「Deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(321ページ目) - Weblio英語例文検索

The thin film is preferably obtained by using a target comprising CaTiO_3 containing the Bi element to form a thin film by a pulsed laser deposition method at a temperature of 600-1,000°C in an atmosphere having an oxygen pressure of 200-1,000 mTorr and by heat-treating the thin film in the atmosphere at a temperature of 900-1,100°C.例文帳に追加

前記薄膜は、ＣａＴｉＯ_３にＢｉ元素を添加したターゲットを用いて、２００ｍＴｏｒｒ以上１０００ｍＴｏｒｒ以下の酸素圧雰囲気、６００℃以上１０００℃以下の温度で、パルスレーザー堆積法により薄膜を形成し、大気中で９００℃以上１１００℃以下の温度で熱処理することが好ましい。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an organic EL panel by which highly accurate electroluminescent layers can be formed and in which the attachment and removal between a vapor-deposition mask and a vapor-deposited substrate are easy, to provide a manufacturing apparatus of an organic EL panel with a simple structure for implementing the manufacturing method, and to provide an organic EL panel manufactured with the manufacturing apparatus.例文帳に追加

高精細なエレクトロルミネッセンス層を形成することができ、また蒸着マスクと被蒸着基板の着脱が容易な有機ＥＬパネルの製造方法、この製造方法を実施するための簡便な構成の有機ＥＬパネルの製造装置及びこの製造装置で製造された有機ＥＬパネルを提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for plating a substrate where, in a process of closely and uniformly plating fine cavities such as fine grooves for wiring formed on a substrate with copper, a copper alloy or the like, the abnormal rising phenomenon (over plate) of a plating film as the harmful effect of bottom up film deposition (preferential growth from trench or via bottoms) can be suppressed.例文帳に追加

基板に形成された微細な配線用の溝等の微細窪みに銅または銅合金等を隙間なく均一にめっきするプロセスにおける、ボトムアップ成膜（トレンチやビア底からの優先成長）の弊害である、めっき膜の異常盛り上がり現象（オーバープレート）を抑える基板のめっき方法および装置を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing the optical waveguide device, an under clad layer 2 and a core layer 3 are deposited on a quarts substrate 1 and further a cap layer 4 whose refractive index is equal to that of the under clad layer 2 is deposited on the core layer 3 successively under the same value of high frequency power by the use of a plasma CVD(chemical vapor deposition) device.例文帳に追加

本発明に係る光導波路デバイスの作製方法によれば、プラズマＣＶＤ装置を用いて、高周波電力値同一の下で、石英基板１上にアンダークラッド層２とコア層３と、さらにコア層３の上に、屈折率がアンダークラッド層２と等しいキャップ層４とが順次形成される。 - 特許庁

In the EB vapor deposition device, a shielding plate 12 made of a metal having a high melting point such as hafnium(Hf), ruthenium(Ru), iridium(Ir), niobium(Nb), molybdenum(Mo), tantalum (Ta), rhenium(Re) and tungsten(W) is disposed along the inner wall of a magnesia(MgO) crucible 4 so as to prevent direct contact between the cobalt(Co) 13 and the crucible 4.例文帳に追加

このＥＢ蒸着装置においては、マグネシア（ＭｇＯ）製ルツボ４の内壁に沿ってハフニウム（Ｈｆ），ルテニウム（Ｒｕ），イリジウム（Ｉｒ），ニオブ（Ｎｂ），モリブデン（Ｍｏ），タンタル（Ｔａ），レニウム（Ｒｅ），タングステン（Ｗ）等の高融点金属からなる遮蔽板１２を配置し、コバルト（Ｃｏ）１３と、ルツボ４とが直接接触しないようにしている。 - 特許庁

A method of manufacturing an antireflection film includes: step S3 of applying a hard coat to a substrate such as a plastic lens; step S4 of curing the hard coat; step S5 of cleaning the coat with a liquid; moisture percentage reduction step S6 of reducing the moisture percentage of the substrate; and step S13 of forming an antireflection film by vapor deposition of a metal oxide on the substrate.例文帳に追加

