「defect inspection」に関連した英語例文の一覧と使い方(46ページ目) - Weblio英語例文検索

When a point defect is found by array inspection, a laser cut section 61 is set up in the bridge 66 between a first sub-pixel pattern 6A-1 of a small right triangular one positioned at a corner of a pixel electrode 6, and a second sub-pixel pattern 6A-2 of a large area.例文帳に追加

アレイ検査により点欠陥が発見された際には、画素電極６の一隅に位置する小さな直角三角形状の第１のサブピクセルパターン６Ａ-１と、大面積の第２のサブピクセルパターン６Ａ-２との間にて、ブリッジ部６６にレーザーカット部６１が設けられる。 - 特許庁

To provide an improve pattern matching inspection method and device therefor capable of detecting a wiring defect in a wiring pattern in a printed wiring board, LSI(Large Scale Integrated Circuit), and a photomask duplicate for them, and judging whether they are good or not in a manufacturing process of the printed wiring board.例文帳に追加

プリント基板やＬＳＩ（大規模集積回路）、そのためのフォトマスク複製物における配線パターンの配線欠陥を見つけ出して良、不良判断をプリント基板の製造過程において行なえる改良されたパターンマッチング検査方法及び検査装置を提供すること。 - 特許庁

The correction of the background image according to the sensitivity characteristic of the imaging means can precisely match shading curves of the background image and an inspection image to implement a precise shading correction and increased accuracy of surface defect detection on a liquid crystal panel.例文帳に追加

そして、背景画像を撮像手段の感度特性に基づいて補正することで、背景画像と検査画像とのシェーディングカーブを精度よく合致させることができ、シェーディング補正を高精度に実行することができ、液晶パネルにおける表示欠陥の検出精度を向上させることができる。 - 特許庁

A collection of data processing algorithm is suitably used instead of a high pass filter stage of the eddy current inspection system, and is simultaneously used for providing required data for an optimized system for inspecting test pieces on whether to be a slender defect of traveling in parallel to the scanning axis.例文帳に追加

渦電流検査システムの高域通過フィルタ段の代わりに用いるのに適し、また、走査軸に平行に走る細長い欠陥がないか試験片を検査するために最適化されたシステムに必要なものを提供する同時に用いられるデータ処理アルゴリズムの集合体。 - 特許庁

To provide a dust-proofing device which can prevent contamination of a stencil mask due to sticking of dust, etc., and further can prevent distortion of the stencil mask even when the membrane region is enlarged, and to provide a stencil mask with the dust-proofing device, an exposure method using it, a mask inspection method and a defect repairing method.例文帳に追加

ステンシルマスクの塵埃等の付着による汚染を防止し、さらにメンブレン領域を大きくしてもステンシルマスクの歪みを防止できる防塵装置と、防塵装置付きステンシルマスクおよびこれを用いた露光方法、マスク検査方法と欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

An image processing device 10 sets an inspection area of ≥45° per image, for areas other than an area 11 of a handhold 2a, and inspects presence or absence of a defect by comparing the density distribution (light quantity value) for the whole 360° circumference.例文帳に追加

記憶装置９に格納された画像に基づいて、画像処理装置１０は取っ手部２ａの領域１１以外に対して、１画像当たり４５°以上の検査領域を設定し、３６０°全周の濃淡分布（光量値）を比較することにより欠陥の有無を検査する。 - 特許庁

The surface inspection apparatus irradiates an outer peripheral surface to be an inspecting surface of an object to be inspected with an optical beam from a light source through light irradiation means, receives reflected light from the inspecting surface by light receiving means and detects a defect existing on the inspecting surface based on the light quantity of the received reflected light.例文帳に追加

光源からの光ビームを光照射手段を介して被検査物の被検査面である外周面に照射し、受光手段により被検査面からの反射光を受光し、受光した反射光の光量に基づいて被検査面上に存在する欠陥を検出する装置である。 - 特許庁

