「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

Furthermore, an image judger/controller 22 judges that a defect is in the tape carrier when the processing results by the image measuring parts 20 agree with one of the specified combinations, based on the inspection logic consisting of the combination of predetermined processings.例文帳に追加

さらに、画像判断／制御部２２は、予め定められた処理の組み合わせからなる検査論理に基づき、画像計測部２０による処理結果が、所定の組み合わせの一つに合致したときに、テープキャリアに欠陥が生じていると判断する。 - 特許庁

To provide a surface inspection apparatus making highly accurate surface defect inspections without being affected by white defects constantly generating prescribed luminance or greater or white defects having variable luminance and gradually increasing luminance.例文帳に追加

恒常的に所定以上の輝度を発生する白傷ばかりでなく、輝度が変動したり、徐々に輝度が大きくなったりする白傷の影響を受けることなく、精度の高い表面欠陥検査を行うことができるような表面検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask defect inspection apparatus which can inspect defects of a mask at once and can easily identify the kinds of defects even when illumination light has shorter wavelengths and even when the mask pattern has larger film thickness.例文帳に追加

照明光の短波長化にもかかわらずかつマスクのパターンの膜厚が厚くなってもマスクの欠陥検査を一度に行うことができかつその欠陥の種類の識別も容易に行うことができるマスク欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problems wherein, when an illuminance distribution in an illumination spot by an actual illumination optical system is not a Gaussian distribution, each accuracy of particle size calculation of a foreign matter or a defect to be detected and coordinate position detection on the inspection object surface is lowered.例文帳に追加

実際の照明光学系による照明スポット内の照度分布がガウス分布になっていない場合には、検出される異物・欠陥の粒径算出および被検査物体表面上での座標位置の検出精度が低下してしまう。 - 特許庁

The defect inspection device 21 is equipped with a lighting system 22 equipped with the first light source and the second light source, a camera 23 capable of imaging light transmitted through the tablet, and an image processing device 24 for processing an image signal outputted from the camera 23.例文帳に追加

不良検査装置２１は、第１光源及び第２光源を具備する照明装置２２と、錠剤を透過してくる光を撮像可能なカメラ２３と、カメラ２３から出力される画像信号を処理する画像処理装置２４とを備える。 - 特許庁

To provide an inexpensive surface protective film which is excellent in the ability to protect an adherend (especially an optical sheet) and capable of carrying out an inspection of a defect on the adherend (in particular, the optical sheet) in high resolution, at the state that a surface-protective film (a pressure-sensitive adhesive sheet) is adhered to the adherend.例文帳に追加

被着体（特に光学シート）の保護性能に優れ、表面保護フィルム（粘着シート）を貼付した状態で、被着体（特に光学シート）の欠陥検査を精度良く行うことのできる安価な表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and method capable of easily searching for defects when reviewing the defects detected from the plane to be inspected of a body to be inspected such as a semiconductor wafer by an observing device such as a scanning microscope.例文帳に追加

半導体ウェーハ等の被検査体の被検査面から検出した欠陥を走査型顕微鏡等の観察装置によってレビューする際に欠陥の探索を容易に行うことができる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vessel production line which can check defects by checking the liquid level by an X-ray liquid volume inspection apparatus, grasp the time chart of carrying vessels, and determine in which filler valve a filling defect occurs.例文帳に追加

Ｘ線液量検査装置により液面のレベルのチェックによる不良確認と同時に、容器の運搬のタイムチャートをも把握したので、どのフィラーバルブにおいて充填の不良がおきているかを判別できる容器生産ラインを提供する。 - 特許庁

This pattern defect inspection device includes a nearest 8 chips, which are adjacent to the detected image and positioned diagonally in the lateral and vertical directions while putting the detected image between them, and has a means creating an average reference image from images of the same shape patterns by statistical computing and a means detecting the defect by comparing the detected image with the average reference image.例文帳に追加

