「formation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To suppress the formation of amorphous silicon in an early stage of the formation of an i-type microcrystalline silicon layer of a microcrystalline silicon solar cell having a pin structure.例文帳に追加

ｐｉｎ構造を有する微結晶シリコン太陽電池のｉ型微結晶シリコン層の形成の初期段階におけるアモルファスシリコンの形成を抑制する。 - 特許庁

Consequently, the single domain formation of the magnetosensitive layer 34 can be expedited while corresponding to the formation of the high recording density to perform stabler read operations.例文帳に追加

この結果、高記録密度化に対応しつつ感磁層３４の単磁区化を促進することができ、より安定した読出動作を行うことができる。 - 特許庁

The light distribution characteristics of the reflecting mirror plane 14 are changed by changing the surface shape, formation area, formation region or the like of the base coat layer 12.例文帳に追加

このとき、ベースコート層１２の表面形状、形成面積、形成領域などを変えることによって、反射鏡面１４の配光特性を変える。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which enables formation of pixels with a high contrast ratio and excels also in storage stability.例文帳に追加

コントラスト比の高い画素を形成することができ、且つ保存安定性にも優れた着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To prevent formation fail, such as separation of a resist layer used as a mask for forming plating and formation fail of a surface electrode in a large-current transistor.例文帳に追加

大電流トランジスタにおいて、メッキ形成用マスクとして用いるレジスト層の剥離等の形成不良と表面電極の形成不良を防止する。 - 特許庁

COPPER DIFFUSION-PREVENTING BARRIER FILM, FORMATION METHOD OF THE SAME, FORMATION METHOD OF SEED LAYER FOR DAMASCENE COPPER WIRING, AND SEMICONDUCTOR WAFER HAVING THE DAMASCENE COPPER WIRING例文帳に追加

銅拡散防止用バリア膜、同バリア膜の形成方法、ダマシン銅配線用シード層の形成方法及びダマシン銅配線を備えた半導体ウェハー - 特許庁

Further, the YAG laser is incident from the substrate 2 side for the formation, the buffer layer 3 is dissolved and the substrate 2 for the formation is exfoliated from the piezoelectric film 4.例文帳に追加

さらに、形成用基板２側からＹＡＧレーザを入射して、バッファ層３を融解させて形成用基板２を圧電膜４から剥離する。 - 特許庁

Then, in a manner covering the core layer 3 formed on the under-clad layer 2, an over-clad layer 4 is formed, wherein an essentially non-solvent setting resin composition is used for the formation of the over-clad layer 4.例文帳に追加

そして、アンダークラッド層２の上に形成されたコア層３を被覆するように、オーバークラッド層４を形成し、オーバークラッド層４の形成には、実質的に無溶媒の硬化性樹脂組成物を用いる。 - 特許庁

Reflection layers 50 and 52 are formed on the interface between the n-type GaN layer 12 and the AlGaN cladding layer 14, and on the interface between the AlGaN cladding layer 18 and the p-type GaN electrode formation layer 20 respectively.例文帳に追加

ｎ型ＧａＮ層１２とＡｌＧａＮクラッド層１４との界面及びＡｌＧａＮクラッド層１８とｐ型ＧａＮ電極形成層２０との界面に反射層５０、５２を形成する。 - 特許庁

The protective layer 6 here consists of an alumina membrane formed into a film by the atom layer growth method at temperatures where the film formation temperature is lower than the glass transition point of the hole transport layer 3 and the organic luminous layer 4.例文帳に追加

ここで、保護層６は、成膜温度がホール輸送層３及び有機発光層４のガラス転移点よりも低い温度にて原子層成長法により成膜されたアルミナ膜等よりなる。 - 特許庁

After the formation of the non-magnetic insulating layer 5, a second magnetic layer 6 is laminated to cover both minute region and the non-magnetic insulating layer 5 on the surface of the first magnetic layer 4, and a conductive part 7 is then formed.例文帳に追加

