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「collector region」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索
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collector regionの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 516



例文

In this HBT, a collector layer is comprised of a first collector layer 26, in contact with a collector contact layer 25 and a second collector layer 27 in contact with a base layer 28, and is further formed of an intrinsic collector region facing a mesa type emitter layer 29 and an external collector region outside the intrinsic collector area.例文帳に追加

HBTにおいて、コレクタ層を、コレクタコンタクト層25に接する第1のコレクタ層26とベース層28に接する第2のコレクタ層27とで構成するとともに、メサ型のエミッタ層29に対向する真性コレクタ領域とこの真性コレクタ領域の外側に位置する外部コレクタ領域とで形成している。 - 特許庁

An n^+ high-concentration region 10 is provided at a part of a surface layer of the p collector region 9.例文帳に追加

pコレクタ領域9の表面層の一部には、n^+高濃度領域10が設けられている。 - 特許庁

An n-type drain region 130 is electrically connected to an n-type collector region 230.例文帳に追加

n型ドレイン領域130と、n型コレクタ領域230とは、電気的に接続されている。 - 特許庁

A collector region 140 is formed in the well 110 and located outside the base region 150.例文帳に追加

コレクタ領域140はウェル110内に形成され、ベース領域150の外側に位置している。 - 特許庁

例文

A p-type collector region 103 is formed on a surface part of the n-type drift region 101.例文帳に追加

n型ドリフト領域101の表面部にp型コレクタ領域103が形成されている。 - 特許庁


例文

An n-type drain region 130 and an n-type collector region 230 are connected electrically.例文帳に追加

n型ドレイン領域130と、n型コレクタ領域230とは、電気的に接続されている。 - 特許庁

The well region 148 encloses a collector region 192 in a lateral PNP type transistor.例文帳に追加

井戸領域148が横形PNP形トランジスタ内のコレクタ領域192を取囲んでいる。 - 特許庁

The bipolar transistor includes: (1) a collector region 15 located at least in-part within a semiconductor substrate; (2) a base region 16 contacting the collector region; and (3) an emitter region 24 contacting the base region.例文帳に追加

バイポーラ・トランジスタは、(1)半導体基板内に少なくとも部分的に位置決めされたコレクタ領域15と、(2)コレクタ領域に接触するベース領域16と、(3)ベース領域に接触するエミッタ領域16Aとを含む。 - 特許庁

Furthermore, depletion layers 32 are respectively formed adjacent to the base layer in the intrinsic collector region and in the outer collector region thereof, and the thickness of the depletion layer formed in the outer collector region is set at two times or more and three times or less that formed in the intrinsic collector region.例文帳に追加

さらに、真性コレクタ領域内のベース層近傍位置及び外部コレクタ領域にそれぞれ空乏層32を形成し、かつ、外部コレクタ領域に形成された空乏層の厚さが真性コレクタ領域内に形成された空乏層の厚さの2倍以上でかつ3倍以下に設定している。 - 特許庁

例文

The width of the transition region of the collector layer is made about 70% of the thickness of the collector layer so that both reduction in the width of its low-impurity concentration region and an increase in the impurity concentration of its transition region can be attained concurrently.例文帳に追加

コレクタ層となるN−型エピタキシャル層を形成後、第1の熱酸化膜を形成し、その後熱処理を行って不純物の再拡散を行う。 - 特許庁

例文

The light receiving element 10 is a phototransistor comprising a collector region (Si substrate 11), a base region 12, and an emitter region 13.例文帳に追加

受光素子10は、コレクタ領域(Si基板11)、ベース領域12、エミッタ領域13からなるフォトトランジスタである。 - 特許庁

The collector region 15 is formed to be isolated from the emitter region 14 and to surround the emitter region 14.例文帳に追加

コレクタ領域15は、エミッタ領域14と離間するとともにエミッタ領域14を包囲するように形成されている。 - 特許庁

A collector region 209 is formed in the resurf region 202 isolated from the base region 206 so that a distance from the collector region 209 to the emitter/source region 208 may become shorter than a distance from the drain region 214 to the emitter/source region 208.例文帳に追加

