中間転写体１２に形成されたトナーパターンのトナー付着部の拡散反射光成分と中間転写体１２の地肌部の正反射光成分との割合を光学センサ２１で測定することによってトナーパターンのトナー付着量を検出するように構成した画像形成装置におけるものである。 - 特許庁

After a second copper film is deposited on the first copper film by means of an electrolytic deposition technique so as to fill up the contact hole 102 and the wiring groove until midway, metal crystallites constituting the copper films are grown through heat treatment to combine the first and the second copper films together to form a third copper film 107.例文帳に追加

電解メッキ法により第１の銅膜の上に第２の銅膜を接続孔１０２及び配線溝１０３が途中まで埋まるように成膜した後、熱処理により銅膜を構成する金属結晶を成長させる共に第１の銅膜と第２の銅膜とを一体化させて第３の銅膜１０７を形成する。 - 特許庁

In the hydrogen barrier-coated article and the surface treatment method, the surface of a stainless steel pipe, vessel or the like is coated with aluminum, an aluminum alloy, the nitride of aluminum or the nitride or carbide of titanium so as to form at least one or more layers of 0.1 to 10 μm by a physical vapor deposition method.例文帳に追加

アルミニウム、アルミニウム合金、あるいはアルミニウム窒化物もしくはチタニウムの窒化物、炭化物をステンレス鋼パイプ及び容器類の表面に、物理的蒸着方法により０．１〜１０μmを少なくとも１層以上被覆することにより水素バリヤ被覆物品及びその表面処理方法を提供するものである。 - 特許庁

To sharply simplify an apparatus structure and detection procedure in the specific detection of a substance to be inspected using a photocurrent produced by the optical excitation of a sensitizing coloring matter, a sensor chip capable of shortening the time from the spot deposition of the substance to be inspected to the detection thereof, and a measuring instrument.例文帳に追加

増感色素の光励起により生じる光電流を用いた被検物質の特異的検出において、装置構造および検出手順を大幅に簡素化することができ、また、被検物質の点着から検出までの時間短縮を達成することが可能なセンサチップおよび測定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film manufacturing apparatus capable of supplying the high power of the high frequency range while suppressing the cost of the apparatus, enhancing the film deposition working efficiency while reliably forming the thin film of the excellent film thickness distribution, and sufficiently ensuring the installation space of an impedance matching box while suppressing the thickness of a shield body.例文帳に追加

装置コストを抑制しつつ、高い周波数域の高電力を給電できるとともに、良好な膜厚分布の薄膜形成を保持しながら成膜作業能率を向上させ、シールド体の厚みを抑えてインピーダンス整合器の設置スペースを十分に確保できる薄膜製造装置を提供する。 - 特許庁

A CVD(chemical vapor deposition) system 300 is provided with a plurality of film formation nozzles 112 to supply a film formation gas into a film formation chamber 110, cleaning gas nozzles 310 to supply a cleaning gas, and a film formation target supporting body 118 to position a film formation target subjected to a film formation step within the film formation chamber.例文帳に追加

成膜室１１０の内部に成膜ガスを供給するための複数の成膜ガスノズル１１２と、クリーニングガスを供給するためのクリーニングガスノズル３１０と、成膜工程の対象となる成膜ターゲットを成膜室の内部に位置づけるための成膜ターゲット支持体１１８が設けられている。 - 特許庁

When film deposition is performed to a transparent substrate, to a transparent substrate in which the edge parts of at least confronted two sides are chamfered, CVD treatment is performed under the temperature condition of ≥500°C in such a manner that the film to be formed elongates to the connection part of the chamfered region of the edge part connected with the other face.例文帳に追加

透明基板に成膜を行う際、少なくとも対向する２辺のエッジ部分が面取りされている透明基板に対して、５００℃以上の温度条件下、形成される膜が他方の面と接続されるエッジ部分の面取り領域の接続部分まで延在するようにＣＶＤ処理を行う。 - 特許庁

To provide a gas-barrier film superior in transparency and physical strength, having a high gas-barrier property also not lower the gas-barrier property and interlayer adhesive properties in each of a substrate, a vapour deposition thin-film layer and an adhesive layer even if it is under severe situations such as a boiling sterilization and heating-pressurizing sterilization.例文帳に追加

透明性・物理的な強度物性に優れ、且つ高いガスバリア性を有すると共に、高温、高湿、煮沸殺菌や加熱・加圧殺菌などの厳しい状況下であっても、ガスバリア性や基材、蒸着薄膜層、接着剤層のそれぞれの層間密着性が低下しないガスバリアフィルムを提供する。 - 特許庁

A diagnosing device calculates discharge amount (hereinafter referred to as block discharge amount Q) of a battery block of a battery with a voltage Vb reduced from a measurement start voltage Vs to a measurement end voltage Ve, for each battery block, to diagnose deterioration state of the battery due to metal lithium deposition, on the basis of the block discharge amount Q.例文帳に追加

