「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(320ページ目) - Weblio英語例文検索

At this time, since the outer surface 30 of the negative electrode layer 3 has a part spreading outward from a part opposite to an edge part of the inner surface 40 of the auxiliary electrode layer 4, local deposition of the metal on the negative electrode layer 3 is prevented, and short circuit between the negative electrode layer 3 and the auxiliary electrode layer 4 is prevented.例文帳に追加

このとき、負極層３の外側面３０が、補助電極層４の内側面４０のエッジ部に対向する部位から外側に広がる部位を有するため、負極層３上に金属が局所的に析出することが防止され、負極層３と補助電極層４とが短絡することを防止することができる。 - 特許庁

A method for bonding between at least two substrates 1, 2 comprises deposition of at least one drop 8 of liquid adhesive on one of the two substrates and bringing the two substrates into contact causing spreading of the liquid adhesive followed by formation of a solidified adhesive layer between the two substrates.例文帳に追加

少なくとも２つの基板１、２同士を結合する方法は、２つの基板の一方上の液状接着剤の少なくとも１つの液滴８の配置と、２つの基板を接触させて液状接着剤を広がらせ、それに続いて、固化接着剤層を２つの基板間に形成することとを備える。 - 特許庁

The film forming apparatus has the heating device for vertically spraying high-temperature gas higher than the softening point temperature of a glass substrate to a surface 25 of the glass substrate 24 placed on a supporting rack 26, and simultaneously sprays gas for deposition 43 decomposed by heating along with the high-temperature gas to deposit a film onto the surface of the glass substrate.例文帳に追加

支持台２６上に載置されたガラス基板２４の表面２５に、このガラス基板の軟化点温度よりも高い高温ガスを垂直に吹き付ける加熱装置を有し、高温ガスとともに加熱分解して膜堆積を発生する堆積用ガス４３を前記ガラス基板の表面に同時に吹き付ける膜形成装置である。 - 特許庁

To provide a polycrystalline silicon manufacturing technique in which mounting of a silicon core wire into a core wire holder is easy, the time required to make the core wire holder hold the silicon core wire with satisfactory strength is shortened, falling is prevented, and it is made possible to shorten growth rate control time in the early stage of deposition reaction of polycrystalline silicon.例文帳に追加

シリコン芯線の芯線ホルダへの装着が容易であり、芯線ホルダにシリコン芯線を充分な強度で保持させるまでの時間を短くし、転倒を防止するとともに、多結晶シリコンの析出反応初期における成長速度抑制時間の短縮化を可能とする多結晶シリコン製造技術を提供すること。 - 特許庁

To provide a bismuth-based sealing material substantially containing no PbO and having excellent thermal stability and particularly free from occurrence of devitrification or the deposition of crystals even in primary firing at about 500°C and air-tightly sealing in secondary firing at 450-500°C in the manufacturing process of PDP (plasma display panel).例文帳に追加

ＰｂＯを実質的に含有せず、熱的安定性が良好なビスマス系封着材料を提供すること、特にＰＤＰの製造工程において、５００℃程度で一次焼成しても失透したり結晶が析出したりすることがなく、４５０〜５００℃の二次焼成で気密封着できるビスマス系封着材料を提供すること。 - 特許庁

The surface protection sheet for a solar cell module is formed by laminating gas barrier sheets on the opposite surface of a light irradiation surface of a base material sheet, and as for the gas barrier sheet, at least two or more gas barrier sheets which have an inorganic oxide vapor deposition thin film layer, a resin coated layer and a polymer film are laminated.例文帳に追加

基材シートの光照射面の反対側の面に、ガスバリアシートが積層された太陽電池モジュール用表面保護シートであって、該ガスバリアシートが、無機酸化物蒸着薄膜層、樹脂コート層、高分子フィルムを有するガスバリアフィルムが少なくとも２枚以上積層された太陽電池モジュール用表面保護シート。 - 特許庁

To provide an inexpensive light reflecting circuit for which the oblique deposition process is not required two times by eliminating the need for a counter mirror construction, and the circuit length is not lengthened superfluously according to a module size of an LD or a PD, and which is also excellent in packaging in respect of noise countermeasure of electronic circuitry.例文帳に追加