リサーフ領域202内には、ベース領域206とは隔離してコレクタ領域209が、コレクタ領域209からエミッタ/ソース領域208までの距離がドレイン領域214からエミッタ/ソース領域208までの距離よりも短くなるように形勢されている。 - 特許庁

In the N-type region 202, an N-type drain region 213 and a P-type collector region 203 are formed separately from the base region.例文帳に追加

N型領域202内にベース領域とは離隔してN型のドレイン領域213及びP型のコレクタ領域203が形成されている。 - 特許庁

In an n-type silicon substrate, a high-concentration collector region 11 is formed and a low-concentration collector region 12 is formed on the entire surface.例文帳に追加

n型シリコン基板10内に高濃度のコレクタ領域11が形成され、全面に低濃度のコレクタ領域12が形成されている。 - 特許庁

This structure enables the metal layer 57 to be used as the collector region, and can remarkably reduce the sheet resistance value in the collector region.例文帳に追加

この構造により、金属層57がコレクタ領域として用いられ、コレクタ領域でのシート抵抗値を大幅に低減することができる。 - 特許庁

The second collector region 14 confronts the first part 11a of the base region 11 via the first collector region 13, and does not confront the second part 11b and an FLR(field-limiting ring) region 15.例文帳に追加

第2のコレクタ領域14を第1のコレクタ領域13を介してベース領域11の第1の部分11aに対向させ、第2の部分11b及びFLR領域15には対向させない。 - 特許庁

A diffusion suppression layer for suppressing the diffusion of an impurity contained in a base region in a collector region is provided in the connecting surface of a collector region and the base region of the bipolar transistor.例文帳に追加

バイポーラトランジスタのコレクタ領域とベース領域との接合面に、ベース領域に含有させた不純物がコレクタ領域に拡散するのを抑制するための拡散抑制層を設けることとした。 - 特許庁

An IGBT region 20 has a p^+-type collector region 30a, an n^--type drift region 34a, a p-type body region 36a, and an n^+-type emitter region 46.例文帳に追加

IGBT領域20は、p^+型のコレクタ領域30aと、n^−型のドリフト領域34aと、p型のボディ領域36aと、n^+型のエミッタ領域46を有する。 - 特許庁

A lateral insulated gate bipolar transistor (IGBT) 1 includes p-type collector regions 46, 48 and a p-type collector well region 44.例文帳に追加

横型IGBT1は、p型のコレクタ領域46,48とp型のコレクタウェル領域44を備えている。 - 特許庁

The lightly doped collector well creates a depletion region between the collector and the base to perform an operation with a high voltage.例文帳に追加

軽くドープされたコレクタ井戸が、コレクタ及びベースの間の空乏領域を作り、高い電圧での動作ができる。 - 特許庁

The thickness Dc of the low-concentration collector region 12 is set less than the width Wc of a depletion layer in the collector region 12 by forming a p-n junction with the collector region 12 and the base region 13 in a usual operation.例文帳に追加

そして低濃度のコレクタ領域12の膜厚Dcは、通常動作時にコレクト領域12とベース領域13とのpn接合によりコレクタ領域12に発生する空乏層幅Wcより小さく設定されていることを特徴としている。 - 特許庁

An emitter E, a collector C1, and a sub collector C2 are composed of an n-channel region, and the breakdown voltage between the sub collector C2 and a base B is higher than a breakdown voltage between the collector C1 and the base B.例文帳に追加

エミッタE、コレクタC1及びサブコレクタC2はn型領域からなり、サブコレクタC2−ベースB間の降伏電圧は、コレクタC1−ベースB間の降伏電圧より高い。 - 特許庁

A semiconductor region 31 of this lateral IGBT 100 includes a drift region 22, a body region 6, 16, an emitter region 12, a body contact region 8, a collector region 26, a buffer region 28 and a diffusion region 14.例文帳に追加

横型のIGBT100の半導体領域31は、ドリフト領域22とボディ領域6、16とエミッタ領域12とボディコンタクト領域8とコレクタ領域26とバッファ領域28と拡散領域14で構成されている。 - 特許庁