非磁性絶縁層５を形成した後、第１磁性層４表面の微小領域及び非磁性絶縁層５をともに覆うように第２磁性層６を積層し、導通部７を形成する。 - 特許庁

A P^+-type embedded layer 11 is formed in an area under the N^+-type drain layer 9 of the MOS transistor by preventing the formation of an N^--type drain layer 11 under the drain layer 9.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタのＮ＋型ドレイン層９の下にはＮ−型ドレイン層１１が形成されないようにし、かつＮ＋型ドレイン層９の下の領域にＰ＋型埋め込み層１１を形成した。 - 特許庁

In the first region A, a first insulating layer 111 and a second insulating layer 112 are doubly provided, and a silicon monocrystalline layer 122 on the second insulating layer 112 is used for the substantial device formation.例文帳に追加

第１領域Ａは、第１の絶縁層１１１、第２の絶縁層１１２と二重に設けられ、第２の絶縁層１１２上のシリコン単結晶層１２２が実質的なデバイス形成に用いられる。 - 特許庁

The objective converted paper is formed by laminating the filler layer 2 and the resin layer on the converting paper 1 in order in which the filler layer 2 is insoluble in the solvent that is used in the formation of the resin layer 3.例文帳に追加

紙１の表面に、目止め剤層２、樹脂層３を順次設けたことを特徴とする加工紙で、樹脂層３を形成する際に使用する溶媒に対して樹脂層２が溶解性を示さない。 - 特許庁

The coloring layer 7 has no end part and only the multigap layer 3 in contact with a liquid crystal molecule has an end part 8 to make a non-display area small by forming the coloring layer 7 before the formation of the multigap layer 3.例文帳に追加

着色層７をマルチギャップ層３より先に形成することで、着色層７は端部を有さず、液晶分子と接するマルチギャップ層３にのみ端部８を有し、非表示領域が小さい。 - 特許庁

Thus, the flow of plating currents on the base layer 4 can be guaranteed, and the outer layer 5 can be positively formed on the base layer 4, while the formation of the plated growing layer 6 can be suppressed.例文帳に追加

これにより、下地層４上でのめっき電流の流れが保証され、めっき成長膜６の形成を抑制しながら、外皮層５を確実に下地層４上に形成することができる。 - 特許庁

The second electrode layer 32 is formed on a region R2 different from a formation region R1 of the first electrode layer 31 in a surface of the dielectric layer 2, separated from the first electrode layer 31.例文帳に追加

第２電極層３２は、誘電体層２の表面の内、第１電極層３１の形成領域Ｒ１とは異なる領域Ｒ２上に、該第１電極層３１から離間させて形成されている。 - 特許庁

To provide a thin film formation method using atomic-layer vacuum deposition which is applied to the formation of a gate insulating layer, having a high dielectric constant, less likely to be crystallized due to its being thermally stable, and proper film properties.例文帳に追加

比誘電率が高く、熱的に安定で結晶化し難い、膜特性の良好なゲート絶縁膜の形成に適用される原子層蒸着法を用いた薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁

The system comprises a semiconductor layer 10, an element isolation insulating layer 20 that comparts an element formation region 10HV, and an insulated gate field effect transistor 100 provided in the element formation region 10HV.例文帳に追加

半導体層１０と、素子形成領域１０ＨＶを画定する素子分離絶縁層２０と、前記素子形成領域１０ＨＶに設けられた絶縁ゲート型電界効果トランジスタ１００。 - 特許庁

Then the nozzle head 310 is moved in the Y-axis direction, and the luminescent layer formation material-containing liquid is similarly applied by discharging the luminescent layer formation material-containing liquid from the nozzles 401-407 between the banks 130.例文帳に追加

次にノズルヘッド３１０をＹ軸方向に移動させ、同様にバンク１３０間に発光層形成材料含有液をノズル４０１〜４０７から吐出して発光層形成材料含有液を塗布する。 - 特許庁

The applied voltage control part controls movement of the electric charge 12 in the element formation layer 13 by controlling the potential well 11 formed in the element formation layer 13 with application of the control voltage to the electrode 10.例文帳に追加

印加電圧制御部は、電極１０への制御電圧の印加により素子形成層１３に形成されるポテンシャル井戸１１を制御して素子形成層１３の電荷１２の移動を制御する。 - 特許庁

The support substrate 60 is peeled off a stack 40 including the electrode formation layer 62 and thin film transistor 30 and the electrode formation layer 62 is divided in a predetermined pattern to form pixel electrodes.例文帳に追加