診断装置は、バッテリの電池ブロックの電圧Ｖｂを測定開始電圧Ｖｓから測定終了電圧Ｖｅに低下させた時の電池ブロックの放電量（以下「ブロック放電量Ｑ」という）を各電池ブロックごとに算出し、ブロック放電量Ｑに基づいて金属リチウム析出によるバッテリの劣化状態を診断する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for supplying a gas, in which the mass of a source gas to be supplied and the total flow rate of a mixed gas and a dilute gas becomes constant, when a mixture gas of the source gas obtained by vaporizing a liquid material and a carrier gas is supplied as a reaction gas to a chemical vapor deposition unit.例文帳に追加

液体原料を気化した原料ガスとキャリアガスとの混合ガスを希釈ガスと共に反応ガスとして気相成長装置に供給する際、供給される原料ガスの質量および混合ガスと希釈ガスの総流量が一定となるようなガス供給方法およびその装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a color image forming apparatus in which deposition of foreign substances such as toner filming on a surface of a photoreceptor for black (Bk) image formation hardly occurs like photoreceptors for other color image formation and which can maintain high image quality over a long period of time, with respect to a tandem system image forming apparatus having a plurality of image forming units.例文帳に追加

画像形成ユニットを複数有するタンデム方式の画像形成装置における、黒色（Ｂｋ）画像形成用の感光体表面へのトナーフィルミング等、異物付着が少なく、そのほかの色画像形成用感光体と同程度で、長期間高画質を維持できるカラー画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To exhaust gas uniformly from the surface of a substrate, and to exhaust gas quickly while suppressing disturbance of gas flow even if a large quantity of gas is supplied, when an oxide film of high dielectric constant, e.g., a ZrO2 film, is deposited on a substrate by supplying film deposition gas and oxidizing gas alternately a plurality of times.例文帳に追加

成膜ガスと酸化性ガスを交互に複数回供給して、基板上に例えば高誘電率膜などの酸化膜例えばＺｒＯ2膜を成膜するにあたり、ガスを基板の表面から均等に排気すると共に、大量のガスが供給された場合でも、ガスの流れの乱れを抑えて速やかに排気すること。 - 特許庁

When the EGR amount is reduced by deposition of carbon, ignition timing control is continued as it is, and an EGR opening θegr is corrected so that a maximum cylinder internal pressure crank angle θPmax wherein a cylinder internal pressure reaches a maximum value is an optimum crank angle, and thereby, the EGR amount is controlled to be the best fuel consumption point.例文帳に追加

カーボンの堆積などでＥＧＲ量が低下したときには、そのままの点火時期制御を継続した上で、筒内圧が最大値に達する最大筒内圧クランク角θＰmaxが最適クランク角となるようにＥＧＲ開度θegrを補正することにより、ＥＧＲ量を最良燃費点に制御する。 - 特許庁

Deposition of the dust in external air caused by gravitational attraction and suction of dust existing on installation face of the fuel cell device can be prevented by arranging the filter on a side face of a body of equipment 6, and the lifetime of the filter 1 can be prolonged by piling a plurality of filter materials different in roughness of mesh.例文帳に追加

フィルター１が筐体６の側面に配置することによりフィルター１への外気中の塵埃の重力による堆積や、燃料電池装置の設置面に存在する塵埃の吸引を防止することが出来、目の粗さが違う複数のフィルター素材を重ねることで、フィルター１の寿命を伸ばすことが出来る。 - 特許庁

Thus, a case for evaporation diffusion process in which generation of deposition between the R-T-B system sintered magnet and the support is sharply reduced in comparison with a support such as a net in the lattice shape which is conventionally used, and a method for manufacturing the R-T-B system sintered magnet using the case are provided.例文帳に追加

これにより、従来用いられている格子状の網などの支持体とくらべて、Ｒ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石と支持体との溶着の発生を大幅に低減した蒸着拡散処理用ケース及びそのケースを用いたＲ−Ｔ−Ｂ系焼結磁石の製造方法を提供することができる。 - 特許庁

The film forming method is a method which produces deposition seeds by reacting a heated medium with a material gas and deposits an oxide film, the medium has a melting point higher than a temperature to produce deposit seeds, and the medium is covered with element to prevent oxidation.例文帳に追加

触媒体をイリジウム等の酸化防止する元素で被服することにより、触媒ＣＶＤ法により酸化膜を形成する際の触媒体選択の自由度が向上し、入手性を改善するとともに加工性に優れた触媒体を選択できるため、酸化膜の膜厚及び膜質の不均一性を低減できる。 - 特許庁

To provide a polishing composition hardly causing the coagulation of the abrasive grains in slurry or the deposition of the abrasive grains on the inner wall of a pipe, capable of reducing a dishing phenomenon, allowing the selective polishing of a bimetal, and having good flatness after a CMP process.例文帳に追加