The IGBT 10 has an n-type buffer region 12 between a p-type collector region 11 and a p-type base region 14.例文帳に追加

IGBT10は、P型のコレクタ領域11とP型ベース領域14との間にN型のバッファ領域12を備える。 - 特許庁

A transistor is formed into a bevel structure which comprises an N+ type first collector region 2, an N- type second collector region 3, a P- type first base region 4, a P+ type second base region 5, and emitter region 6.例文帳に追加

N^+形の第1のコレクタ領域2とN^−形の第2のコレクタ領域3とP^−形の第1のベース領域4とP^+形の第2のベース領域5とエミッタ領域6とを有するトランジスタをベベル構造に形成する。 - 特許庁

A conductive region as a carrier collecting region can be formed deeper by providing a p-well 108 of the same conductivity type as a collector region 110 in the region just under the collector region 110, and thereby the region can be increased for collecting carriers released from an emitter region 112.例文帳に追加

コレクタ領域110の直下の領域にコレクタ領域110と同じ導電型を有するPウェル108を設けることによって、キャリア収集領域となる導電領域を深くし、エミッタ領域112から放出されるキャリアを収集することが可能な領域を増大させた。 - 特許庁

A base region 3a is formed on the collector region 1b of a semiconductor substrate 1, and an emitter region 6a is formed on the base region 3a.例文帳に追加

半導体基板1のコレクタ領域1b上にはベース領域3aが形成されており、ベース領域3a上にはエミッタ領域6aが形成されている。 - 特許庁

A surface layer on a reverse side of the n-type drift region 1 is provided with a p-type collector region 7.例文帳に追加

n型ドリフト領域1の裏面の表面層には、p型コレクタ領域7が設けられている。 - 特許庁

Regions where the dangling bonds are generated serve as the n-type emitter region 2e and collector region 2c.例文帳に追加

これらのダングリングボンドが生成された領域がn型のエミッタ領域2e及びコレクタ領域2cとなる。 - 特許庁

On the reverse surface side of the n^- support substrate 1, an FS region 8 and a p collector region 9 are provided.例文帳に追加

n^-支持基板1の裏面側には、FS領域8およびpコレクタ領域9が設けられている。 - 特許庁

The N+ type second collector region 6 is provided inside the first base region 2 as seen in planar view.例文帳に追加

N^+ 型の第2のコレクタ領域6を平面的に見て第1のベース領域2の内側に配置する。 - 特許庁

The tip of the n well region 6 is formed so that it can not reach the p^+-collector region 4.例文帳に追加

Nウェル領域6の先端は、P+型コレクタ領域4に到達しないように形成されている。 - 特許庁

A conduction passage of N type polysilicon is provided to reach a substrate while penetrating the base region and the collector region.例文帳に追加

ベース領域、コレクタ領域を貫通し、基板まで達するN型ポリシリコンの導電路を設ける。 - 特許庁

The external base layer 20 is formed on the extrinsic collector region 18b.例文帳に追加

外部ベース層20は、外因性コレクタ領域18b上に設けられている。 - 特許庁

The first collector layer 30 is heavily doped so that electrons in the collector region 50 migrate to the base region 20 through tunnel effect under room temperature.例文帳に追加

第1コレクタ層30は、室温でコレクタ領域50の電子がトンネル効果によりベース領域20に移動するように、高い濃度にドーピングされている。 - 特許庁

The first collector layer 30 is provided contiguously to the base region 20.例文帳に追加

第1コレクタ層30は、ベース領域20に隣接して設けられている。 - 特許庁

A collector region is formed preferably by an intrinsic layer of amorphous silicon.例文帳に追加

また、コレクタ領域は、好ましくはアモルファスシリコンの真性層で形成される。 - 特許庁

The expansion cavities (4) are formed in the concave region of the current collector (2).例文帳に追加

膨張キャビティ(4)は、電流コレクタ(2)の凹状領域内に形成される。 - 特許庁

The MOS gate structure 30 is formed of the first collector region 21, the second collector region 26, the first base region 24, a gate insulating film 31 and a gate electrode 32.例文帳に追加