本発明は、対向ミラー構成を必要としないことにより、斜め蒸着プロセスを２回行うことなく、且つ、ＬＤやＰＤのモジュールサイズに合わせて不必要に回路長を長くすることがなく、且つ、電子回路のノイズ対策の点で実装性に優れた光反射回路を安価に提供することを目的とする。 - 特許庁

In the organometal chemical vapor deposition apparatus 3 for depositing a film on a substrate 2 by evaporating raw materials 1a and 1b of an organometallic complex, all or one part of the portion contacting with the raw materials 1a and 1b of the organometallic complex or the vaporized raw materials of the organometallic complex are formed of a insulating material 4.例文帳に追加

有機金属錯体原料１ａ、１ｂを気化させて基板２上に膜を堆積させる有機金属化学気相成長装置３において、有機金属錯体原料１ａ，１ｂ乃至気化した該有機金属錯体原料が接触する部分の全部又は一部を絶縁材料４により形成している。 - 特許庁

A manufacturing method of a light-emitting device sequentially include: a conductive member preparation step of preparing a conductive member 1 having a reflection film 1b; a light-emitting device disposition step of disposing a light-emitting device 3 on the reflection film; and a protective film formation step of forming a protective film 5 on the reflection film by an atomic layer deposition method.例文帳に追加

発光装置の製造方法は、反射膜１ｂを備える導電部材１を準備する導電部材準備工程と、反射膜上に発光素子３を配置する発光素子配置工程と、原子層堆積法により反射膜上に保護膜５を形成する保護膜形成工程と、を順に有する。 - 特許庁

The decontamination method prevents the deposition or growth of a solid compound as a contaminant on the inside wall surface of a passage constituent, such as a reaction tank, a crystallizer, a pipe, a liquid pumping machine, a heat exchanger, or a valve, where a reaction product fluid W transfers, or removes the solid compound deposited on such surface as a contaminant.例文帳に追加

汚れ排除方法においては、反応生成物流体Ｗが存在する反応槽、晶析槽、配管、送液機器、熱交換器、バルブ等の流路形成部の内壁面に、固体化合物が汚れとして付着もしくは成長することを予防する、又は汚れとして付着した固体化合物を除去する。 - 特許庁

To provide a method for producing a thin semiconductor film in an aqueous solution by which a thin film of a chalcogen compound semiconductor other than a sulfide semiconductor, e.g. CdSe, CdTe, ZnSe, ZnTe or CuInSe2 or Se or Te as a semiconductor of a simple substance, is produced by a PCD (photochemical deposition) method and to provide an apparatus for producing the thin semiconductor film.例文帳に追加

ＰＣＤ法により硫化物の化合物半導体以外のカルコゲン系の化合物半導体であるＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＣｕＩｎＳｅ_2 等と単体の半導体であるＳｅ、Ｔｅの水溶液中半導体薄膜の製造方法及びその製造装置を提供する。 - 特許庁

A deposition such as an object to be removed and flocks collected on a surface of a drum-like membrane 9 is moved toward the upper part than a liquid surface of fluid to be treated, and then is washed away from a membrane surface with shower-like purified water 25, and thereafter an UV ray generation lamp irradiates UV rays on the membrane surface.例文帳に追加

ドラム状にされた膜９の表面に捕捉された被除去物やフロック等の堆積物を被処理流体の液面より上方に移動させ、この堆積物を膜表面から、シャワー状の浄化水２５を使用して洗浄し、その後、膜表面に紫外線を照射する紫外線発生ランプを配置する。 - 特許庁

In the bond magnet consisting of rare earth iron based alloy magnetic powder and synthetic resin binder, the surface of the magnet is covered with an Ni based electroless deposition coating including phosphorus, and the thickness of coating is 2-15 μm, and a ratio V/S of magnet volume V to magnet superficial area S is more than 0.020(cc/cm^2).例文帳に追加

