「defect position」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The position of the defect section 71 can be fluoroscopically grasped by the imaging marker 4.例文帳に追加

Ｘ線透視下で、欠損部７１の位置は、造影マーカ４により把握することができる。 - 特許庁

To provide a technique of specifying the position of a microscopic defect in an insulating film with high accuracy.例文帳に追加

絶縁膜中の微小欠陥の位置を高精度で特定する技術を提供する。 - 特許庁

The low-magnification inspecting image is image-processed so as to confirm and store the position of the crystal defect in a position confirming step S3.例文帳に追加

位置確認ステップＳ３は、低倍率検査画像を画像処理して結晶欠陥の位置を確認及び記憶する。 - 特許庁

METHOD FOR ACQUIRING THREE-DIMENSIONAL PROFILE OF PIPELINE, METHOD FOR LOCATING BURIED POSITION OF PIPELINE, AND METHOD FOR LOCATING DEFECT POSITION OF PIPELINE例文帳に追加

パイプラインの３次元プロファイルを求める方法、パイプラインの埋設位置特定方法、パイプラインの欠陥位置特定方法 - 特許庁

To provide an evaluating method of an internal defect of a sample capable of exactly evaluating the existence of the defect, even when the sample has the defect even at a position considerably deep from the surface.例文帳に追加

表面より十分に深い位置にまで欠陥を有する試料であっても、欠陥の有無を的確に評価できる試料内部欠陥の評価方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a nondestructive defect inspection system capable of detecting automatically the presence of a defect or a hole in an inside, and a position thereof, in the nondestructive defect inspection system using an X-ray.例文帳に追加

Ｘ線を用いた非破壊欠陥検査システムであって、内部の欠損や空孔の有無および位置を自動的に短時間で検出する非破壊欠陥検査システムを提供する。 - 特許庁

To access a defect position quickly and surely when a defect on a semiconductor wafer detected by a defect inspection apparatus is reviewed and analyzed by means of a charged beam system.例文帳に追加

荷電ビーム装置で欠陥検査装置で検出された半導体ウェハの欠陥をレビュー，分析するに際し、欠陥位置へのアクセスが迅速かつ的確に行なうことを可能にする。 - 特許庁

To provide a defect position information generation device and the like for enabling an inspector to speedily identify a defect part in a long sheet material without directly marking the defect part.例文帳に追加

欠陥箇所に直接マーキングすることなく、検査官が長尺シート材における欠陥箇所をすみやかに特定することのできる欠陥位置情報生成装置等を提供する。 - 特許庁

A defect detecting algorithm is applied to the image data to extract a defect pixel by a defect extracting part 40, which is stored as a black flaw position in a second area of the first storing part 20.例文帳に追加

該画像データに欠陥抽出部４０で欠陥検出アルゴリズムを適用して欠陥画素の抽出を行い、黒きず位置として第１記憶部２０の第２領域に格納する。 - 特許庁

Further in the pattern forming apparatus 1, additional coating data 45 is formed by detecting the existence and the position of defects such as a white defect, a black defect or the occurrence of projecting part and additional coating is carried out on the defect position based on the additional coating data 45.例文帳に追加

また、パターン形成装置１は、基板上の白欠陥、黒欠陥、突起等の欠陥の有無及び位置を検出し、追加塗布データ４５を作成し、当該追加塗布データ４５に基づいて、欠陥箇所に追加塗布を行う。 - 特許庁

Further, the 1st image is moved by the virtual movement distance according to the detected pixel defect position and a 2nd pixel defect correction table is generated based upon the 1st image which is moved and the pixel defect position.例文帳に追加

更に、上記検出された画素欠陥位置に基づき上記第１の画像を上記仮想の移動距離だけ移動し、上記移動された第１の画像と上記画素欠陥位置に基いて第２の画素欠陥補正テーブルを生成する。 - 特許庁