その後、電極形成層６２及び薄膜トランジスタ３０を含む積層体４０から支持基板６０を剥離し、電極形成層６２を所定のパターン状に分割し、画素電極を形成する。 - 特許庁

In the electronic element, an adhesive layer 4 for an electronic device is formed on a bump 3 formation surface of a chip, and a heat conduction suppressing layer 2 is formed on a side of the chip opposed to the bump 3 formation surface.例文帳に追加

バンプ３形成面に電子デバイス用接着層４が形成され、バンプ３形成面とは逆側の面に熱伝導抑制層２が形成されていることを特徴とする電子素子。 - 特許庁

After the lyophilic property of the lyophilic fine particles 26 is induced by irradiating the hole transportation layer with an ultraviolet ray, a luminescent layer is stacked by forming upper-layer droplets containing a luminescent layer formation material on the hole transportation layer.例文帳に追加

そして、正孔輸送層に紫外線を照射して親液性微粒子２６の親液性を誘起させた後に、発光層形成材料を含む上層液滴を同正孔輸送層上に形成して発光層を積層するようにした。 - 特許庁

A semiconductor layer laminate ST including a first cladding layer 11, an active layer 12, and a second cladding layer 13 is formed on a substrate 10; and an irregularity formation layer 16 is formed with the light output surface on the laminate.例文帳に追加

基板１０上に、第１クラッド層１１、活性層１２及び第２クラッド層１３を含む半導体積層体ＳＴが形成されており、その上に、光取り出し面を有する凹凸形成層１６が形成されている。 - 特許庁

A solid lubricant film composed essentially of fine particles of zinc phosphate, which forms no reaction layer together with the outermost layer of a zinc coating layer or in which the formation of the reaction layer is suppressed to ≤0.1 g/m^2, is formed on the surface of the zinc coating layer.例文帳に追加

亜鉛系めっき層の表面に、該めっき層最表層と反応層を形成せずまたは該反応層の形成を 0.1 g/m^2 以下に抑制した、りん酸亜鉛微粒子を主体とする固形潤滑皮膜を被成する。 - 特許庁

To provide a coating method which enables alternate, defectless, and uniform formation of a laminated layer consisting of an upper coating layer and a lower coating layer and a single layer consisting only of the upper coating layer onto a surface of an object to be coated along its moving direction moving relative to a coating apparatus.例文帳に追加

塗布装置と相対的に移動する被塗布物の表面に、上層塗膜と下層塗膜との積層部と上層塗膜のみからなる一層部とを移動方向に交互に、欠陥なく、均一に形成する。 - 特許庁

The surface protective film 3 is formed by coextrusion film formation of at least one substrate layer 1 and an adhesive layer 2, and the substrate layer serving as the back layer of the adhesive layer contains a polyvinyl alcohol type resin.例文帳に追加

少なくとも１層の基材層１と粘着層２とが共押出により成膜された表面保護フィルム３であって、粘着層に対して背面層になる基材層にポリビニルアルコール系樹脂を含有する表面保護フィルム。 - 特許庁

When a layered structure of a transparent electrode layer and a metal layer is formed as a back electrode layer over a surface on a side opposite to a side of incidence of light of a thin-film solar cell, timing at which formation of the transparent electrode layer is completed and timing at which formation of the metal layer is started are adjusted to each other with respect to one substrate 10.例文帳に追加

薄膜太陽電池の光入射側とは反対側の面に裏面電極層として透明電極層及び金属層の積層構造を形成する際に、１つの基板１０に対して透明電極層の成膜を終了するタイミングと金属層の成膜を開始するタイミングとを合わせる。 - 特許庁

This belt is manufactured by the manufacturing method having (1) a base material layer formation process where an unvulcanized base material layer is formed by spirally winding an unvulcanized composition and a topping tape around the outer periphery of a cylindrical mold without any gap, (2) a vulcanization process where the unvulcanized base material layer is vulcanized, and (3) a surface layer formation process where the surface layer is formed.例文帳に追加

このベルトは、（１）未加硫ゴム組成物をトッピングテープを円筒状金型の外周に隙間なくらせん状に巻き付けて未加硫基材層を形成する基材層形成工程、（２）前記未加硫基材層を加硫する加硫工程、（３）表面層を形成する表面層形成工程を有する製造方法により製造する。 - 特許庁