希土類鉄系合金磁性粉と合成樹脂バインダーよりなるボンド磁石において、磁石表面がリンを含有するＮｉ系無電解メッキによる皮膜で被覆され、皮膜の厚みは２μｍ〜１５μｍであり、磁石表面積Ｓに対する磁石体積Ｖの比Ｖ／Ｓが０．０２０（ｃｃ／ｃｍ^2）以上である。 - 特許庁

The magnetic head slider provided with a protective film on an ABS (air bearing surface) which is a side facing a rotationally driven disk recording medium is constituted in such a manner that the protective film has an Al_2O_3 film formed by an ALD (atomic layer deposition) method.例文帳に追加

本発明の磁気ヘッドスライダは、回転駆動される円盤状の記録媒体に対向する側であるＡＢＳ（Ａｉｒ Ｂｅａｒｉｎｇ Ｓｕｒｆａｃｅ）に保護膜を有する磁気ヘッドスライダであって、前記保護膜がＡＬＤ（Ａｔｏｍｉｃ Ｌａｙｅｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法によって形成されたＡｌ_２Ｏ_３膜を有してなるように構成される。 - 特許庁

The radiation image conversion panel 1 comprises the substrate 2 formed to have circular angle parts with a curvature radius R, the stimulable phosphor layer 3 formed on the surface of the substrate 2 by vapor phase deposition method, and protective films 4 and 5 covering and sealing the whole surface of the substrate 2 having the phosphor layer 3 formed thereon.例文帳に追加

放射線画像変換パネル１に、角部が曲率半径Ｒの円弧状となるように形成された基板２と、基板２の表面に気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体層３と、輝尽性蛍光体層３が形成された基板２の全表面を覆って封止する保護フィルム４，５と、を設ける。 - 特許庁

According to the air conditioner, dust including mold spores electrified with minus charge repels the metal plate to which the minus potential is applied, consequently, deposition of the dusts to the casing part is suppressed and accordingly, the interior of an indoor unit is kept clean for a long period of time and a comfortable indoor environment can be achieved.例文帳に追加

このような本発明によれば、マイナス電荷を帯びた黴胞子などを含む塵埃はマイナス電位が印加された金属板と反発するため、ケーシング部への当該塵埃の堆積を抑制でき、従って、室内機内部を長期的に清潔に保ち、快適な室内環境を実現することができる。 - 特許庁

Using metal compound powder, a metal compound film is formed on a glass base material by an aerosol deposition process, and the composite body of the metal compound film and the glass base material is heat-treated, thus the metal compound phase is converted into a metal silicate phase so as to produce the composite body of the metal silicate film and the glass base material.例文帳に追加

金属化合物粉末を用い、エアロゾルデポジション法によりガラス基材上に金属化合物膜を形成し、その金属化合物膜とガラス基材の複合体を熱処理することで、金属化合物相を金属ケイ酸塩相にすることで金属ケイ酸塩膜とガラス基材の複合体を製造する。 - 特許庁

To provide a silicon thin film deposition method utilizable for depositing a silicon thin film, e.g., onto a glass substrate for a liquid crystal display or a resin film having low heat resistance for electronic paper, and to provide a method of depositing a silicon thin film in producing a semiconductor integrated circuit at a lower temperature.例文帳に追加

液晶ディスプレイ用ガラス基板や、電子ペーパー用等、耐熱性が低い樹脂フィルム上へのシリコン薄膜の製膜に利用可能なシリコン薄膜の製膜方法を提供すること、また、半導体集積回路製造時に実施されるシリコン薄膜を、より低温で製膜する方法を提供すること。 - 特許庁

The transparent gas-barrier film 11 is equipped with a plastic base material film 111, a primer layer 112 which is formed on the one main surface of the base material film and contains a polyurethane having aromatic carboxylic acid groups and aliphatic carboxylic acid groups, and an inorganic oxide layer 113 formed on the primer layer by gas phase deposition method.例文帳に追加

透明ガスバリア性フィルム１１は、プラスチック基材フィルム１１１と、前記基材フィルムの一方の主面上に形成され、芳香族カルボン酸基と脂肪族カルボン酸基とを有するポリエステルウレタンを含んだプライマー層１１２と、前記プライマー層上に気相堆積法によって形成された無機酸化物層１１３とを具備する。 - 特許庁