プラスチックレンズ等の基板にハードコートを塗布する工程Ｓ３と、ハードコートを硬化する工程Ｓ４と、液体で洗浄する工程Ｓ５と、基板の水分率を低下する水分率低下工程Ｓ６と、この基板に金属酸化物を蒸着して反射防止膜を形成する工程Ｓ１３とを有する。 - 特許庁

A porous insulation layer having a thickness of not thinner than 0.3 μm and not thicker than 3 μm is deposited on an activator layer of either a positive electrode plate having a positive electrode activator layer or a negative electrode plate having a negative electrode activator layer containing negative electrode activator particles, by a sputtering method, an ion plating method, or a CDV method (chemical vapor deposition method).例文帳に追加

正極活物質層を備えた正極板、または負極活物質粒子を含む負極活物質層を備えた負極板のうち、少なくともいずれかの活物質層上に厚みが０．３μｍ以上３μｍ以下の多孔質絶縁層をスパッタリング法、イオンプレーティグ法、ＣＶＤ法で堆積させる。 - 特許庁

When the metal foil is formed on the polymer film, after performing vapor deposition by the conductor metal film thickness of 1 μm or less, and being subjected to irradiation with a low-speed electron beam, electroplating is formed for 1 μm or more and 30 μm or less, and a film base material for a wiring board with enhanced adhesion of a resin film and a metal film is manufactured.例文帳に追加

ポリマーフィルム上に金属箔を形成する際、低速電子線を照射しながら導電体金属膜厚を１μｍ以下の厚さで蒸着形成した後、電気メッキを１μｍ以上３０μｍ以下形成して、樹脂フィルムと金属膜との密着性を高めた配線基板用フィルム基材を作製する。 - 特許庁

The O plate 86 is disposed between the liquid crystal display element 51 and a polarization beam splitter 48 in such a way that a direction L8 of the pretilt of a liquid crystal molecule 75 of a liquid crystal layer 69 and the fast axis L6 are parallel to each other, and further the vapor deposition direction 96 and the direction L8 are opposed to each other with respect to the z-axis.例文帳に追加

液晶層６９の液晶分子７５がプレチルトする方向Ｌ８と進相軸Ｌ６とが平行になるように、かつ、蒸着方向９６と方向Ｌ８とがｚ軸に対して反対側となるように、液晶表示素子５１と偏光ビームスプリッタ４８との間にＯプレート８６は配置される。 - 特許庁

In the system 6 for cooling the film deposition system, when energization, a low passage going from a piping connection port (a) to a piping connection port (c) is formed in a three port solenoid valve 6C, and further, a flow passage going from a piping connection port (c') to a piping connection port (a') is formed in a three port solenoid valve 6D.例文帳に追加

成膜装置を冷却するための冷却装置６では、通電時に、３ポート電磁弁６Ｃにおいて配管接続口ａから配管接続口ｃに向かう流路が形成されるとともに，３ポート電磁弁６Ｄにおいて配管接続口ｃ’から配管接続口ａ’に向かう流路が形成される。 - 特許庁

Next, a deposition process of depositing the films in such a manner that the films adjoin each other in the lamination direction and setting the thicknesses of the boundary diffusion layers existing at the boundaries for the films adjacent to each other in the lamination direction so as to be ≤50% of the thicknesses on the layers on the thinner sides among the adjacent films is performed.例文帳に追加

次に、積層方向において互いに隣接するように膜を成膜すると共に、積層方向に互いに隣接する膜の界面に存在する界面拡散層の厚みが、隣接する膜のうち薄い側の層の厚みの５０％以下となるように設定する成膜工程を実施する。 - 特許庁

To obtain a sputtering target comprising a composite of a chalcogenide and a silicate, which ensures suppression of generation of a nodule, high uniformity of film-deposition and high manufacturing efficiency and is useful for forming a protective film of a phase transition type optical disk; and to provide an optical recording medium with the protective film of the phase transition type optical disk formed by using the target.例文帳に追加

ノジュールの発生を抑制し、成膜の均一性を高め、生産効率を上げることができる、相変化型光ディスク保護膜形成に有用であるカルコゲン化物と珪酸化物の複合体からなるスパッタリングターゲット及び該ターゲットを使用して相変化型光ディスク保護膜を形成した光記録媒体を得る。 - 特許庁