To provide an inspection method of a polarization plate for detecting, before the formation of an antireflection layer, a defect such as the streak unevenness, which is included in the polarization plate and can be conventionally detected after the formation of the antireflection layer, and to provide a manufacturing method of the polarization plate using the method.例文帳に追加

従来、反射防止層を形成した後でなければ検出できなかった、偏光板が有するスジムラ等の欠陥を、反射防止層を形成する前に検出可能な偏光板の検査方法および該方法を利用した偏光板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A light screening film 12 having an opening 13 for transmitting or scattering light is formed on one face of a substrate 11, and the opening 13 is sufficiently small in comparison with a resolving power of the defect inspection apparatus for the flat panel display as an object of calibration.例文帳に追加

光を透過または散乱させるための開口１３を形成した遮光膜１２が基板１１の一方の面上に形成されるとともに、前記開口１３を、校正対象である、フラットパネルディスプレイの欠陥検査装置の分解能に比して十分小さく形成した。 - 特許庁

To provide a pattern for evaluation and a photomask for forming the pattern for evaluation capable of evaluating irregularity defect detection capacity and capacity for detecting and analyzing periodicity of irregularity defects in an inspection device for inspecting irregularities of a body to be inspected having a periodic pattern.例文帳に追加

周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ検査をする検査装置の、ムラ欠陥検出能力やムラ欠陥の周期性を検出・解析する能力を評価することが可能な、評価用パターンおよびその評価用パターンを形成したフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

A weighted operation means 404 performs operation processing by applying optional weighting respectively to the projection data of the defect inspection object of this time which is obtained in the means 403 and shading correction data used for correction processing to the preceding processing object.例文帳に追加

重み付け演算手段４０４は、射影取得手段４０３にて得られた今回の欠陥検査対象物の射影データと、前回の処理対象物に対する補正処理に用いたシェーディング補正データとのそれぞれに対して任意の重み付けを行なっての演算処理を行なう。 - 特許庁

In the inspection of short circuit defect of conductor, the method for detecting the current variation accompanied by the resistance variation by the laser light irradiation, while applying an electric bias on the conductor.例文帳に追加

導線のショート欠陥の検査において、導線へ電気バイアスを印加しながら、レーザ光照射による抵抗変化がもたらした電流変化を検出する方法において、検査対象となる領域として、パネル回路基板１１が中央線Ｃを中心として左右に二分される。 - 特許庁

To provide a defect inspection device having an improved detection ability by inspecting a film or a pattern comprising an inorganic substance/inorganic compound by using a light in a wavelength range suitable for wavelength dependency carried by a refractive index, an extinction coefficient and a surface reflectivity of the substance.例文帳に追加

無機物／無機化合物から成る膜またはパターンを、その物質の屈折率，消光係数、および表面反射率が持つ波長依存性に関して好適な波長範囲の光を用いて検査することにより、向上した検出能力をもつ欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

Resultantly, since discrimination between an actual defect and a false report can be performed accurately by performing the false report determination following the decision tree by utilizing the image characteristic quantity and the coordinate characteristic quantity, high-sensitivity inspection becomes possible, while suppressing false reports.例文帳に追加

検出欠陥の画像をもとに画像特徴量を算出し、検出欠陥の位置座標をもとに座標特徴量を算出し、画像特徴量と座標特徴量のいずれかに対するしきい値処理からなる決定木に従って虚報判定を行う構成とする - 特許庁

To conduct high-precision and rapid inspection of a semiconductor in a desired contrast by efficiently and rapidly detecting secondary electrons, reflected electrons or both of them generated from a substrate, in a method for inspecting a defect, a foreign substance, a residue and the like of the same design pattern of a semiconductor device by using an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の同一設計パターンの欠陥、異物、残渣等を電子線により検査する方法において、基板から発生する二次電子または反射電子またはその両方を高効率に高速に検出し、所望のコントラストで半導体ウェハの高精度、高速な検査を行う。 - 特許庁