MOS型ゲート付き構造30は、第1コレクタ領域21、第2コレクタ領域26、第1ベース領域24、ゲート絶縁膜31およびゲート電極32によって形成されている。 - 特許庁

In a lateral bipolar transistor where a collector region and an emitter region are juxtaposed above a base region, the collector region and the emitter region are formed by diffusing P type or N type impurities contained in a silicon germanium layer in the base region.例文帳に追加

本発明では、ベース領域の上部にコレクタ領域とエミッタ領域とを並設してなる横型バイポーラトランジスタにおいて、コレクタ領域及びエミッタ領域は、シリコンゲルマニウムに含有させたP型又はN型の不純物をベース領域内で拡散させて形成した。 - 特許庁

Furthermore, a collector n^+ type region 18 is formed so that the collector n^+ type region 16 may be connected to the buried n^+ type region 12, while a base sink p-type region 19 is formed so that the emitter n^+ type region 17 may be connected to the buried n^+ type region 12.例文帳に追加

また、コレクタn^+ 型領域16と埋め込みn^+ 型領域12を接続するようにコレクタシンクn^+ 型領域18が形成され、エミッタn^+ 型領域17と埋め込みn^+ 型領域12を接続するようにベースシンクp型領域19が形成されている。 - 特許庁

While a collector region 107 being formed in the reduced surface field region 101, a summit semiconductor layer 110 electrically connected with the base region 102 is formed so as to be isolated from the collector region 107.例文帳に追加

リサーフ領域101内には、コレクタ領域107が形成されていると共に、ベース領域102と電気的に接続する頂上半導体層110が、コレクタ領域107と隔離するように形成されている。 - 特許庁

For the BiPT 210, the drain region is made a collector region, and the well 11 is made a base region, and an n-type impurity diffused layer isolated from the drain region is made an emitter region 60.例文帳に追加

BiPT210はドレイン領域をコレクタ領域とし、ウェル11をベース領域とし、ドレイン領域と分離されるN型不純物拡散層をエミッタ領域60とする。 - 特許庁

It has a collector electrode 9 formed in contact with the n^- region 2c.例文帳に追加

n^-領域2cに接するように形成されたコレクタ電極9を備える。 - 特許庁

The n-type circular isolation region is formed circularly underneath from the element isolation region, surrounds the periphery of a p-type collector region and the periphery of an upper part of the n-type lower part isolation region, and isolates the p-type collector region electrically from the substrate.例文帳に追加

n型環状分離領域は、素子分離領域から下方に環状に形成され、p型コレクタ領域の周囲及びn型下部分離領域の上部の周囲を取り巻き、p型コレクタ領域を基板から電気的に分離している。 - 特許庁

Further, the second N well 11 is formed so as to be located at a region immediately below a collector impurities diffusion region 12.例文帳に追加

また、第2Nウェル11は、コレクタ不純物拡散領域12の右下の領域にくるように形成する。 - 特許庁

The collector layer 11 is an N-type semiconductor region and the first base layer 12 is a P-type semiconductor region.例文帳に追加

コレクタ層11は、N型半導体領域であり、第1のベース層12は、P型半導体領域である。 - 特許庁

The second n-type body region 54a and the second n-type collector region 430 are connected electrically.例文帳に追加

第2のn型ボディ領域54aと第2のn型コレクタ領域430とは電気的に接続されている。 - 特許庁

例文

The silicon semiconductor layer 13 includes an emitter region 14 in contact with an emitter electrode 20, a collector region 15 in contact with a collector electrode 21, and a center semiconductor region composed of a body region 17, a part of a buffer region 19, and a drift region 16.例文帳に追加

シリコン半導体層13は、エミッタ電極20に接しているエミッタ領域14と、コレクタ電極21に接しているコレクタ領域15と、ボディ領域17及びバッファ領域19の一部とドリフト領域16とからなる中央半導体領域とを備えている。 - 特許庁




  
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