In this method for manufacturing the capacitor, the capacitor is manufactured by forming the internal electrodes on the organic high polymer substrate which is provided with external electrode by vapor deposition or sputtering so that the internal electrodes come into contact with the external electrodes, and the dielectric film is formed by evaporating and polymerizing at least one or more kinds of monomers.例文帳に追加

また、本発明の薄膜コンデンサの製造方法は、外部電極付き有機高分子基板上に外部電極とコンタクトが取れるように内部電極を蒸着法、スパッタ法により形成し、誘電体膜を少なくとも一種類以上のモノマ−を蒸発させ、重合させることによりコンデンサ素を製造する。 - 特許庁

To improve plasma density and to increase a film forming speed by preventing the plasma radial direction diffusion generated in the space formed with facing electrodes having a cusp shape magnetic field arranged near the outer peripheral part of a discharge space in a sputter deposition apparatus to form a film on a substrate by a sputtering method.例文帳に追加

基板面上にスパッタリング法により成膜するスパッタデポジション装置において、放電空間の外周部近傍に設けたカスプ状磁場によって、対向した電極で形成される空間内に生成させるプラズマの径方向拡散を防止して、プラズマ密度の向上と成膜速度の向上を目的とする。 - 特許庁

To provide a method for performing electric dialysis in stable state over an extended time period owing to absence of scale deposition onto the surface of ion-exchange membrane during electric dialysis, when manufacturing a dealkalized water glass solution preferably used as a ground improver by dealkalizing a water glass solution through electric dialysis using ion exchange membrane.例文帳に追加

イオン交換膜電気透析法により水ガラス溶液を脱アルカリして、地盤改良材として好適に使用できる脱アルカリ水ガラス溶液を製造するに際し、電気透析中にイオン交換膜の表面にスケールが付着することがなく長時間安定して電気透析を行うことができる方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a sputtering target composed of a composite of a chalcogenide and silicate advantageous for forming a protective film of phase change type optical disk with which production efficiency can be enhanced by suppressing the occurrence of nodules and enhancing the uniformity of deposition, and to provide an optical recording medium with the protective film of phase change type optical disk formed thereon by the target.例文帳に追加

ノジュールの発生を抑制し、成膜の均一性を高め、生産効率を上げることができる、相変化型光ディスク保護膜形成に有用であるカルコゲン化物と珪酸化物の複合体からなるスパッタリングターゲット及び該ターゲットを使用して相変化型光ディスク保護膜を形成した光記録媒体を得る。 - 特許庁

When a film of a titanium compound is formed on a substrate by a chemical vapor deposition method, a gaseous starting material containing titanium tetrachloride is passed through the surface of metal titanium, so as to be a gas containing titanium trichloride, thereafter, the titanium trichloride-containing gas is introduced into a film forming furnace, and a film of a titanium compound is formed on the substrate in the film forming furnace.例文帳に追加

化学的気相成長法により、基板上にチタン化合物を成膜するに際し、四塩化チタンを含有する原料ガスを、金属チタン上に通して三塩化チタンを含有するガスとしたのち、この三塩化チタン含有ガスを成膜炉内に導き、該成膜炉内で基板上にチタン化合物を成膜する。 - 特許庁

To provide a producing method for semiconductor device, with which the deposition of polymerized films on the surface of a wafer is suppressed in the case of etching an insulating film with a resist pattern as a mask and satisfactory alloy reaction can be provided between a metal depositing film and the surface of the wafer while unnecessitating the mask formation of a side in a following lift-off process.例文帳に追加

レジストパターンをマスクとする絶縁膜のエッチングの際に基板表面への重合膜の堆積を抑制し、その後のリフトオフ工程におけるサイドのマスク形成を不要としながら金属蒸着膜と基板表面との間の良好なアロイ反応を得ることができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method for improving an electrostatic aggregation comprises forming coating films by electrostatic spray using an electrostatic aggregation- resistant coating composition containing vehicle, brilliant pigments and/or color pigments and water-based pigments dispersing agent and decreasing aggregation and deposition of coating spray particles on a pole of an electrostatic spray gun.例文帳に追加