Thus, the unacceptable internal pressure can be detected by the reduction of the liquid surface even in a case of a plastic container such as the PET bottle 2 for which the hot pack filling or the retort processing has been performed, and the internal pressure defect can be detected from the outside of the case even for a container for which the tapping inspection cannot be applied such as a plastic container.例文帳に追加

これにより、ホットパック充填やレトルトされたＰＥＴボトル２などのプラスチック容器でも、液面の低下から内圧不良であることを検出することができ、打検法が適用できないプラスチック容器などの容器でもケースの外部から内圧不良を検出することができる。 - 特許庁

This device has a constitution wherein p-polarized illumination is used as illumination light, and an illumination means is arranged so that light enters the surface of an inspection object at a Brewster angle, and thereby reflected light is greatly attenuated at a normal spot, and reflected light appears only when a defect exists.例文帳に追加

照明光としてｐ偏光照明を用い、さらに検査対象物の表面に対してブリュースター角で入射するように照明手段を配置することにより、正常個所では反射光が著しく減衰し、欠陥がある場合のみ反射光が現れるように構成した。 - 特許庁

To provide a defect detection method and detector capable of detecting, for example, microdefects caused on a reduction roll circumferential surface in inspection, so that a steel sheet (rolled material) of good surface quality can be produced, and to provide a grinding device and grinding method for achieving this method.例文帳に追加

表面品質のよい鋼板（圧延材）を製造できるようにするため、例えば検査時に圧延ロール外周表面に生じた微小の欠陥を検出することができる欠陥検出方法、装置並びにその方法を実現できるような研削装置、研削方法を得る。 - 特許庁

At this time, the artificial defect 200 is set to a size capable of surely reflecting the ultrasonic beam B, so that even if an inspection object 100 is the weld part 101 of stainless steel by which the ultrasonic beam B is apt to be scattered or deflected, the reflected wave can be surely caught to generate the driving electric signal S3.例文帳に追加

このとき、人工欠陥２００は、超音波ビームＢが確実に反射する大きさとし、検査対象物１００が、超音波ビームＢが散乱、屈折しやすいステンレスの溶接部１０１であっても、反射波Ｒを確実に捉え、駆動用電気信号Ｓ３を生成できるようにした。 - 特許庁

To provide a method of evaluating a silicon substrate that evaluates a dot defect of a device active region precisely through nondestructive inspection by evaluating the silicon substrate while enhancing sensitivity of a CL method, and a method of manufacturing a semiconductor device using the method of evaluating the silicon substrate.例文帳に追加

ＣＬ法の感度を向上させてシリコン基板を評価することで、デバイス活性領域の点欠陥を精密に非破壊検査により評価することができるシリコン基板の評価方法、及びその評価方法を用いた半導体デバイスの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The defect is inspected thereby with the one side grasping by the robot without generating any disturbance, preparatory work change manhours are reduced in the inspected object 1 of a different length and diameter, and the inspection is automated in recycle where different goods are mixed.例文帳に追加

これにより、ロボットによる片側把持による欠陥検査を支障なく行うことができるため、長さや径の異なる被検査物１に対して、段取り替え工数を削減でき、異品種が混じるようなリサイクル時の検査を自動化することもできる表面欠陥検査装置を提供できる。 - 特許庁

The defect part is detected from the changing rate of a brightness gradient of a gradation pattern acquired by projecting the inspection object surface through a screen 3 where plural regular-hexagonal patterns are printed closely in the honeycomb shape and the concentric gradation patterns are printed on the respective regular-hexagonal patterns.例文帳に追加

複数個の正六角形のパターンが隙間なくハニカム状に印刷されて、これら正六角形の個々のパターンに同心円状のグラデーションパターンが印刷されたスクリーン３を介して検査対象面を投影して得られるグラデーションパターンの明暗勾配の変化率から欠陥部分を検出する。 - 特許庁

