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「source-region」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索
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source-regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 4512



例文

A source region 71 is disposed outside the gate region so that it surrounds the drain region, and the source region is detached from an oxidized film for element separation 3 by a previously stipulated distance.例文帳に追加

さらに、ドレイン領域を囲むようにしてゲート領域の外側にはソース領域71が配置され、ソース領域は素子分離用酸化膜3と予め規定された距離離間している。 - 特許庁

Then an extending source/drain region 240 thinner than the deep source/drain region and extending toward a channel region under the gate electrode is formed in the upper region of the semiconductor substrate.例文帳に追加

次に、半導体基板の上部領域にはディープソース/ドレイン領域よりも薄く、かつゲート電極の下部のチャンネル領域に向かって延びたソース/ドレイン延長領域240が形成される。 - 特許庁

This electrode for an electron source has a substrate; an electron emission source region formed on the substrate; and a shield region enveloping the electron emission source region, and the shield region is formed with a material with which the electron emission source is not generated when the electron emission source is generated in a dry process.例文帳に追加

基板と、この基板上に形成された電子放出源領域と、この電子放出源領域の周囲を囲むシールド領域とを備えてなり、そのシールド領域は、乾式法により電子放出源を生成させるときに該電子放出源を生成させない材料で形成される。 - 特許庁

A semiconductor substrate 11 comprises an n^+-type semiconductor region 13 for composing a source region, a p-type semiconductor region 12 for composing a base region surrounding the source region, and a source electrode 21 that is arranged in the source region and comes into contact with the p- and n^+-type semiconductor regions 12, 13.例文帳に追加

半導体基板11は、ソース領域を構成するn+型半導体領域13と、ソース領域を囲繞するベース領域を構成するp型半導体領域12と、当該ソース領域に配置されp型半導体領域12とn+型半導体領域13とに接触するソース電極21と、を備える。 - 特許庁

例文

It is configured to apply a control voltage via a gate insulation region to the semiconductor region to control a current flowing between the source region and the drain region.例文帳に追加

半導体領域にゲート絶縁領域を介して制御電圧を加え、ソース領域とドレイン領域間で流れる電流を制御する。 - 特許庁


例文

The semiconductor device 100 comprises an n^+-type source region 31, an n^+-type drain region 11, a p^--type body region 41 and an n^--type drift region 12.例文帳に追加

半導体装置100は,N^+ ソース領域31,N^+ ドレイン領域11,P^- ボディ領域41およびN^- ドリフト領域12を備えている。 - 特許庁

A channel region 8, which is pinched by the source region 3 and the drain region 1, is formed on the surface side of the diffusion region 2.例文帳に追加

そして、ソース領域3およびドレイン領域1により挟まれ、前記拡散領域2の表面側にチャネル領域8が形成されている。 - 特許庁

A base region 13 is formed on the drift region 12 and column region 14, and a source region 15 is formed in a surface layer thereof.例文帳に追加

ドリフト領域12及びコラム領域14の上にはベース領域13が形成され、その表面層にはソース領域15が形成される。 - 特許庁

The semiconductor device 300 is provided with an n^+ source region 31, an n^+ drain region 11, a p^- body region 41 and an n^- drift region 12.例文帳に追加

半導体装置300は,N^+ ソース領域31,N^+ ドレイン領域11,P^- ボディ領域41およびN^- ドリフト領域12を備えている。 - 特許庁

例文

A body region 5, a drain region 4, a source region 9 and a body contact region 10 are formed on an epitaxial layer 3 having a gate trench 6.例文帳に追加

ゲートトレンチ6を有するエピタキシャル層3に、ボディ領域5、ドレイン領域4、ソース領域9およびボディコンタクト領域10を形成する。 - 特許庁

例文

The semiconductor device 100 includes an n^+ source region 31, an n^+ drain region 11, a p^- body region 41, a p^- floating body region 42, and an n^- drift region 12.例文帳に追加

半導体装置100は,N^+ ソース領域31,N^+ ドレイン領域11,P^- ボディ領域41,P^- フローティングボディ領域42およびN^- ドリフト領域12を備えている。 - 特許庁

The semiconductor device 100 includes an N^+-type source region 31, a contact P^+-type region 32, an N^+-type drain region 11, a P^--type body region 41 and an N^--type drift region 12.例文帳に追加

半導体装置100は,N^+ ソース領域31,コンタクトP^+ 領域32,N^+ ドレイン領域11,P^- ボディ領域41およびN^- ドリフト領域12を備えている。 - 特許庁

A collector region 209 is formed in the resurf region 202 isolated from the base region 206 so that a distance from the collector region 209 to the emitter/source region 208 may become shorter than a distance from the drain region 214 to the emitter/source region 208.例文帳に追加