A current flows in the defect portions if a reverse bias voltage is applied to the light emitting elements having the defect portions, and emission of light which occurs from the current is measured by using an emission microscope, specifying the position of the defect portions, and short-circuited portions can be repaired by applying a laser to the defect portions.例文帳に追加

この電流から生じる発光をエミッション顕微鏡により測定して欠陥部を特定し、欠陥部にレーザーを照射することによりショート箇所を修理するという発光装置の作製方法である。 - 特許庁

A defect position input unit 3a reads out numerical data of positions from a defect position storing unit 1 for indicating the place of a defective memory element from a given original position in an IC memory.例文帳に追加

不良位置データ入力部３ａは、ＩＣメモリに発生した不良メモリ素子が予め決められた原点から何番目のメモリ素子であるかを示す不良位置のデータを不良位置記憶装置１から読み込む。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus capable of detecting a focusing position of an oblique detection system and a position of illumination with high accuracy, and setting the position of illumination with high accuracy.例文帳に追加

斜方検出系の合焦位置と照明の位置とを高精度に検出し、照明の位置を高精度に設定可能な欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

An information recording device 110 comprises: a defect list updating unit 122 which updates a defect list registering a defect address showing a position of a defect area exists in an user area; a recording unit 113 which records information in an information recording medium 130 based on the updated defect list.例文帳に追加

情報記録装置１１０は、ユーザ領域内に存在する欠陥領域の位置を示す欠陥アドレスが登録された欠陥リストを更新する欠陥リスト更新部１２２と、更新された欠陥リストに基づいて、情報記録媒体１３０に情報を記録する記録部１１３とを備えている。 - 特許庁

The processing means includes functions to extract the defect information on the identical defect imaged by different camera devices from the position information and output the clipped images (defect images) as to the extracted defect simultaneously to an identical display screen (defect time series display screen shown in the figure).例文帳に追加

処理手段は、位置情報に基づき異なるカメラ装置で撮像された同一の欠陥についての欠陥情報を抽出し、その抽出した欠陥について切り出した画像（欠陥画像）を同一の表示画面（図に示す欠陥時系列表示画面）に同時に出力する機能を備えた。 - 特許庁

The defect part 20 is detected on the running web-shaped packing material with the defect detecting device 10, the defect display label 22 is pasted at the inside position of the wave edge (10a) near the defect part 10, and a sticking material layer is provided on the defect display label.例文帳に追加

走行するウエブ状包装材を欠点検出装置１０で不良箇所２０が検出され、その不良箇所１０近傍でウエブ端縁（１０ａ）内側の位置に貼付される欠点表示ラベル２２であって、該欠点表示ラベル２２は粘着剤層が施されている表示ラベルとしたものである。 - 特許庁

Then, the determining section 34 applies an AND operation to the defect position information of a plurality of panel images P1-P3 and obtains the difference of the result of this AND operation and the defect position information of respective panel images P1-P3.例文帳に追加

そして、判定部３４では、複数のパネル画像Ｐ１〜Ｐ３の欠陥位置情報の論理積をとり、その論理積と各パネル画像Ｐ１〜Ｐ３の欠陥位置情報との差分をとる。 - 特許庁

Prior to correction of defect, a stage 2 moves a substrate 1 two-dimensionally to a position where the defect are put in the visual field area of an objective 14.例文帳に追加

欠陥の修正が行われる前に、ステージ２は、欠陥が対物レンズ１４の視野領域に入る位置に基板１を二次元移動する。 - 特許庁

The defect is inspected by the FPD coordinates, and the FPD coordinate position detected as a point defect is output to another device and a monitor (S6).例文帳に追加

このＦＰＤ座標で欠陥検査を行い、点欠陥として検出されたＦＰＤ座標位置を他の装置やモニタに出力する（Ｓ６）。 - 特許庁

To provide a mobile object position detection system which eliminates a defect (defect in mobile object position detection system by GPS) that processing by radio equipment becomes complicated and the defect (defect in mobile object position detection system by a beacon) that a beacon device and a beacon receiver have to be installed apart from the radio equipment.例文帳に追加