Cooling water C is supplied to the continuously cast rod T casted continuously and horizontally, from a mold 35 outlet in the casting direction, immediately behind the mold 35 outlet, a probe 42 for ultrasonic inspection is brought into contact with the cooling water C, and internal defect is inspected.例文帳に追加

鋳型(35)出口から水平方向に連続的に鋳出される連続鋳造棒（Ｔ）に対し、鋳型(35)出口直後において冷却水（Ｃ）を鋳出し方向に供給するとともに、冷却水（Ｃ）に超音波探傷検査用プローブ(42)を接触させて内部欠陥を検査する。 - 特許庁

This surface inspection device 100 is provided with a lighting system 1 for emitting slit-like illumination light to an inspected object M, a two-dimensional imaging device 2 for imaging reflected light thereof, and an image processor 3 for detecting the defect based on a shape of a slit part in a picked-up image.例文帳に追加

表面欠陥検査装置１００は、被検査対象物Ｍにスリット状の照明光を照射する照明装置１と、その反射光を撮像する２次元撮像装置２と、撮像画像におけるスリット部の形状に基づき欠陥を検出する画像処理装置３とを備える。 - 特許庁

To provide an adhesive film for protecting display screen enabling the defect inspection of various display screens, good in wettability, easy in foam escape, and stickable by hand, through using an adhesive based on an inexpensive acrylic adhesive rather than an expensive silicone-based adhesive.例文帳に追加

高価なシリコーン系の粘着剤を用いることなく、安価なアクリル系粘着剤を主とする粘着剤を用いて、各種ディスプレイ表面の欠陥検査が可能であり、濡れ性がよく、気泡が抜け易く、手張りが可能なディスプレイ表面保護フィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁

In the repair method for the turbine rotor, build up welding is performed while the turbine rotor 10 including a horizontally-supported rotating shaft is rotated around the rotating shaft, and while the build up welding is performed, defect inspection of a welded portion is performed by an electromagnetic acoustic transducer 20 sequentially.例文帳に追加

回転軸が水平に支持されたタービンロータ１０をその回転軸を中心に回転させながら肉盛り溶接を行うとともに、肉盛り溶接を行いながら溶接された部位を電磁超音波探触子２０により欠陥検査を順次行うタービンロータの補修方法。 - 特許庁

To reduce a possibility of recording failure and to attain an efficient recording operation of a defect management by preliminarily inspecting a stain before the recording even when a scratch or stain exists on a recording area on an optical disk medium and by referring to the inspection result when the recording area is assigned.例文帳に追加

光ディスク媒体上の記録領域に傷や汚れがある場合でも、予め記録前に汚れ検査を行っておき、記録領域割当て時に検査結果を参照することによって、記録失敗の可能性を低下させ、効率の良い欠陥管理記録を可能にする。 - 特許庁

This inspection method measures a reflection coefficient, a space distribution of the reflection coefficient or a frequency characteristic of the reflection coefficient when bringing an electromagnetic field probe or an optical fiber close to the semiconductor that is an inspected target, and compares it with one of the good product to decide whether the semiconductor is the good product or the defect product.例文帳に追加

被検査対象である半導体の近傍に電磁界プローブもしくは光ファイバを近づけたときの反射係数または反射係数の空間分布または反射係数の周波数特性を測定し、良品と比較することで良品／不良品の判別を行う。 - 特許庁

To automatically generate an inspection mask image for extracting pixels to be inspected at a dark region from the imaging image of an object to be examined for examining the defect such as an off-setting in a black print section having a low concentration level on the object to be examined such as a drink container using digital image processing.例文帳に追加

飲料容器などの被検査物上の濃度レベルの低い黒色印刷部の印刷ハゲ等の欠陥検査をデジタル画像処理で行うため、被検査物の撮像画像から暗部領域の検査対象画素を抽出する検査マスク画像を自動生成する。 - 特許庁

The mask inspection device 1 in one embodiment is equipped with a two-dimensional optical sensor 208 for imaging a defect on a mask 220, and a mode-lock fundamental wave laser 101 for irradiating the mask 220 with light having the larger number of repetition than a line rate of the two-dimensional optical sensor 208.例文帳に追加