To provide a method for producing a synthesis gas which can rapidly vanish 2C or higher hydrocarbons by a reaction using one and the same reactor having a simple structure and in a simple operational condition without causing a carbon deposition by the thermal decomposition of the 2C or higher hydrocarbons in the initial step of introducing the raw gas into the reactor.例文帳に追加

１つの同一のリアクターを用い、簡易な構造かつ簡易な操作条件で、リアクターへの原料ガス導入初期段階でＣ２以上の炭化水素が熱分解による炭素析出を起こさずに、Ｃ２以上の炭化水素を速やかに反応により消失させることができる合成ガスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus that prevents the deposition of low charged toner and reversely charged toner to a background section of an electrostatic latent image of a photoreceptor and prevents the occurrence of fog in the background section of a printed matter, when high-definition mode or character mode is set or when printing is performed on special paper.例文帳に追加

高画質モードもしくは文字モードが設定されている場合，又は特殊紙に印字する場合に，低帯電トナー及び逆帯電トナーが感光体の静電潜像の背景部に付着することを抑制し，印刷物の背景部にカブリを生じさせないような画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing toners by polymerization method which obviates the formation/deposition of deposits on members installed in the gaseous phase section of a vessel on upper end plate among the members constituting a polymerization and distillation device in a polymerization and distillation stage, and makes it possible to achieve the improvement in product quality and the reduction of a production cost.例文帳に追加

重合及び蒸留工程において、重合及び蒸留装置を構成する部材のうち、該容器の気相部に設置されているものや上部鏡板に付着物が生成／堆積することのない、製品の品質の向上が達成され、生産コストの削減が図られる重合法トナーの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a stable manufacturing method by vapor deposition of a rare-earth magnet powder whose surface is coated with an aluminum film which is useful for manufacturing a rare-earth bonded magnet having high corrosive resistance and oxidation resistance and superior in adhesiveness and film quality, and which is composed of fine crystal grains having superior magnetic characteristics.例文帳に追加

耐食性や耐酸化性に優れた希土類系ボンド磁石を製造するために有用な、密着性や膜質に優れたアルミニウム被膜で表面被覆され、かつ、優れた磁気特性を有する、微細な結晶粒で構成される希土類系磁石粉末の気相成長法による安定な製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a dust collection method of exhaust gas from sludge incinerator capable of separating incinerated ash contained in an exhaust gas from a sludge incinerator into high-temperature fly ash containing extremely small amount of deposition of heavy metals such as As and Se, and low-temperature fly ash containing a large amount of heavy metals such as As and Se.例文帳に追加

汚泥焼却炉排ガス中に含まれる焼却灰を、ＡｓやＳｅ等の重金属類の付着量が極めて少ない高温集塵灰と、ＡｓやＳｅ等の重金属類を多量に含む低温集塵灰とに分別して回収することができる汚泥焼却炉排ガスの集塵方法を提供する。 - 特許庁

The optical member has a plastic base material and multilayered antireflection films composed of inorganic vapor-deposited films and organic vapor-deposited films, in which the organic vapor-deposited films are formed by using an organic silicon compound and a silicon non-containing organic compound essentially consisting of carbon and hydrogen as raw materials for vapor deposition.例文帳に追加

プラスチック基材と、無機蒸着膜及び有機蒸着膜より構成される多層反射防止膜を有する光学部材であって、前記有機蒸着膜が有機ケイ素化合物と、炭素及び水素を必須成分とするケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料としたものである光学部材である。 - 特許庁

To provide an image reading apparatus for reading both sides of a document to be carried in a substantially U-shaped carrying passage capable of maintaining excellent reading accuracy of a reading means by removing foreign matters such as paper dust deposited on the document, and preventing deposition of the foreign matters fallen from the document.例文帳に追加

略Ｕ字状の搬送路を搬送される原稿の両面読み取りを行う画像読取装置において、原稿に付着した紙粉等の異物を除去し、また、原稿から落下した異物が搬送路に堆積することを防止することにより、読取手段の読取精度を良好に保つことができる手段を提供する。 - 特許庁