無線装置の処理が複雑になるという欠点（ＧＰＳによる移動体位置検出方式での欠点）、ビーコン装置及びビーコン受信装置を無線装置とは別に設置しなければならないという欠点（ビーコンによる移動体位置検出方式での欠点）を除去した移動体位置検出方式を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an apparatus which determines a defect position of a panel with high precision.例文帳に追加

本発明の目的は、パネルの欠陥位置を精度良く特定する装置を提供することにある。 - 特許庁

To enable easier judgment of the position of a defect of an image while obtaining a better radiation image.例文帳に追加

良好な放射線画像を得ると共に画像欠陥の位置を容易に判別可能とする。 - 特許庁

In the recoil line, as the position of a defect approaches an inspection base, an line speed is automatically decelerated.例文帳に追加

リコイルラインでは、欠陥のある位置が検査台に近づくと自動的にライン速度が減速される。 - 特許庁

To provide a rotor magnet position feedback technique having no defect due to using a Hall-effect sensor.例文帳に追加

ホール効果センサの使用による短所がないロータ・マグネット位置フィードバック技法を提供する。 - 特許庁

To obtain a high filling density by filling a bone prosthetic material into a proper position in an osseous defect site.例文帳に追加

骨欠損部に対して骨補填材を適切な位置に充填して高い充填密度を得る。 - 特許庁

To realize a defect-position-input support apparatus whose productivity and safety can be enhanced.例文帳に追加

生産性および安全性の向上を図れる、欠陥位置入力支援装置を実現すること。 - 特許庁

To execute efficient processing for detecting a defect position according to the type of a used power source.例文帳に追加

使用する電源の種類に応じた効率的な欠陥位置の検出処理を実行する。 - 特許庁

Therefore, it becomes easier to analyze the cause of a systematic defect caused by position relation with other layers.例文帳に追加

従って、他のレイヤとの位置関係で発生するシステマティック欠陥の要因解析が容易になる。 - 特許庁

A defect correction circuit 110 uses defect information (a defective position and a defective level) stored in a defect information storage RAM 120 to particularize a defective pixel in the image signal thereby correcting the defective pixel.例文帳に追加

欠陥補正回路１１０は、欠陥情報格納ＲＡＭ１２０に格納された欠陥情報（欠陥個所、欠陥レベル）を用いて、画像信号の欠陥画素を特定し、この欠陥画素の補正を行う。 - 特許庁

This method is provided with a process for adjusting defect detection sensitivity so as to detect the defect in the desired size while using a standard sample prepared by programming the size and position of the defect beforehand.例文帳に追加

本発明は、予め欠陥の大きさと位置をプログラムして作製した標準試料を用いて所望の大きさの欠陥を検出するように欠陥検出感度を調整する工程を備えている。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of certainly detecting a defect such as foreign matter or the like having mixed in an object to be detected without being affected by the shape of the object to be detected or the position of the defect.例文帳に追加

検出対象の形状や、欠点の位置に影響されず、検出対象に混入している異物等の欠点を確実に検出することができる欠点検出装置を提供する。 - 特許庁

Judgment of defect is performed at the time without request of recording or readout, avoiding using of a recording position with possibility for generating the error repeatedly by temporary defect registration of a defect temporary registration means 4.例文帳に追加

ディフェクト仮登録手段４の仮のディフェクト登録によりエラーを繰り返し生ずる恐れのある記録場所の使用を避け、ディフェクトの判定を記録や読み出しの要求のない時に行う構成にした。 - 特許庁

A defect detection circuit 12 compares the picture signal of a target pixel with the picture signal of peripheral pixels, detects a pixel defect candidate and stores the address information of the pixel defect candidate in a position memory circuit 13.例文帳に追加