本発明の一態様に係るマスク検査装置１は、マスク２２０上の欠陥を撮像する二次元光センサー２０８と、二次元光センサー２０８のラインレートより高い繰返し数の光を、マスク２２０に照射するモードロック型の基本波レーザ１０１とを備える。 - 特許庁

To realize a method for inspecting a semiconductor device, which can inspect for the presence of generation of etching stop phenomenon or a mis-etching during hole formation with a simple visual inspection, can find defects in manufacture at a early stage, and can prevent flow out of the defect to a next step.例文帳に追加

ホール形成時におけるエッチングストップ現象又は抜け不良の発生の有無を簡単な外観検査により検査することができ、製造不良を早期に発見することができると共に、次工程への流出を防止することができる半導体装置の検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a member for plasma display and a member for plasma display and a plasma display using the same, which provide a good reliability without a defect, by the same conductivity inspection as prior arts for the member for plasma display in which an electrode in divided into at least two groups.例文帳に追加

電極が２群以上に分割されたプラズマディスプレイ用部材において、従来と同じ導通検査方法により、欠陥がなく信頼性に優れたプラズマディスプレイ用部材の製造方法、およびプラズマディスプレイ用部材とプラズマディスプレイを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacture inspection analyzing system capable of appropriately specifying a processor or a processor group as the cause of occurrence of a defect during manufacturing of a processed body, without performing processing such as attaching information on a processor having performed processing to the processed body.例文帳に追加

被処理体に対して処理した処理装置の情報を付与するなどの処理を行うことなく、被処理体の製造途中において、的確に欠陥の発生要因となる処理装置または処理装置群を特定することを可能とする製造検査解析システムを提供する。 - 特許庁

To provide a method in which a cast and forged product without a substantially problematic defect even when used in a later forging process is inspected with high inspection accuracy and with satisfactory efficiency, by a method wherein a so-called preform after a casting operation or a finished product as required is inspected.例文帳に追加

鋳造後のいわゆるプリフォーム或いは必要により完成部品を検査することにより、その後の鍛造工程で使用しても、実質的に問題となるような欠陥を有しない鋳造鍛造品を検査精度高く、かつ、検査効率よく、検査する方法の提供。 - 特許庁

In this surface defect inspection device, the light emitting elements 30 are arranged consecutively to remain a prescribed shape of dark face in an inside, in the lay-out pattern, and arranged to receive the irradiation light of each of the light emitting elements 30 reflected from the inspected face on at least one dark face 31 by the imaging camera 4.例文帳に追加

レイアウトパターンが発光素子３０を内側に所定形状の暗面を残すように連続的に配置させたものであり、少なくとも１つの暗面３１に撮像カメラ４が被検査面から反射される各発光素子３０の照射光を受光するように配置する。 - 特許庁

Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.例文帳に追加

遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁

The historical defect list 8 is created for each wafer 1 and comprises a coordinates position, the number of detects, size, a cluster information, an index information of an image capturing, and the like of each defects for every inspection processes 31, 32, etc., and 3N, and every information in relation to the defects of the wafer.例文帳に追加

この欠陥来歴リスト８は、ウエハ１毎に作成され、各検査工程３_1,３_2,……,３_N毎に分けて夫々の欠陥の座標位置や検出数，大きさ，クラスタ情報，画像取得のインデックス情報などからなり、当該ウエハでの欠陥に関する全ての情報を含んでいる。 - 特許庁

In the third inspection process, the solid-state imaging device is inspected per predetermined range set in advance, and the number of peculiar pixels within each range is counted, and at the same time, the sum of brightness data of the individual peculiar pixels within each range is calculated as a defect level.例文帳に追加

第３検査工程では、予め設定されている所定範囲ごとに固体撮像素子の検査が行われ、この所定範囲内の特異画素の個数が計数されると同時に、この所定範囲内の各特異画素の輝度データの合計値が欠陥レベルとして算出される。 - 特許庁