To prepare a high-reflection and low-resistance thin film which is useful as a reflection film, reflection electrodes, electrode, wiring, or the like, of a flat panel display(FPD), has high reflectivity, is stable, is low in electric resistance and is, in addition, excellent in film adhesion property and durability as well and a sputtering target usable for deposition of this thin film.例文帳に追加

ＦＰＤの反射膜、反射電極、電極および配線等として有用で、反射率が高く安定し、電気抵抗が低いことに加えて、膜密着性、耐久性にも優れた高反射低抵抗薄膜と、その薄膜を成膜するために用いることができるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁

To provide a thin film deposition method by which an area excepting mask material on a body to be processed where patterning of the mask material is performed is coated with liquid material, patterning is performed by means of the difference of wettability, and when the material is solidified thereafter, the shape of the pattern-formed thin film is made rectangular, and to provide the body to be processed having the thin film.例文帳に追加

マスク材がパターニングされた被処理体上において、マスク材を除く領域に液体材料を塗布し、濡れ性の差によりパターニングを行い、その後固化した際に、パターン形成された薄膜の形状を矩形化できる薄膜形成方法および薄膜を有する被処理体を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus which prevents a treatment liquid scattered from the front surface of a rotating substrate rebounds by the internal wall surface of a cup and which can prevent that the treatment liquid adheres to the inner wall surface of the cup while the treatment liquid stays on the inner wall surface of the cup for a long time, and is dried, to cause the deposition of impurities and a treatment liquid component.例文帳に追加

回転する基板の表面から飛散した処理液がカップの内壁面で跳ね返ることを防止し、処理液がカップの内壁面上に長く留まってカップ内壁面に処理液が付着し乾燥して不純物や処理液成分が堆積することを防止することができる装置を提供する。 - 特許庁

The optical member is configured by forming a protective layer such as a magnesium fluoride layer or an aluminum oxide layer by vapor deposition or another method on a light transmissive substrate of a cubic structure such as a magnesium oxide substrate, disposing an adhesive layer on the protective layer, and fixing an element layer of a polarizing element or a viewing angle compensating element.例文帳に追加

光学部材の構成を、酸化マグネシウムなどの立方晶構造の光透過性の基板上に、フッ化マグネシウム層や酸化アルミニウム層などの保護層を蒸着などにより形成し、該保護層上に粘着層を設けて偏光素子や視野角補償素子の素子層を固定する構成とする。 - 特許庁

The film capacitor is obtained by forming a metal electrode on both surfaces of a polyimide benzoxazole film using a sputtering method, deposition method, electric plating method or the like, the polyimide benzoxazole film being prepared using diamines with a benzoxazole skeleton and aromatic tetracarboxylic dianhydride as starting materials, and having an absolute value of a linear expansion coefficient of 5 ppm/°C or less.例文帳に追加

ベンゾオキサゾール骨格を有するジアミン類と芳香族テトラカルボン酸二無水物を出発材料とする線膨張係数の絶対値が５ｐｐｍ／℃以下のポリイミドベンゾオキサゾールフィルムの両面に、スパッタリング法、蒸着法、電気めっき法などにより金属電極を形成し、主題のコンデンサを得る。 - 特許庁

Pretreatment using plasma of a reactive ion etching (RIE) mode is applied to at least one surface of a polyethylene naphthalate (PEN)/polyethylene terephthalate (PET) co-extrusion film and a vapor deposition layer consisting of a metal or an inorganic compound of 5-100nm thickness is provided on the treated surface of the co-extrusion film to constitute the high performance barrier film.例文帳に追加

ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）／ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）共押し出しフィルムの少なくとも一方の面に、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）モードのプラズマを利用した前処理を施し、その上に厚さ５〜１００ｎｍの金属もしくは無機化合物からなる蒸着層を設けることを特徴とする高性能バリアフィルムである。 - 特許庁

To provide a cargo compartment for a truck capable of preventing deposition of dust by static electricity of the panel of the cargo compartment and conveying a cargo without impairing appearance of the cargo while keeping a panel surface clean, accurately pressing the cargo near a door without over-running even the cargo is large, and safely unloading the cargo without being dropped off.例文帳に追加