A GND layer 14 nearest a forming layer of a wiring pattern 16 is cut off along with the formation route lower portion of the wiring pattern B (a cut-off portion extends the layer of a prepreg 15), a signal layer 12 left one more away is cut off along with the formation route lower portion of the wiring pattern 16, and a GND layer 17 is formed in this portion.例文帳に追加

配線パターン１６の形成層に一番近いＧＮＤ層１４を、配線パターンＢの形成経路下部に沿って切り取り（切り取った部分はプリプレグ１５の層を拡張する）、もう一つ離れた信号層１２を、配線パターン１６の形成経路下部に沿って切り取り、この部分にＧＮＤ層１７を設ける。 - 特許庁

To provide a decorative sheet wherein a topcoating layer excellent in weatherable close adhesiveness is laminated to a surface resin layer comprising a polyolefinic resin, a decorative sheet on which an OP layer used in the formation of the topcoating layer of the decorative sheet is laminated and an OP coating agent used in the formation of the topcoating layer of the decorative sheet.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂からなる表面樹脂層に耐候密着性の優れた上塗層が積層された化粧シート、及び該化粧シートの上塗り層の形成に用いられるＯＰ層が積層された化粧シート、及び該化粧シートの上塗層の形成に用いられるＯＰコート剤を提供する。 - 特許庁

In this thermally developed image recording material having at least one image formation layer on a base material and at least one protective layer provided over the image formation layer, the coefficient of dynamic friction between a surface having the image formation layer and the smooth surface of a stainless steel plate at 60°C is ≤0.7.例文帳に追加

支持体上に少なくとも１層の画像形成層と、この画像形成層の上部に設けられた少なくとも１層の保護層を有する熱現像画像記録材料において、画像形成層を有する面と６０℃のステンレス鋼板の平滑面との動摩擦係数が０．７以下であることを特徴とする熱現像画像記録材料。 - 特許庁

The method of manufacturing the membrane electrode assembly includes the processes of: i) manufacturing a catalyst layer formation body having the catalyst layer formed by vapor-depositing a catalyst on a surface of a porous film; and (ii) bonding the electrolyte film and the catalyst layer of the catalyst layer formation body together.例文帳に追加

本発明の膜電極接合体の作製方法は、ｉ）多孔質フィルムの表面に触媒を蒸着させることにより触媒層を形成した触媒層形成体を作製する工程と、ｉｉ）電解質膜と触媒層形成体の触媒層とを接合させる工程と、を備える。 - 特許庁

A hole injection layer and a luminescent layer are formed in each of the sub-pixels 515a, 515b and 515c by jetting droplets MO of a liquid substance such as a hole injection layer formation material or a luminescent layer formation material from a droplet jetting head to the center of each of the sub-pixels 515a, 515b and 515c.例文帳に追加

そして、正孔注入層形成材料や発光層形成材料などの液状物の液滴Ｍ０を液滴吐出ヘッドから各サブ画素５１５ａ、５１５ｂ、５１５ｃ中心位置に吐出して各サブ画素５１５ａ、５１５ｂ、５１５ｃに正孔注入層や発光層を形成する。 - 特許庁

The lithium ion secondary battery has a porous insulation layer formed at least on either the cathode plate having cathode activator layer or the anode plate having the anode activator layer containing anode activator particles, and the porous insulation layer has formation areas and non-formation areas.例文帳に追加

正極活物質層を備えた正極板、または負極活物質粒子を含む負極活物質層を備えた負極板のうち、少なくともいずれかの活物質層上に多孔質絶縁層を備え、この多孔質絶縁層は形成領域と非形成領域とを有する。 - 特許庁

As a result, a growth temperature in the formation of the buffer layer 11 can be increased, and natural cooling time from the heat treatment of the substrate 10 to the formation of the buffer layer 11, and heat-up time for forming the n-type GaN layer 12 after forming the buffer layer 11 are shortened.例文帳に追加

これにより、バッファ層１１形成時の成長温度を上げることができ、基板１０の加熱処理からバッファ層１１形成時の自然冷却時間及びバッファ層１１形成後にｎ型ＧａＮ層１２を形成するための昇温時間を短縮化できる。 - 特許庁