このパターン欠陥検査装置は、検出画像に隣接する少なくとも検出画像を挟んだ左右上下斜めに隣接する最近接８チップを含んで同一形状のパターンの画像から統計的演算処理により平均参照画像を生成する手段と検出画像を生成された平均参照画像と比較して欠陥を検出する手段とを備える。 - 特許庁

To provide a defect inspecting method and apparatus with easy sensitivity adjustment capable of both inspecting locational deviation in an image to be inspected, image distortion, etc., by considering brightness between the images and of reducing misreports and highly sensitively detecting defects only by setting a threshold value in defect inspection for comparing the image to be inspected with a reference image and detecting the defects from their difference.例文帳に追加

検査対象画像を参照画像と比較してその差異から欠陥を検出する欠陥検査において、対象画像内の位置ずれや画像歪み等について、画像間の明るさを合わせ込んで検査を行うとともに、しきい値設定のみで虚報の低減と欠陥の高感度検出を両立させ、感度調整が容易な欠陥検査方式及び装置を提供する。 - 特許庁

The inspection method of the cause of a case that the IC chip 11 produces some defect is a method for inspecting and analyzing the cause of the defect by a photo-emission analyzing method by mounting the IC chip 11 on a test board to be energized and actuated after the package board 12 of an area surrounded by the display 16 is removed from the rear face to open an opening.例文帳に追加

このようなＩＣチップ１１が何らかの不良が生じた場合のその原因の検査方法は、表示１６で囲われた領域のパッケージ基板１２を裏面から除去して開口を開けた後、そのＩＣチップ１１をテスト基板に装着し、通電して作動させ、フォトエミッション解析方法により不良の原因を検査ｍ解析する方法を採っている。 - 特許庁

A production history information generation part 6 connected to an identification number read part 8 composed of a bar code reader, an inspection device 9 which inspects products, a defect contents input part 10 which inputs defect contents of a product, a serial number read part 11, and a repair contents input part 12 which inputs the contents of products generates production history information in a recording part 3.例文帳に追加

バーコードリーダからなる識別番号読取部８と、製品を検査する検査装置９と、製品の不良内容が入力される不良内容入力部１０と、シリアル番号読取部１１と、製品に施された修理内容が入力される修理内容入力部１２とに接続された生産履歴情報作成部６が、記録部３に、生産履歴情報を形成する。 - 特許庁

In the confirmation operation screen to confirm the determination result regarding a component determined to be defective in an automatic appearance inspection, the image list is displayed in which images of components determined to be defective are sorted in descending order of deviation of measured values from a determination standard used for detecting a defect for each defect type, and the designation of a boundary position between conforming/defective is received.例文帳に追加

自動外観検査において不良と判定された部品に関する判定結果を確認するための確認操作画面において、不良と判定された部品の画像を、不良の種毎に、その不良の検出に用いられた判定基準に対する計測値の逸脱度合いの大きいものから順に並べた画像リストを表示し、良／不良の境界位置の指定を受け付ける。 - 特許庁

A surface defect inspection device includes a differential interference image acquisition part 2 containing a differential interference optical system for forming a differential interference optical image of the workpiece 1 and a photographing part for acquiring a differential interference image by photographing the differential interference optical image, and a processing part 3 for processing the differential interference image and detecting the defect on the surface of the workpiece.例文帳に追加

表面欠陥検査装置は、被検査物１の微分干渉光学像を形成する微分干渉光学系と前記微分干渉光学像を撮像して微分干渉画像を得る撮像部とを有する微分干渉画像取得部２と、前記微分干渉画像を処理して、被検査物１の表面における欠陥を検出する処理部３と、を備える。 - 特許庁

To easily and surely detect a coating defect of an insulation film coated on an inner circumferential side face of a pipe or tubular container, without using an electrolyte requiring complicated and troublesome work, and a conductive brush or the like having the tendency that the detection of the coating defect is unsure, and having the possibility of damaging a surface of the inside of an inspection object.例文帳に追加