スラリー中の砥粒の凝集や配管内壁への砥粒の堆積が生じにくい研磨組成物が提供するとともに、ＣＭＰ工程に用いた場合に、ディッシング現象が低減でき、バリアメタルの選択的な研磨が可能であり、かつ、ＣＭＰ工程後の平坦性が良好な研磨組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing electrophotographic photoreceptor which is capable of efficiently and easily manufacturing a photoreceptor having decreased defects at a low cost even by using an inexpensive aluminum pipe stock material of low purity by effectively removing the deposition of burrs and chips produced during a machining process and an electrophotographic photoreceptor which can be obtained by the method.例文帳に追加

切削加工時に発生するバリ、キリコ付着を、効果的に除去し、純度の低い安価なアルミニウム素管材料を用いても、画像欠陥の少ない感光体を、効率よく容易に低コストで製造することができる電子写真感光体の製造方法と、これによって得られる電子写真感光体とを提供する。 - 特許庁

The polarizing element 1 includes: a substrate 11A; a plurality of metal filaments 18A provided on the substrate 11A by patterning a metal film by means of etching; and a deposition film 118 formed in an upper end part of each metal filament 18A, by chemical reaction of an etching gas with an etching product when etching the metal film.例文帳に追加

基板１１Ａと、金属膜をエッチングによりパターニングし基板１１Ａ上に設けられた複数の金属細線１８Ａと、金属膜のエッチング時におけるエッチングガス及びエッチング生成物が化学反応することで各金属細線１８Ａの上端部に形成されてなる堆積膜１１８とを備えた偏光素子１である。 - 特許庁

In the manufacturing method of the electrode for the lithium secondary battery formed by depositing the thin film of the active material on the current collector 1 with a thin film forming device indicated in Fig 1, the height of the projection formed on the surface of the electrode is lowered by applying pressure treatment after the deposition of the thin film.例文帳に追加

図１に示されるような薄膜形成装置を用い、集電体１上に活物質の薄膜を堆積させるリチウム二次電池用電極の製造方法において、前記薄膜の堆積後に加圧処理を行うことによって、電極の表面に形成された突起の高さを低減せしめることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium which is obtained by a vacuum vapor deposition process for forming a thin magnetic metallic film under introduction of oxygen and has a high recording capacity to make a high output obtainable in spite of the low noise applicable to an ALT3 format and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

酸素を導入しながら、金属磁性薄膜を形成する真空蒸着プロセスによって得られる磁気記録媒体およびその製造方法において、ＡＩＴ３フォーマットに適用できる低ノイズでありながら高出力が得られる高記録容量の磁気記録媒体並びにその製造方法を提供する。 - 特許庁

By the titanium silicide target for thin film deposition having a target composition expressed by TiSi_x (wherein, x=2.0 to 2.7), having a W content of <50 ppm, and also comprising no precipitates of W compounds, a TiSi_x film having reduced generation of particles is obtained by sputtering.例文帳に追加

薄膜形成用チタンシリサイドターゲットにおいて、ターゲット組成がＴｉＳｉ_x（ここでｘ＝2.0〜2.7）と表され、ターゲット中のＷ含有量が50ppm未満であり、かつＷ化合物の析出物を含まないことを特徴とするチタンシリサイドターゲットによって、パーティクル発生の少ないＴｉＳｉ_x膜をスパッタリングによって得る。 - 特許庁

To provide an electrode capable of preventing degradation of conductive characteristics caused by paste deposition on the electrode when soldering a wire to a terminal through the conductive heat generation, and performing a consistent operation for a long time and adaptable to various kinds of terminal shapes without any defective soldering, and a soldering device and a soldering method thereof.例文帳に追加

通電発熱により電線と端子を半田付けする際に電極へのヤニ付着による通電特性悪化を防止し、半田付け不良を起こすことなく、長期間にわたり安定操業が可能でかつ種々の端子形状に対応可能な電極、半田付け装置、半田付け方法を提供する。 - 特許庁

Or a masking guide formed to be a pipe to conduct masking for vapor- deposition at a prescribed pitch is used to apply masking with a masking tape so as to expose only a surface of a dielectric body that becomes a helical element of the dielectric pipe and a prescribed metal is vapor-deposited to form the helical radiation element pattern.例文帳に追加

あるいは、パイプ状に形成されあらかじめ所定のピッチを持ち蒸着の際のマスキングを行うマスキングガイドを使用して、誘電体パイプのヘリカル素子となる部分の誘電体表面のみが露出するようマスキングテープによりマスキングを施し、所定の金属を蒸着してヘリカル放射素子パターンを形成する。 - 特許庁

Especially, the device for manufacturing multilayered film optical filters vapor-deposits a plurality of dielectric multilayered films on a substrate, and a plurality of film thickness monitors are installed in the peripheral direction of the substrate, and the evaporation rate profile is recognized by the plurality of film thickness monitors and is fed back to control the vapor-deposition source.例文帳に追加

特に、基板上に複数の誘電体多層膜を蒸着する多層膜光学フィルターの形成装置であって、基板周方向に複数個の膜厚モニターを設置し、前記複数個の膜厚モニターによって蒸着速度分布を把握し、フィードバックして蒸着源を制御することを特徴とする。 - 特許庁