静電スプレー塗装にて塗膜の形成を、ビヒクル、光輝性顔料および／または着色顔料、ならびに水性顔料分散剤を含有する耐静電凝集性塗料組成物を用いて行うことにより、静電スプレーガンの電極に塗料スプレー粒子が凝集付着することを低減する静電凝集改善方法。 - 特許庁

The film thickness distribution k(x, y) of a sample 13 is monitored by a distribution monitoring section 18 during operating a film deposition process by a plasma P and a gap distribution control section 15 is controlled by a control section 19 so as to control a non-uniform gap distribution g(x, y) according to the monitoring result.例文帳に追加

プラズマＰによる膜形成プロセスの稼動中に、分布モニタリング部１８が試料１３の膜厚分布ｋ（ｘ、ｙ）をモニタリングし、モニタリング結果に基づいて、制御部１９が、ギャップ分布調整部１５を制御して、不均一なギャップ分布ｇ（ｘ、ｙ）を調整するので、予備的な実験・評価を繰り返す必要がない。 - 特許庁

An oxide film modification apparatus 1 is provided with: a treatment furnace 3 which stores a substrate 2 with the oxide film (for example, silicon oxide film) deposited thereon by the chemical vapor deposition, and which is supplied with ozone-containing gas; and a light source 4 which irradiates the oxide film on the substrate 2 in the treatment furnace 3 with light having ultraviolet light.例文帳に追加

酸化膜改質装置１は、化学蒸着法によって酸化膜（例えばシリコン酸化膜）が形成された基板２を格納すると共にオゾン含有ガスが供給される処理炉３と、この処理炉３内の基板２上の酸化膜に紫外光を有する光を照射する光源４を備える。 - 特許庁

Thereby, while controlling deposition of solid SiC through infiltration of raw material gases 3 or the like into the heat-insulating base material 10a by virtue of the graphite sheet 10b, further chemical reaction of the graphite sheet 10b with components contained in etching gases and raw material gases is controlled by virtue of the high-melting point metal carbide film 10c.例文帳に追加

これにより、黒鉛シート１０ｂによって断熱基材１０ａに原料ガス３などが浸入することで固体ＳｉＣが析出することを抑制しつつ、さらに高融点金属炭化膜１０ｃによって黒鉛シート１０ｂがエッチングガスや原料ガス３に含まれる成分と化学反応することを抑制できる。 - 特許庁

When a high frequency electric power of 100 MHz is supplied to an antenna 5 which is provided in a vacuum vessel 1 by a high frequency power source 4 for the antenna, plasma is generated in the vacuum vessel 1 and plasma processing such as etching, deposition surface improvement and so on for a substrate 7 which is mounted on a substrate electrode 7 can be performed.例文帳に追加

アンテナ用高周波電源４により１００ＭＨｚの高周波電力を真空容器１内に設けられたアンテナ５に供給することにより、真空容器１内にプラズマが発生し、基板電極６上に載置された基板７に対してエッチング、堆積、表面改質等のプラズマ処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide a system for efficiently atomizing and supplying a raw material solution of a very small amount in micro-plasma, and a technology for depositing reaction products and materials on a substrate by a CVD method, a PCVD thermal spraying method, a vapor deposition method or the like by utilizing micro-plasma from the raw solution.例文帳に追加

マイクロプラズマ中に極微量の溶液原料を効率的に霧化・供給させるシステム及びその溶液原料からマイクロプラズマを利用してＣＶＤ法、ＰＣＶＤ法溶射法、蒸着法等により、基板上に反応生成物や材料等をデポジション又は堆積させるための技術を提供する。 - 特許庁

Such an endless belt is constituted by providing a lubricant film layer 43, formed by performing vacuum deposition of, for example, zinc stearate and applying the zinc stearate by solving it in solvent on the whole area of the surface of a belt base 42, for example, whose principal component is polyimide or a part of an image forming area, etc.例文帳に追加

そのような無端ベルトにおいて、例えばポリイミドを主成分とするベルト基体４２の表面の全領域、または画像形成領域などの一部の領域に、例えばステアリン酸亜鉛を真空蒸着したり、溶剤に溶かして塗布したりすることにより形成した潤滑剤膜層４３を設けてなる。 - 特許庁