煩雑な作業が必要となる電解質や被覆欠陥の検知が不確実になりやすくかつ検査対象の内部の表面を損傷するおそれのある導電性ブラシなどを用いることなく、管または管状の容器の内周側面にコーティングされた絶縁膜の被覆欠陥を簡易かつ確実に検知する検査装置および検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device and its method capable of executing inspection by discriminating an adhering foreign matter from scratches having various shapes generated on the surface when abrading or grinding such as CMP or the like is applied to a processing object (for example, an insulating film on a semiconductor substrate) in semiconductor manufacture or magnetic head manufacture.例文帳に追加

半導体製造や磁気ヘッド製造において、被加工対象物（例えば、半導体基板上の絶縁膜）に対してＣＭＰなどの研磨または研削加工を施した際、その表面に生じる様々な形状を有するスクラッチと付着する異物とを弁別して検査することができるようにした欠陥検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To detect defects even in incomplete unit patterns, in which parts of a pattern are absent in defect inspection for detecting defects present in the surfaces of samples, by comparing corresponding parts with one another of unit patterns which repeatedly appear in correspondence, to repeated patterns in inspection images acquired by imaging the surfaces of the samples in which the repetitive patterns are formed.例文帳に追加

繰り返しパターンが形成された試料の表面を撮像して得られる検査画像において、この繰り返しパターンに対応して繰り返し現れる単位パターンのそれぞれの対応する部分同士を比較することにより、試料の表面に存在する欠陥を検出する欠陥検査において、一部のパターンが欠けた不完全な単位パターンにおいても欠陥検出を可能にする。 - 特許庁

The peeling film having a conductive film 17 is stuck on a display material side of the front plate 1 across an adhesive layer and the front plate 4, is mounted on an inspection plate 4; and a probe 2 and a probe 3 are brought into electric contact with the transparent electrode 13 and conductive film 17, and a driving voltage generating device 6 applies a driving voltage between electrodes to perform defect inspection.例文帳に追加

前面板１の表示材料側に接着層を介して導電性フィルム１７を具備する剥離フィルムを張り合わせて検査プレート４の上に載置し、プローブ２とプローブ３をそれぞれ透明電極部１３と導電性フィルム１７に電気的にコンタクトさせ、駆動電圧発生装置６より、駆動電圧を電極間に印加することにより欠陥検査を行う。 - 特許庁

A defect is determined by an image processing unit 232 (image processing unit 332) in the macro inspection camera part 230 (micro inspection camera part 330), the radio communication information frame 600 is transmitted together with a substrate image data of a substrate 30 only when required, a data of the radio-transmitted radio communication information frame 600 is reduced thereby to prevent convergence of a communication band and to attain smooth communication.例文帳に追加

マクロ検査カメラ部２３０（ミクロ検査カメラ部３３０）では、画像処理ユニット２３２（画像処理ユニット３３２）で欠陥を判別し、必要な場合にのみ、無線通信情報フレーム６００に基板３０の基板画像データを乗せて送信することで、無線通信される無線通信情報フレーム６００のデータを減らして、通信帯域の輻輳を防止し、円滑な通信を実現する。 - 特許庁

The central arithmetic processor 3 detects the position of the inspection object from the image data and adjusts the arrangement of respective fine areas so that the fine areas are arranged in the inspection object area, and then detects the density value of each fine area to decide whether there is a flaw or defect from the relative variation quantity of the density value of each fine area.例文帳に追加

中央演算処理装置３は、画像データより検査対象領域の位置を検出し、検査対象領域の検出位置に基づいて、複数の微少エリアが検査対象領域内に配置されるよう各微少エリアの配置を調整した後、各微少エリアの濃度値を検出し、各微少エリアの濃度値の相対的な変化量から傷及び欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

An inspected face 2a is irradiated with an inspection light to guide a reflected light to photoelectric transfer means 30-33 via light guides 26-29, and the defect on the inspected face 2a is detected based on detection signals Sa, Sb from the photoelectric transfer means 30-33.例文帳に追加

被検査面（２ａ）に検査光を照射し、その反射光を導光路（２６〜２９）を介して光電変換手段（３０〜３３）に導き、該光電変換手段（３０〜３３）の検出信号（Ｓａ、Ｓｂ）に基づいて前記被検査面（２ａ）の欠陥を検出する。 - 特許庁