リサーフ領域202内には、ベース領域206とは隔離してコレクタ領域209が、コレクタ領域209からエミッタ/ソース領域208までの距離がドレイン領域214からエミッタ/ソース領域208までの距離よりも短くなるように形勢されている。 - 特許庁

A body region 15 is formed inside the drain region 121, an N-type source region 16 is formed inside the body region 15, and a gate electrode 20 is disposed on a channel region between the drain region 121 and the source region 16, thereby forming the LDMOS.例文帳に追加

ドレイン領域121内にボディ領域15が形成され、ボディ領域15内にN型ソース領域16が形成され、ドレイン領域121とソース領域16間のチャネル領域上にゲート電極20が配置され、LDMOSが形成される。 - 特許庁

A semiconductor layer in which a thickness of a source region or a drain region is larger than that of a channel formation region is formed.例文帳に追加

ソース領域又はドレイン領域の膜厚がチャネル形成領域の膜厚よりも厚い半導体層を形成する。 - 特許庁

Further, a non-doped region 42 is formed in a position sandwiched between the source region and the drain region in the SOI layer.例文帳に追加

また、SOI層中のソース領域及びドレイン領域で挟まれた位置に、ノンドープ領域42が設けられている。 - 特許庁

On the 2nd gate region 6, an n^+-type source region 7 is formed and a 3rd gate region 8 is formed.例文帳に追加

そして、第2ゲート領域6の上にn^+型ソース領域7を形成すると共に第3ゲート領域8を形成する。 - 特許庁

An n^+-type source region 3 is formed within the base region 5 at a predetermined distance from the channel connecting region 4.例文帳に追加

ベース領域5内には、チャネル接続領域4から所定間隔離れてn^+型のソース領域3を形成する。 - 特許庁

A channel region is formed over the first layer, and a second source/drain region 235 is formed over the channel region.例文帳に追加

チャネル領域は、第1の層上に形成され、第2のソース/ドレイン領域235はチャネル領域上に形成される。 - 特許庁

A thin film transistor 1 includes a gate electrode 22, a source region 24, a drain region 25, and a channel region 26.例文帳に追加

薄膜トランジスタ1は、ゲート電極22と、ソース領域24、ドレイン領域25及びチャネル領域26を含んでいる。 - 特許庁

An insulating layers for storing electric charges are formed on edges of a channel region adjacent to the source region and the drain region.例文帳に追加

ソース領域及びドレイン領域に隣接したチャンネル領域のエッジ上に電荷貯蔵絶縁層が形成される。 - 特許庁

A source region and a drain region of the switch PMOS are formed in a well region having an inverse conduction type.例文帳に追加

スイッチPMOSのソース領域およびドレイン領域は、逆の導電型を有するウェル領域内に形成される。 - 特許庁

A semiconductor element comprises a gate region 1, a source region 2, and a drain region 3 formed on a silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板上に形成されたゲート領域1と、ソース領域2、ドレイン領域3とを備える半導体素子である。 - 特許庁

The semiconductor layer has a channel region, a heavily doped impurity region functioning as a source region and a drain region, and a lightly doped impurity region formed between the heavily doped impurity region and the channel region.例文帳に追加

半導体層は、チャネル領域と、ソース領域およびドレイン領域として機能する高濃度不純物領域と、高濃度不純物領域とチャネル領域との間に形成された低濃度不純物領域とを有する。 - 特許庁

Both sources are arranged, so that a plasma region of the Si sputtering source 3 and a plasma region of the Co sputtering source 4 overlap each other.例文帳に追加

そして、Siスパッタ源3のプラズマ領域とCoスパッタ源4のプラズマ領域とが重なるように配置されている。 - 特許庁

In addition, a first source region is formed using the same mask.例文帳に追加

さらに同じマスクを使用して第1ソース領域を形成する。 - 特許庁

To acquire a spectral radiance of a light source, including an ultraviolet region.例文帳に追加

光源の、紫外域を含む分光放射輝度を取得する。 - 特許庁

A drain contact 2a is formed on the drain region 2, and a source contact 3a is formed on the source region 3.例文帳に追加

前記ドレイン領域2の上にはドレインコンタクト2aが形成され、前記ソース領域3上にはソースコンタクト3aが形成される。 - 特許庁

Moreover, in the second region 3b, a contact plug 4 is made to connect the source/drain region 2 with the source/drain wiring is made.例文帳に追加

また、第2部分3bには、ソース・ドレイン領域2とソース・ドレイン配線とを接続するためのコンタクトプラグ4が形成されている。 - 特許庁

A common source wiring region (54) formed at the semiconductor substrate is connected to the source region via a connection hole (53H).例文帳に追加