To enhance the production efficiency of a thermoplastic resin sheet mainly comprising an aliphatic polyester without forming a defect to the sheet by suppressing the deposition of an oligomer on the surface of a cooling drum for molding a thermoplastic resin into a sheetlike shape at the time of molding of the thermoplastic resin sheet.例文帳に追加

本発明の課題は、脂肪族ポリエステルを主成分とする熱可塑性樹脂シートを成形するに際し、熱可塑性樹脂をシート状に成形する冷却ドラム表面へのオリゴマ堆積を抑制し、シートに欠点を生じさせずに生産効率の良い熱可塑性樹脂シートの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The apparatus 10 for manufacturing the thin film of lithium metal or lithium alloy by the vapor-phase process has: a heater 12 for melting the lithium metal adhering to the inner wall of the apparatus and/or the member provided inside the apparatus after thin film deposition; and a vessel 13 for recovering the resultant melted lithium metal.例文帳に追加

リチウム金属またはリチウム合金からなる薄膜を気相法により製造する装置１０は、薄膜を形成した後、装置の内壁および／または装置内に設けられた部材に付着したリチウム金属を溶融させるためのヒータ１２と、溶融させたリチウム金属を回収するための容器１３とを備える。 - 特許庁

To provide an inkjet recorder that solves the problem of defective deposition of ink which may be caused by an aluminum ion when a small amount of aluminum ion remains in the ink as impurity in the manufacturing or the aluminum ion is eluted into the ink from a material forming a device.例文帳に追加

微量なアルミニウムイオンが、製造時においてインク中に不純物として残留したり、機器を構成している材料から溶出して、インク中に混入した場合等において、該アルミニウムイオンに起因して起こり得るインクの着弾不良等の問題を解決したインクジェット記録装置を提供すること。 - 特許庁

After the supply of the trimethyl gallium and trimethyl aluminum is stopped at time t7 to stop the film deposition, the supply of the ammonium and hydrogen to the growth furnace is promptly stopped and nitrogen begins to be supplied to change an atmosphere of ammonium and hydrogen into an atmosphere of nitrogen in a chamber of the growth furnace.例文帳に追加

時刻ｔ７でトリメチルガリウム及びトリメチルアルミニウムの供給を停止して成膜を停止した後に、速やかに、成長炉へアンモニア及び水素の供給を停止すると共に窒素の供給を開始して、成長炉のチャンバ中においてアンモニア及び水素の雰囲気を窒素の雰囲気に変更する。 - 特許庁

To provide a biaxially oriented polyamide film for transparent vapor deposition suitable as a film for packaging, particularly for food packaging which has low elongation in the transverse direction (TD direction) when moisture is absorbed and has low oxygen and water vapor permeability after oxides such as silicon oxides (SiOx) and aluminum oxides are vapor-deposited.例文帳に追加

吸湿時に横方向（ＴＤ方向）の伸び率が低く、かつ酸化珪素（ＳｉＯｘ）や酸化アルミニウムなどの酸化物を蒸着した後の酸素透過度、水蒸気透過度も低く、包装用、特に食品包装用フィルムとして好適な透明蒸着用二軸延伸ポリアミドフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a metal oxide sintered compact which is a forming material for an optical thin film having high refractive index and small light absorbance and which is used as a material for vacuum deposition, wherein the crack of the material and the depression on a beam-irradiated surface or the like are not caused even when performing irradiation with electron beam of high current.例文帳に追加

高屈折率を有する光吸収率の小さい光学薄膜用材料であり、大電流の電子ビームの照射を行っても材料の割れやビーム照射面の陥没などの起こらない真空蒸着用材料として用いることのできる金属酸化物焼結体を提供する。 - 特許庁

A construction method of lining concrete constitutes a characteristic feature of injecting gas etc., in a hollow mat overhung to the lining concrete undeposited side from the form, making the hollow mat contact with the inside of primary lining before lining concrete deposition and depositing concrete in the neighbourhood of an end part on the lining concrete undeposited side of the form.例文帳に追加