A workpiece inspection apparatus synchronizes imaging timing with a tooth part W1 of a workpiece W based on a reference pulse PA, performs image processing for obtaining a difference between a captured k-th image (k is an integer) and a (k+1)-th image, and detects a defect based on the difference data.例文帳に追加

基準パルスＰＡに基づいてワークＷの歯部Ｗ１と撮像タイミングとを同期させ、撮像したｋ（ｋは整数）番目の画像と（ｋ＋１）番目の画像との差分を得る画像処理を行い、差分のデータに基づいて欠陥を検出するようにした。 - 特許庁

Light is emitted toward the steel pipe of an inspection object, reflected light from the first area of the steel pipe surface is received by a two-dimensional camera to measure luminous energy thereof, and a reference level used in defect detection is set based on the measured luminous energy (S3).例文帳に追加

検査対象物である鋼管に光を照射し、鋼管表面の第１領域から反射光を２次元カメラにより受光してその光量を計測し、計測した光量に基づき、欠陥検出の際に用いる基準レベルを設定する（Ｓ３）。 - 特許庁

In the circuit pattern inspection system, when a semiconductor wafer having a plurality of chip areas (dies) having the same circuit pattern is inspected, a detection image for each chip area is displayed on a monitor, and a circuit pattern defect is inspected based on the detection image for each chip area.例文帳に追加

回路パターン検査装置では、同一の回路パターンを有する複数のチップ領域（ダイ）を有する半導体ウエハを検査するとき、チップ領域毎の検出用画像をモニタに表示し、チップ領域毎の検出用画像から、回路パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁

To rationalize visual inspection, to provide an electronic photographic member of high quality, and to provide an image of high quality, by concurrently detecting automatically generation of an interference fringe and an appearance defect in the electronic photographic member, without depending on visual observation.例文帳に追加

電子写真感光体の干渉縞の発生と外観欠陥とを同時に目視に依らず自動で検知することにより、目視検査を合理化し、高品質な電子写真感光体を提供し、更には高画質の画像を提供することを目的とする。 - 特許庁

A light-reflection preventing film is provided between a photomask substrate of an inspection object and a photodetector for detecting transmission light transmitted through the photomask substrate to remove a noise such as reflected light, and the defect is detected at high precision thereby.例文帳に追加

本発明は、検査対象物であるフォトマスク基板とフォトマスク基板を透過した透過光を検出するための光検出器の間に光の反射防止膜を設けることにより、反射光などのノイズを除去し、高い精度で欠陥を検出することが出来る。 - 特許庁

In a sizing process, deformation processing is applied to a steel pipe electro-resistance-welded having a circular section in a direction wherein a fine defect in the weld is enlarged by sizing rolls for the deformation processing, and ultrasonic flaw inspection of the weld is performed in this state.例文帳に追加

サイジング工程の中で、電縫溶接された断面が円形の鋼管を、変形加工用のサイジングロールにより溶接部の微少な欠陥が拡大する方向に変形加工を施し、この状態で溶接部の超音波探傷検査を行うようにした。 - 特許庁

This coating device comprises a coater 1 arranged on one side of a base film W, a coating material feeder 2 for continuously feeding coating material to the coater 1, a feeding amount detector 3 for detecting the feeding amount of the base film W, a coating defect inspection device 4, and the like.例文帳に追加

ベースフィルムＷの片面に配置されるコータ１と、コータ１に塗材を連続供給する塗材供給装置２と、ベースフィルムＷの送給量を検知する送給量検知装置３と、塗工欠陥検査装置４などで塗工装置を構成する。 - 特許庁

To rapidly detect printing defects such as doubled image and thin spot and also a printing defect due to the abnormal balance of ink and water and an unstable factor in a platemaking process during the quality inspection and control of printed matter and thus prevent wasteful printing from being carried out.例文帳に追加