欠陥検出回路１２で目標画素の画像信号を周辺画素の画像信号と対比して画素欠陥候補を検出し、画素欠陥候補のアドレス情報を位置メモリ回路１３に記憶する。 - 特許庁

The defect detection sensitivity is inspected by using a mask for defect inspection having a photomask pattern which includes a basic pattern and a pattern defect comprising a resist pattern at a specified position of the basic pattern.例文帳に追加

基本パターンと、基本パターンの所定の位置に、レジストパターンにより形成されたパターン欠陥とを含むフォトマスクパターンを有する欠陥検査用マスクを用いて、欠陥検出感度検査を行う。 - 特許庁

When a defect is developed in the cathode ray tube, information on a position of the defect or the like is inputted from a defect information input device 25, and an operation device 27 compares information on the defect and information on each of the members.例文帳に追加

陰極線管に欠陥Ｐが生じた場合、この欠陥Ｐに関する発生位置の情報等を欠陥情報入力装置25から入力して、この欠陥Ｐに関する情報と各部材に関する情報とを演算装置27で比較する。 - 特許庁

A defect classification processing section 222 classifies the defects, by what a position of the defect is included in which region of the defined regions with regard to defect data 133 (233) sampled from the defects obtained at a defect-reviewing device 10.例文帳に追加

欠陥分類処理部２２２は、欠陥レビュー装置１０で取得された欠陥からサンプリングしたサンプリング欠陥データ１３３（２３３）について、その欠陥の位置が前記定義された領域のどの領域に含まれるかによって、欠陥を分類する。 - 特許庁

A defect judgement circuit 14 repeats the judgement of the pixel defect on the basis of address information stored in the position memory circuit 13, decides the address information of the pixel defect from the continuity of the judgement result and registers it in a defect registration circuit 15.例文帳に追加

位置メモリ回路１３に記憶されたアドレス情報に基づいて欠陥判定回路１４が画素欠陥の判定を繰り返し、その判定結果の連続性から画素欠陥のアドレス情報を決定し、欠陥登録回路１５に登録する。 - 特許庁

In the defect mark marking method, at least one reference mark at the known longitudinal position is marked on a metal strip together with the marking of the defect mark.例文帳に追加

前記欠陥マークのマーキングに併せて、あらかじめ長手方向位置のわかっている一つ以上の基準マークを前記金属帯にマーキングする。 - 特許庁

To provide an optical recording medium controller capable of holding an optical pickup in a position immediately before the occurrence of a defect even when the defect of a short cycle is present.例文帳に追加

短い周期の欠陥が存在する場合でも光ピックアップを欠陥発生の直前の位置にホールドできる光記録媒体制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon wafer in which oxygen deposit is stably formed in dependent of crystal position or device process, a method of producing the same, and a method for evaluating the defect area of a silicon wafer whose pulling-up conditions and the defect area are unknown.例文帳に追加

結晶位置やデバイスプロセスに依存せずに安定して酸素析出が得られるシリコンウエーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inspecting method of a package defect capable of exactly detecting a defect at any position of a package, and its apparatus.例文帳に追加

包装体のどの個所に欠陥があっても、確実にその欠陥を検出することのできる包装欠陥検査方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon wafer and its manufacturing method capable of stably obtaining oxygen deposition without depending on a crystal position and a device process and to provide a method for evaluating the defect area of the silicon wafer whose pulling condition and the defect area are unknown.例文帳に追加

結晶位置やデバイスプロセスに依存せずに安定して酸素析出が得られるシリコンウエーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for detecting defect by which the position of defect in an insulation film can be determined easily and accurately in a sample substrate with arbitrary size.例文帳に追加

任意の大きさの試料基板について、その絶縁膜欠陥部の位置を簡便に精度良く決定できる欠陥検出方法を提供する。 - 特許庁

Since a simulation defect equivalent to a standard defect output is constituted by the laser marking device 12, similar output is provided at any position.例文帳に追加

レーザーマーキング装置１２により標準的な欠陥出力と同等の模擬欠陥を構成するため、どの位置でもほぼ同じ出力が得られる。 - 特許庁