The formation of the oxide structure includes a step of forming a buffer layer of a buffer layer metal which is superposed on the free layer when forming, a step of forming a coated layer of a coated layer metal oxide which is superposed on the buffer layer and is put in contact with the buffer layer, and a step of oxidizing the buffer layer to form a buffer layer metal oxide.例文帳に追加

この酸化物構造の形成には、形成時にバッファ層金属であるバッファ層をフリー層の上に重ねて形成するステップと、被覆層金属の被覆層金属酸化物である被覆層をバッファ層に重ねて、かつバッファ層に接触させて形成するステップと、バッファ層を酸化させてバッファ層金属酸化物を形成するステップとが含まれる。 - 特許庁

Using the photo mask 34, openings for bottom electrodes of a capacitor are formed in an insulating layer in a memory cell array formation region, and grooves are formed in the insulating layer in a boundary between the memory cell array formation region and a peripheral circuit formation region.例文帳に追加

このようなフォトマスク３４を用いて、メモリセルアレイ形成領域における絶縁層に、キャパシタの下部電極が形成される開口部を形成し、メモリセルアレイ形成領域と周辺回路形成領域との境界における絶縁層に溝を形成する。 - 特許庁

To provide a formation method of a display panel member capable of reducing mixing between a dielectric formation material layer and a barrier rib formation material layer, and simplifying a process, and a transfer film capable of forming a member excelling in an aspect ratio and a pattern shape.例文帳に追加

誘電体形成材料層と隔壁形成材料層との間のミキシングを低減させ、かつ、工程を簡略化することができるディスプレイパネル部材の形成方法、並びにアスペクト比及びパターン形状に優れた部材を形成可能な転写フィルムの提供。 - 特許庁

The microlens substrate includes: a substrate 11 for lens formation, on which a microlens is formed; a resin layer 12 laminated on the side at which the microlens is formed in the substrate 11 for lens formation; and a barrier layer formed on the surface of the resin layer 12.例文帳に追加

マイクロレンズ基板は、マイクロレンズを形成するレンズ形成用基板１１と、このレンズ形成用基板１１のマイクロレンズが形成された側の面に積層された樹脂層１２と、この樹脂層１２の表面に形成されたバリア層と、を有する。 - 特許庁

To provide an organic EL display device having a superior organic compound layer with no effect of burrs and residues formed in formation of the lower layer, and to provide a manufacturing method of the organic EL display device enabling formation of this organic compound layer.例文帳に追加

下層の形成時において発生したバリや残渣に影響されることなく良好な有機化合物層を有する有機ＥＬ表示装置、及びこの有機化合物層の形成を可能にする有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a protective layer composition which forms a protective layer having excellent image durability, glossiness and gloss uniformity and to provide an apparatus for protective layer formation, an ink-jet printer and a method for image formation using the same.例文帳に追加

本発明の目的は、画像耐久性に優れ、かつ光沢性、光沢均一性に優れた優れた保護層を形成する保護層組成物、保護層形成装置、インクジェットプリンタ及びそれを用いた画像形成方法を提供することにある。 - 特許庁

The film 30 is bent along a curved surface of the pressurization roller 34 on a side of the pressurization rollers 34, 35, where the film 30 is collected, and accordingly, peeling is generated between the element formation layer 11 and the peeling layer 12 and the element formation layer 11 is transferred to the film 30.例文帳に追加

加圧用ローラ３４、３５のフィルム３０の回収側では、加圧用ローラ３４の曲面に沿ってフィルム３０が撓められるため、素子形成層１１と剥離層１２の間で剥離が生じ、素子形成層１１はフィルム３０に転置される。 - 特許庁

Since the film 30 is bent along the curvature of the pressing roller 34 on the film 30 recovering sides of the pressing rollers 33, 34, the element formation layer 11 and the peeling layer 12 are peeled from each other, and the element formation layer 11 is transferred to the film 30.例文帳に追加

加圧用ローラ３４、３５のフィルム３０の回収側では、加圧用ローラ３４の曲面に沿ってフィルム３０が撓められるため、素子形成層１１と剥離層１２の間で剥離が生じ、素子形成層１１はフィルム３０に転置される。 - 特許庁