印刷物の品質を検査あるいは管理する際に、ダブリやスラーといった印刷不良、インキ・水バランス異常による印刷不良、さらに版作成工程の不安定要因に起因する印刷不良を速やかに検知し、無駄な印刷を防ぐことを目的とする。 - 特許庁

This is a defect detection device for a coaxial flexible piezoelectric cable in which a piezoelectric tube 3 is provided in the hole 61 of an inspection electrode means 6 and DC voltage is impressed on the coaxial flexible piezoelectric body 2 by moving the piezoelectric tube 3.例文帳に追加

圧電体チューブ３が検査用電極手段６の孔６１に配設され、圧電体チューブ３を移動させながら同軸状可撓性圧電体２に直流電圧を印加する構成の同軸状可撓性圧電体ケーブル欠陥検出装置を提供する。 - 特許庁

A same defect is lit in plural times in a single inspection by an illumination optical system performing linear lighting and a detection optical system dividing illuminated region by a line sensor and performing detection, and scattering light is added, and thereby, the detection sensitivity is improved.例文帳に追加

線状照明を行う照明光学系、被照明領域をラインセンサで分割して検出する検出光学系により、一度の検査で同一欠陥を複数回照明し、それらの散乱光を加算することにより検出感度を向上させる。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for easily and quickly discriminating whether a crack detected on a surface of an equipment structure under reactor water in a reactor of an atomic power generation plant, is a fatigue crack, or a stress corrosion crack.例文帳に追加

原子力発電プラントなどにおいて、炉水中の炉内機器構造物の表面に検出された亀裂が疲労亀裂であるか、あるいは応力腐食割れであるかを短時間の内に、容易に判別することのできる欠陥検査装置が求められている。 - 特許庁

Constitutive components of a defect inspection device are classified into components to be temperature-controlled and temperature-control unnecessary components, the components to be temperature-controlled are collectively stored in a temperature control component storage part 604, and the temperature-control unnecessary components are arranged in a heat radiation part 605.例文帳に追加

欠陥検査装置の構成部品のうち、温度制御すべき部品と、温度制御不要の部品とに区別し、温度制御すべき部品を一括して温度制御部品収容部６０４に収容し、温度制御不要の部品を放熱部６０５に配置する。 - 特許庁

The device for inspecting photosensitive material for surface defect has the reflection type optical sensor 12 and detects the defective part formed on the surface of the heat developable photosensitive material 10 by projecting inspection light upon the material 10 from a light source 14 and receiving the reflected light from the material 10 by means of a light receiving section 16.例文帳に追加

本発明に係る表面欠陥検査装置は、反射型光センサ１２を有し、光源１４から熱現像感光材料１０に検査光を照射し、その反射光を受光部１６で受光することによって表面欠陥部を検出する。 - 特許庁

To provide a display device with which detection of the presence of a line defect is conducted by display inspection before mounting a driving signal source, wherein a scanning line and a signal line are mutually independently controlled and inspected, and to provide a method for inspecting the same.例文帳に追加

走査線と信号線とを独立して制御して検査することによって、駆動信号源の実装前における表示検査によって線欠陥の有無を検査することが可能な表示装置及び表示装置の検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an appearance inspection method and system capable of correct and reliable detection of defective regions without mistaking a defect- free region, presenting light-and-shade unevenness because of uneven lighting, for a defective region.例文帳に追加

照明むら等の影響により不良でない領域に濃淡値のむらがあっても、むらの領域を不良領域と誤判定することなく、不良の領域を正確且つ確実に検出することができる外観検査装置及び外観検査方法を提供する。 - 特許庁

In the product inspection, comparison check is carried out by driving an actually manufactured liquid crystal display device 10 where the point-like defect is corrected, and displaying the actually corrected pixel part and the pseudo-corrected pixel part by the simulation on the screen of the liquid crystal display device 10 at the same time.例文帳に追加

製品検査においては、実際に製造され点状欠陥が修正された液晶表示装置を駆動し、液晶表示装置の画面に実際の修正画素部と、シミュレーションによる擬似的な修正画素部とを同時に表示し、比較検査を行う。 - 特許庁