覆工コンクリートの施工方法は、型枠より覆工コンクリート未打設側に張り出した中空マットに気体等を注入して、中空マットを覆工コンクリート打設前の一次覆工の内側に接触させ、型枠の覆工コンクリート未打設側の端部付近にコンクリートを打設することを特徴としたものである。 - 特許庁

The colored mirrors (16, 17) are manufactured by continuously performing two steps for depositing the reflection layer 20 and the coloring layer 21, and a plasma-polymerizing step for forming the protective membrane 22 inside the same chamber 24, and the pigment is deposited by a resistance-heating deposition using a color pigment chip 26 and a filament heater 27.例文帳に追加

着色反射鏡（１６，１７）の製造は、反射層２０及び着色層２１の二つの蒸着工程と、保護膜２２を形成するプラズマ重合工程を同一のチャンバー２４の内部で連続的に行い、顔料の蒸着は、カラー顔料チップ２６とフィラメントヒーター２７を利用した抵抗加熱蒸着により行う。 - 特許庁

To provide a surface treating agent which is suited for a liquid crystal display element equipped with a vertical orientation film composed of an oblique vapor deposition film of an inorganic oxide, and with which the temporal stability, alleviation of an image persistence phenomenon and lightfastness of the orientation are improved through surface treatment of the orientation film, and a method for the treatment.例文帳に追加

無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を備えた液晶表示素子に好適で、配向膜の表面処理により配向の経時安定性、焼き付き現象の緩和及び耐光性を向上させることが可能な表面処理剤及びその処理方法を提供する。 - 特許庁

A process for eliminating the oxide film formed on the surface of the silicon substrate 101, a process for forming the silicon nitride layer 102 on the surface of the silicon substrate 101 in temperature of 200-400°C by using an electronic layer vapor deposition method, and a process for forming the high dielectric film 103 on the silicon nitride layer 102, are also installed.例文帳に追加

また、シリコン基板１０１の表面に形成された酸化膜を除去する工程と、電子層蒸着法を用い２００℃〜４００℃の温度においてシリコン基板１０１の表面にシリコン窒化層１０２を形成する工程と、シリコン窒化層１０２の上に高誘電体膜１０３を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

The film deposition method is characterized in that plasma is generated inside the vacuum tank 11, multicusped magnetic fields for confining the plasma to the confinement spaces around the base materials 5 are formed, and a film is deposited on the surface of each base material 5 while rotating the base materials 5 with the central vicinity of each confinement space as the central axis.例文帳に追加

真空槽１１内に、プラズマを発生させると共に、プラズマを基材５の周辺の閉込め空間に閉じ込めるマルチカスプ磁界を形成し、基材５を閉込め空間の中心近傍を中心軸として回転させながら、基材５の表面に成膜を行うことを特徴とする成膜方法。 - 特許庁

In this radiation image conversion panel having a photostimulable phosphor layer on a support body, at least one layer of the photostimulable phosphor layer is formed to have 50 mμ to 20 mm of film thickness by a vapor deposition method, and the support body has 0.1 to 20 W/mK of thermal conductivity.例文帳に追加

支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層の少なくとも１層が気相法により５０μｍ〜２０ｍｍの膜厚を有するように形成され、該支持体の熱伝導率が０．１〜２０Ｗ／ｍＫであることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

The method for manufacturing a glass tube made of a porous glass is obtained by depositing a glass particle around a rod by a CDC and pulling out the rod after the deposition of the glass particle, wherein a coefficient of thermal expansion of the rod is 4×10^-7/K or more and 5×10^-6/K or less.例文帳に追加

ロッドの周囲にＣＶＤ法によりガラス微粒子を堆積させ、ガラス微粒子堆積後にロッドを引き抜くことにより多孔質ガラスからなるガラス管を製造する方法であって、前記ロッドの熱膨張係数が４×１０^−７／Ｋ以上５×１０^−６／Ｋ以下であることを特徴とするガラス管の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the catalyst layer for the fuel cell comprises a process of growing a carbonaceous porous material as a carrier of a catalyst layer having a nano-sized structure like carbon nano-wall (CNW), by vapor deposition; and a process of making the catalytic component and/or the electrolyte component to be carried/dispersed on the carrier of the catalyst layer.例文帳に追加