貨物室のパネルが静電気によるゴミの付着を防止し、パネル面を清浄に保って積荷の外観を損なうことなく搬送することができ、且つ大きな積荷でもオーバーランさせることなく正確に扉近傍まで押出すことができ、積荷を落下させることなく安全に荷降ろしができるトラックの貨物室を得る。 - 特許庁

Bonding property of a barrier layer to a foundation dielectric is improved by forming a bonding/interlaminar region (410) of a semiconductor substrate element (404) before deposition of a barrier layer (412), strength to the next mutual connection layer is improved without changing function of a barrier layer, and diffusion of Cu into a dielectric substrate is limited.例文帳に追加

バリア層（４１２）の堆積前に半導体基板素子（４０４）の接着／層間領域（４１０）を形成することによって、下地の誘電体に対するバリア層の接着性を改善し、バリア層の機能を変えることなく、次の相互接続層に対する強度を高め、Ｃｕの誘電体基板内への拡散を制限する。 - 特許庁

The base wafer 22 of the SOI wafer is composed of a single silicon crystal grown by the Czockralski method and the whole surface of the wafer 22 is on the outside of an OSF region, does not contain the defective region detected by the Cu deposition method, and contains an I region in which the dislocation cluster caused by interstitial silicon exists.例文帳に追加

ベースウエーハ２２が、チョクラルスキー法により育成されたシリコン単結晶であり、該ウエーハ全面がＯＳＦ領域の外側であって、Ｃｕデポジション法により検出される欠陥領域を含まず、且つ格子間シリコンに起因した転位クラスタが存在するＩ領域を含むものからなることを特徴とするＳＯＩウエーハ２６。 - 特許庁

To provide a device for supplying a raw liquid material which converts a liquid state of the raw liquid material into a gaseous state without using an additional gasification means, and can improve a uniformity of a film quality in a vapor deposition process and a reproducibility of the process, and to provide a method for forming a copper layer using the device.例文帳に追加

別途の気化手段を使用することなく液体状態の原料を気体状態に変化させるとともに、蒸着工程の際に膜質の均一性及び工程の再現性が改善できるようにした液体原料供給装置及びこれを用いた銅層形成方法を提供すること。 - 特許庁

A vacuum vapor deposition apparatus 10 comprises a vacuum chamber 11, an evaporation source 13 installed in the vacuum chamber, a stage 15 arranged opposite to the evaporation source, a rotating means 18 for rotating the stage in the plane, and an angle adjustment means 19 for changing the installation angle of the stage with respect to the evaporation source.例文帳に追加

本発明に係る真空蒸着装置１０は、真空チャンバ１１と、真空チャンバ内に設置された蒸発源１３と、蒸発源に対向して配置されたステージ１５と、ステージを面内で回転させる回転手段１８と、蒸発源に対するステージの設置角度を変化させる角度調整手段１９とを備える。 - 特許庁

In a method of forming the protective film of a silicon nitride (SiNx) film on a semiconductor surface of low-temperature polysilicon, material gas containing gas for H_2 passivation and Si is introduced into the semiconductor surface and a low-temperature plasma process is carried out to achieve H_2 passivation and deposition with a silicon nitride (SiN_x) film.例文帳に追加

低温ポリシリコンの半導体表面に窒化シリコン（ＳｉＮ_ｘ）膜の保護膜を形成する成膜方法において、半導体表面にＨ_２パッシベーション用ガスとＳｉを含む材料性ガスとを導入し、低周波プラズマ処理により、Ｈ_２パッシベーションと窒化シリコン（ＳｉＮ_ｘ）膜の成膜とを行う。 - 特許庁

The thickness of a center portion is 0.5 mm, the thickness is gradually reduced toward a peripheral part, and if the thickness is 0.4 mm in an outermost peripheral part, the film thickness correction plate is inclined by 30°, film deposition can be performed while the aperture ratio of the peripheral part is larger by about 8% than that of the peripheral part.例文帳に追加