To provide a film thickness defective inspection device for a conductive polymer layer of an organic EL panel substrate capable of efficiently inspecting a conductive polymer layer after the conductive polymer layer is formed, and a method for inspecting a film thickness defect using the same.例文帳に追加

導電性ポリマー層形成後に導電性ポリマー層の膜厚不良を効率よく検査できるようにした有機ＥＬパネル基板の導電性ポリマー層の膜厚不良検査装置及びそれを用いた膜厚不良検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electron beam equipment capable of obtaining an image for inspection with little distortion and enabling a surface observation and a defect detection as well as a device manufacturing method for inspecting a device on the way of a process with a good throughput with the use of the electron beam equipment.例文帳に追加

歪みの少ない検査画像が得られ、信頼性の高い表面観察および欠陥検出を可能にする電子ビーム装置、および、該電子ビーム装置を用いてスループット良くプロセス途中のデバイスを検査するデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁

In this defect inspection apparatus 10, the surface S of a workpiece W is scanned repeatedly in different parts of the workpiece by using a beam of light which forms a scanning region having a cross-scan dimension 26 perpendicular to an in-scan dimension 24 parallel to its scanning direction.例文帳に追加

本発明の欠陥検査装置１０は、ワークピースＷの表面Ｓに、走査方向に平行なインスキャン次元２４と垂直なクロススキャン次元２６を有する走査領域を形成する光線を使って、該ワークピースの異なった部分を繰り返し走査する。 - 特許庁

A TFT array inspection apparatus 1 detects TFT defects on the basis of detected waveforms acquired by two-dimensionally scanning electron rays over TFT arrays and is provided with a defect-type classification part 6 for classifying the types of TFT defects.例文帳に追加

ＴＦＴアレイ検査装置１は、電子線をＴＦＴアレイ上で二次元的に走査して得られる検出波形に基づいてＴＦＴ欠陥を検出するＴＦＴアレイ検査装置であり、ＴＦＴの欠陥の種類を分類する欠陥種類分類部６を備える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display panel in which tracing dynamic operating inspection to accurately detect an electrical defect of the liquid crystal display panel is applicable, while a terminal formed on an electrode terminal part is protected with a protective film, and the liquid crystal display panel.例文帳に追加

電極端子部上に形成された端子を保護膜で保護しつつ、液晶表示パネルの電気的欠陥を的確に検出可能ななぞり点灯検査を適用することができる液晶表示パネルの製造方法と液晶表示パネルを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an exposure pattern capable of detecting the connection failure of an exposure pattern unique to electron beam exposure technology with high accuracy in a Die to Die defect inspection just like a pattern failure caused by a process other than an exposure process.例文帳に追加

Die to Dieの欠陥検査において、電子線露光技術特有の露光パターンの接続不良を、露光プロセス以外のプロセスに起因するパターン不良と同様に精度良く検出することができる露光パターンの形成方法及び電子線露光装置の提供。 - 特許庁

The inspection device is provided with a sensor 10 for emitting light on an optical axis OA to detect light returned on the optical axis OA, and a detector 5 for detecting the kind of the container or the defect thereof, based on the presence of light detection by the sensor 10.例文帳に追加

該検査装置は、光軸ＯＡ上に光を出射し光軸ＯＡ上を戻ってくる光を検知するセンサ１０と、センサ１０によって光が検知されるか否かによって前記容器の種類又は前記容器の不具合を検知する検知装置５とを備える。 - 特許庁

To provide an SEM type inspection device improved in image quality and defect detection sensitivity by reducing pixel displacement when a two-dimensional image is formed by displacement of an electron beam irradiation position by deflection circuit noise generated in a constituent element of a beam deflection control circuit.例文帳に追加

ビーム偏向制御回路の構成素子で発生する偏向回路雑音による電子ビーム照射位置のずれによる二次元画像化したときの画素ずれを低減して画質及び欠陥検出感度を向上させたＳＥＭ式検査装置を提供することにある。 - 特許庁