To provide a diagnostic device of a rolling bearing unit capable of highly accurate detection without overlooking a defect of a rotating part of a mechanical device, when performing an inspection test periodically, while rotating the device, without decomposing the mechanical device requiring much labor for decomposition.例文帳に追加

分解するのに多くの手間がかかるような機械装置の分解を行なうことなく、回転させながら定期的に検査試験を行う場合、その機械装置の回転部品の欠陥を見落とすことなく高精度な検出が可能な転がり軸受ユニットの診断装置を提供する。 - 特許庁

The circuit pattern inspection apparatus is configured to display, on a monitor 50, images for detection 522, 523 and 524 in respective chip regions and inspects defect of their circuit patterns by using such displayed images, when it inspects a semiconductor wafer having a plurality of chip regions (dies) whose circuit patterns are identical.例文帳に追加

回路パターン検査装置では、同一の回路パターンを有する複数のチップ領域（ダイ）を有する半導体ウエハを検査するとき、チップ領域毎の検出用画像５２２，５２３，５２４をモニタ５０に表示し、チップ領域毎の検出用画像５２２，５２３，５２４から、回路パターンの欠陥を検査する。 - 特許庁

The manufacturing method and the inspection method of organic EL element comprise a step for applying a voltage between the upper surface side and the lower surface side of the protection layer 26, and a step for deciding presence or absence of a defect of the protection layer 26 on the basis whether a current flows through the protection layer 26.例文帳に追加

本製造方法および検査方法は、前記保護層２６を挟んで上面側と下面側から電圧を印加する工程と、前記保護層２６に電流が流れたか否かによって該保護層２６の欠陥の有無を判定する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

When a display failure such as line defect is found during a turn-on inspection after a driver LSI 3 is installed, YAG laser is illuminated from the substrate back surface side to a cross section 12 of the wiring 4 and the wiring 5 where a failure is generated so as to connect the wiring 4 and the wiring 5.例文帳に追加

ドライバーＬＳＩ３搭載後の点灯検査にて線欠陥等の表示不良が発生した場合、不良発生箇所のソース配線４とクロス配線５との交差部１２に基板裏面側からＹＡＧレーザーを照射しソース配線４とクロス配線５を接続させる。 - 特許庁

To solve problems of an image display device using a self-luminous element as a pixel since shipment inspection is complicated when a black spot detect pixel is determined by visual check or luminance measurement in shipping and a black spot defect occurring in use by a user after shipment cannot be corrected.例文帳に追加

自発光素子を画素として用いた画像表示装置において、黒点欠陥の画素を出荷時の目視、または、輝度測定により判別する場合、出荷検査が煩雑となるとともに、出荷後、ユーザが使用中に発生する黒点欠陥に対しては、補正が不可能となる。 - 特許庁

According to the substrate inspection method, electron beams are irradiated by an optical axis E1 to the part on a semiconductor wafer W, where the defect D is present with the use of an SEM apparatus which detects by a single electron beam detector, secondary electron beams emitted, when electron beams are applied onto the semiconductor wafer W.例文帳に追加

本発明の基体検査方法は、半導体ウェハＷ上に電子ビームを照射することにより放出される二次電子線を単一の電子線検出器で検出するＳＥＭ装置を用い、半導体ウェハ上の欠陥Ｄが存在する部位に光軸Ｅ１で電子ビームを照射する。 - 特許庁

To provide a method for inspecting substrates, whereby an inspection time for observing or inspecting the substrate can be shortened, and the discrimination for shapes of parts including defect present on the substrate, and the resolution for images and shape information obtained by observing or inspecting the substrate can be improved fully.例文帳に追加

基体の観察叉は検査を行う際の検査時間を短縮できると共に、基体上に存在する欠陥を含む部位の形状識別性、及び、基体の観察叉は検査で取得される画像及び形状情報の分解能を十分に向上できる基体検査方法を提供する。 - 特許庁