半導体基板内に形成される共通ソース配線領域(54)は接続孔(53H)を介してソース領域に接続される。 - 特許庁

The light source emits pulse light to the imaging region.例文帳に追加

光源は、前記撮像領域に対してパルス光を照射する。 - 特許庁

LIGHTING UNIT EQUIPPED WITH LIGHT SOURCE, OPTICAL CONDUCTOR, AND POLARIZING REGION例文帳に追加

光源、光導体及び偏光領域を備える照明ユニット - 特許庁

The source potential (VSS) is applied to the region 11.例文帳に追加

P型のウェル領域11にはソース電位(VSS)を印加する。 - 特許庁

A diffusion layer depth of an N-type high concentration source region 107 is larger than that of an N-type low concentration source region 105b.例文帳に追加

N型高濃度ソース領域107は、N型低濃度ソース領域105bよりも拡散層深さが深くなっている。 - 特許庁

A source electrode 31 is formed on the source region 11, and a drain electrode 32 is formed on the drain region 13.例文帳に追加

ソース領域11上にはソース電極31が設けられ、ドレイン領域13上にはドレイン電極32が設けられている。 - 特許庁

A plurality of channels are formed on a single n+-type source region.例文帳に追加

単一のn+ソース領域に対し複数のチャネルを形成する。 - 特許庁

A second power source circuit 140C is disposed in the third region.例文帳に追加

第3領域には、第2電源回路140Cを配置する。 - 特許庁

A first power source circuit 140B is disposed in the second region.例文帳に追加

第2領域には、第1電源回路140Bを配置する。 - 特許庁

An amorphous silicon layer is patterned to form a filtering channel 63 for connecting an active layer region containing a crystallization source region 60, a source region 64, a channel region under a gate electrode 65, and a drain region 66.例文帳に追加

アモルファスシリコン層をパターニングし、結晶化ソース領域60とソース領域64、ゲート電極65下部のチヤネル領域、及びドレイン領域66を含む活性層領域を連結するフィルタリングチャンネル63を形成する。 - 特許庁

The element active portion 101 includes: a source region 105 and a drain region 106 located opposite each other in a gate length direction; and a channel region 107 interposed between the source region 105 and the drain region 106.例文帳に追加

素子活性部101は、ゲート長方向において互いに対向するソース領域105およびドレイン領域106と、ソース領域105とドレイン領域106との間に介在するチャネル領域107とを含む。 - 特許庁

A drain high concentration region 10D, a drain low concentration region 11D, a channel region, a source low concentration region 11S and a source high concentration region 10S are defined as in this order, along the first direction inside the surface on a polycrystalline silicon film 3.例文帳に追加

多結晶シリコン膜に、その面内の第1の方向に沿ってドレイン高濃度領域、ドレイン低濃度領域、チャネル領域、ソース低濃度領域、及びソース高濃度領域がこの順番に画定されている。 - 特許庁

A base region 44 and a source region 46 are formed on the surface side of such a semiconductor substrate 10, and a section between the source region 46 and the conductive region 42 is used as a channel region 47, thus constituting the transistor 1.例文帳に追加

このような半導体基板10の表面側にベース領域44とソース領域46とを形成し、ソース領域46と導電領域42との間をチャネル領域47とし、トランジスタ1を構成させる。 - 特許庁

A lead-out layer of the body region is arranged below a source region 14S via an insulating layer 4.例文帳に追加

ソース領域14Sの下に絶縁層4を介してボディ領域の引き出し層を設ける。 - 特許庁

The first p-type body region 50a and an n-type source region 120 are connected electrically.例文帳に追加

第1のp型ボディ領域50aと、n型ソース領域120とは、電気的に接続されている。 - 特許庁

Next, a second source-drain region 7 is formed in a front surface of the element formation region 150.例文帳に追加

次に、素子形成領域150の表面内に第二のソース・ドレイン領域7を形成する。 - 特許庁

Preferably, the light source contact part 4 has no active region and is of a device isolation region.例文帳に追加

光源接触部は、能動領域を有しない方が、また、素子分離領域であるのが好ましい。 - 特許庁

A source database contains data that represent geographic features in a region including roads in the region.例文帳に追加

ソースデータベースは、領域内の道路を含む領域内の地理的特徴を表わすデータを含む。 - 特許庁

A first gate electrode 20 is disposed between the drain region 121 and the N-type source region.例文帳に追加

ドレイン領域121とN型のソース領域との間に第1のゲート電極20が配置される。 - 特許庁

A base region 8 and a source region are formed using this film 37a as a mask.例文帳に追加

このLOCOS酸化膜37aをマスクとしてベース領域8及びソース領域を形成する。 - 特許庁

例文

A low-concentration source region 1b and a low-concentration drain region 1c overlap with an intersection Cd.例文帳に追加

低濃度ソース領域1b及び低濃度ドレイン領域1cは、交差部Cdに重なっている。 - 特許庁




  
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