触媒層用担体としてカーボンナノウォール（ＣＮＷ）等のナノサイズ構造を有する炭素系多孔性材料を気相成長させる工程と、触媒成分及び／又は電解質成分を該触媒層用担体上に担持・分散させる工程とを含む燃料電池用触媒層の製造方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the porous glass preform comprises performing the high-speed multilayer deposition method by a system of turning back the reciprocating motion after moving the burners by a distance ±B around a reference point and setting the distance B at <1/2 the spacing L between the burners and changing the distance according to the growth of a glass particulate deposit.例文帳に追加

前記高速多層付け方法において、往復運動を基準点を中心に距離±Ｂだけ移動して折り返す方式で行い、距離Ｂをバーナ間隔Ｌの１／２未満とし、かつ、ガラス微粒子堆積体の成長に応じて変化させることを特徴とする多孔質ガラス母材の製造方法。 - 特許庁

In one embodiment, the method for low temperature aerosol deposition includes forming an aerosol of fine particles in an aerosol generator, dispensing the aerosol from the aerosol generator into a processing chamber toward a surface of a substrate, maintaining the substrate temperature at between 0 degrees Celsius and 50 degrees Celsius, and depositing a layer from a material in the aerosol on the substrate surface.例文帳に追加

一実施形態において、低温エアロゾル堆積方法は、エアロゾル発生器において微粒子エアロゾルを形成し、エアロゾル発生器から処理チャンバへ基板表面に向かってエアロゾルを分配し、基板温度を摂氏約０度〜摂氏５０度の間に維持し、エアロゾル中の材料から基板表面に層を堆積することを含む。 - 特許庁

To provide a method of producing a plate-shaped precision metal component, e.g. a metal mask such as a vapor deposition mask by which level difference caused by swelling owing to plating does not occur, deterioration in the accuracy of etching is not caused, and a base material is not eroded and thus can be repeatedly reutilized.例文帳に追加

メッキによる盛り上がりによる段差が生じることのない、エッチングの精度悪化を伴わない、母材を侵食することなく繰り返して再利用することが出来る、蒸着マスク等のメタルマスク等のプレート状の精密金属部品の製造方法を提供することが本発明の目的である。 - 特許庁

To improve the mechanical strengths or the like, of a structure composed of brittle material particulates by devising the particulate material to be used for an aerosol deposition method for forming the structure on a base material by blowing an aerosol formed by dispersing the particulates of the brittle material into gas at a high velocity to the base material from the tip of a nozzle.例文帳に追加

脆性材料の微粒子をガス中に分散させたエアロゾルをノズル先端から基材に高速で吹き付けて基材上に脆性材料微粒子からなる構造物を形成するエアロゾルデポジション法に用いる微粒子材料を工夫することで、構造物の機械強度等を向上させる。 - 特許庁

To avoid degradation of a conductor pattern due to high-temperature heat treatment in oxidizing atmosphere in crystallization of a ferroelectric film, and to avoid degradation of the ferroelectric film, generated accompanying the deposition of metal layers when a multilayer wiring structure is formed, in a semiconductor device containing the ferroelectric film.例文帳に追加

強誘電体膜を含む半導体装置において、強誘電体膜の結晶化の際の酸化雰囲気中における高温熱処理による導体パターンの劣化を回避し、また多層配線構造を形成する場合に金属層の堆積に伴い生じる強誘電体膜の劣化を回避する。 - 特許庁

First, chlorine ions or chlorine radicals are caused to react at depositions, i.e., aluminum component or fluorocarbon, in an etching chamber in order to remove the aluminum component by dry cleaning, and then fluorocarbon is caused to readhere to the remaining fluorocarbon by seasoning processing thus making uniform the deposition film.例文帳に追加

エッチングチャンバー内に付着したデポジション物質であるアルミ成分およびフロロカーボンに対し、まず塩素イオンまたは塩素ラジカルを反応させてアルミ成分を除去するドライクリーニング処理を行ない、引き続き残ったフロロカーボンに対し新たにフロロカーボンを再付着させるシーズニング処理を行なって、デポジション膜質を均一化させる。 - 特許庁