そこで、中央部分の厚さが０．５ｍｍであり、周辺部に向かって板の厚さが徐々に減少し、最周辺部で０．４ｍｍであった場合、この膜厚補正板を３０°傾けて配置して成膜を行えば、周辺部の開口率が周辺部に比べて約８％大きい状態で成膜を行うことができる。 - 特許庁

The degradation determination part 530 for the battery determines that a failure of the battery 100 is caused by degradation due to abrasion, when the full charge capacity decreases and the internal resistance increases, and determines that a failure of the battery is caused by degradation due to deposition, when the full charge capacity decreases and the internal resistance does not increase.例文帳に追加

バッテリ劣化判定部５３０は、満充電容量が減少し、かつ内部抵抗が増大した場合に、バッテリ１００の故障が摩耗劣化によるものであると判定し、満充電容量が減少し、かつ内部抵抗が増大していない場合には、バッテリの故障が析出劣化によるものであると判定する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a tungsten sputtering target by which the occurrence of particle defect in film deposition can be suppressed even if powder having a particle size of a level identical with that of now generally distributed and commercially available powder is used, i.e., a tungsten target having high density, fine grain size and low oxygen content can be easily manufactured with stability at a low cost.例文帳に追加

現在一般的に市販・流通されている粒径の粉末を使用しても、成膜上のパーティクル欠陥の発生を抑え、すなわち、高密度・結晶粒径が微細、且つ酸素含有量が低いタングステンターゲットを低いコストで且つ安定して容易に製造できるスパッタリング用タングステンターゲットの製造方法を提供する。 - 特許庁

The tube body 2 made of PBN and the protective coat 3 made of PG are formed by a chemical vapor deposition method(CVD method), to thereby manufacture the stable and dense tube body 2 and protective coat 3 having the excellent heat resistance and thermal shock resistance sufficiently endurable against the temperature at 1,400°C or higher, namely the protecting tube 1 for a thermocouple A can be manufactured.例文帳に追加

又、PBN製の管本体２及びPG製の保護膜３を化学的気相成長法（CVD法）で形成することにより、1400℃以上の温度に十分に耐える耐熱性と耐熱衝撃性に優れた安定な緻密質の管本体２及び保護膜３を製造、つまり、熱電対Ａ用の保護管１を製作し得るようにした。 - 特許庁

This columnar steel form 1 for back-filling which is disposed between the back-fill space part 11a of a column leg part and a concrete deposition space part 16 around a steel frame column 13 installed on the column leg part so as to form a vertically partitioned wall surfaces and which is buried by the floor concrete 14 deposited on the upper side thereof.例文帳に追加

柱脚部における埋め戻し空間部１１ａと前記柱脚部に建て込む鉄骨柱１３の周囲のコンクリート打設空間部１６との境に、上下方向に仕切る壁面となるように配設され上部に打設される土間コンクリート１４で埋殺しにされる埋戻し用柱鋼製型枠１とするものである。 - 特許庁

The lower clad 2, the core 3, and an upper clad 4 are formed by a chemical vapor deposition (CVD) method, in which at least one kind of an oxygen additive amount, a nitrogen additive amount, and a silicon additive amount for a silicon oxynitride film is adjusted so that the core 3 has a desired refractive index higher than those of the clads 2 and 4.例文帳に追加

下部クラッド２、コア３及び上部クラッド４が化学気相成長法（ＣＶＤ法）により形成されており、コア３がクラッド２，４に比して所望の高屈折率となるように、シリコン酸窒化膜の酸素添加量、窒素添加量及びシリコン添加量の少なくとも一種が調節される。 - 特許庁

To provide a device component arranged at the inside of a film deposition device, a precleaning device or the like in which the peeling and falling of substance stuck thereto in a thin film shape are suppressed for a long time, so as to prevent the generation of the particles of a pollution source, and from which depositions can easily be removed upon the maintenance of the device.例文帳に追加

成膜装置、プレクリーニング装置等の内部に配置される装置構成部品に厚膜状に付着した物質の剥離、 脱落を長時間に亘って抑制して汚染源のパーティクルを発生させず、装置のメンテナンスに際しては、付着物を容易に除去することができる装置構成部品を提供すること。 - 特許庁