「formation layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

After the formation of a reflection layer 102 on a base material 101 in which a groove is formed, a recording layer 103 is applied by a spin- coating method to bury the inside of the groove.例文帳に追加

溝が形成された基材１０１に反射層１０２を形成した後、スピンコート法により記録層１０３を塗布し、溝内部を埋め込むようにする。 - 特許庁

Consequently, the use amount of a gel material required for formation of the insulating layer 80 is reduced when compared to a case covering an entire of the lead 32 with an insulating layer.例文帳に追加

これにより、リード部３２の全体を絶縁層で覆う場合と比較して、絶縁層８０の形成に要するゲル材料の使用量が低減される。 - 特許庁

Then, as shown in figure 2(c), a fluorescent material is packed inside the window part 121 under the condition, to form a fluorescent layer 15 (fluorescent layer formation step).例文帳に追加

次に、図２（ｃ）に示されるように、この状態で、窓部１２１内部に蛍光材料を充填し、蛍光層１５を形成する（蛍光層形成工程）。 - 特許庁

A chemical resistance layer 21 is formed on the insulating layer 1, and partially provided at an edge part in a formation area for the conductor pattern 2.例文帳に追加

耐薬品性層２１は、絶縁層１の上に形成されており、導体パターン２の形成領域において縁部分に部分的に設けられている。 - 特許庁

A recessed part formation layer 132 is provided on one face of a base material layer 131 with an ultraviolet curing resin, and a plane part 133 and a plurality of recessed parts 134 are provided.例文帳に追加

基材層１３１の片面に紫外線硬化型樹脂によって凹部形成層１３２を設け、平面部１３３と複数の凹部１３４を設けた。 - 特許庁

The chemical resistance layer 21 is formed on the insulating layer 1, and partially provided at an edge part in a formation region for the conductor pattern 2.例文帳に追加

耐薬品性層２１は、絶縁層１の上に形成されており、導体パターン２の形成領域において縁部分に部分的に設けられている。 - 特許庁

To provide a high-intensity and high-resolution X-ray detector which reduces occurrence of film-peeling in a scintillator layer 13 or curvature in substrate caused by formation of a reflective layer 14.例文帳に追加

反射層14の形成によるシンチレータ層13の膜剥がれや基板の反りの発生を低減し、高輝度、高解像度のＸ線検出器を提供する。 - 特許庁

An AlN buffer layer 82 is grown for 100 nm on an SiC wafer 81, and an Si dope GaN layer 83 for ohmic electrode formation is grown.例文帳に追加

ＳｉＣ基板８１上にＡｌＮバッファー層８２を１００ｎｍ成長し、オーミック電極形成用のＳｉドープＧａＮ層８３を成長した。 - 特許庁

Formation of a two-dimensional electronic gas region by forming the conductive layer into a super-lattice structure reduces conduction resistance of the conductive layer.例文帳に追加

導電性層を超格子構造として二次元電子ガス領域を形成することで、導電性層の導通抵抗をより低減させることができる。 - 特許庁

The top coat layer 15 is allowed to stand for ten days after the coating film formation and drying, and is aged so that Tg of the top coat layer 15 reaches ≥60°C.例文帳に追加

このトップコート層１５は、塗膜形成及び乾燥後、１０日間放置して、そのトップコート層１５のＴｇが６０℃以上となるように熟成する。 - 特許庁

The undercoating layer is formed from a perhydropolysilazane solution and, at the time of formation of the undercoating layer, a solvent is volatilized by heat treatment to shorten a work time.例文帳に追加

アンダーコート層はペルヒドロポリシラザン系溶液により形成され、アンダーコート層形成時に、加熱処理により溶剤を揮発させて作業時間を短縮する。 - 特許庁

The substrate 10 over which an element formation layer 11 and a peeling layer 12 are formed and a film 30 are made to go through a gap between pressurization rollers 33, 34.例文帳に追加

加圧用ローラ３３と加圧用ローラ３４の隙間に、素子形成層１１および剥離層１２が形成された基板１０およびフィルム３０を通す。 - 特許庁

And then, a conductive material is deposited on the exposed surface of the interlayer insulating layer and in the contact hole 30 to form a plug formation layer.例文帳に追加

次に、上記層間絶縁層の露出表面上に及びコンタクトホール３０内に導電性材料を堆積してプラグ形成層を形成する。 - 特許庁

In addition, for the formation of the heat-resistant lubricative layer and the easily adhesive layer which meet the described conditions, it is useful to adopt a die coating process.例文帳に追加

また、上記条件を満たす耐熱滑性層及び易接着層の形成にダイコート法を採用することが有用であることを見出した。 - 特許庁

If the intermediate layer obtained by using such intermediate layer formation substance is introduced, the organic electroluminescent element of high efficiency and long life can be fabricated.例文帳に追加

このような中間層形成物質を用いて得た中間層を導入すれば高効率と長寿命の有機電界発光素子を製作できる。 - 特許庁

The red light reflective film 343B is provided with a gas barrier layer 343B1 formed as a first layer in contact with a reflective film formation surface 342D.例文帳に追加

この赤色光反射膜３４３Ｂに、反射膜形成面３４２Ｄに接する第１層として形成されたガスバリヤ層３４３Ｂ１を設けている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electronic component for effectively controlling a residue of a void in a shielding layer during the formation of the shielding layer by utilizing resin paste.例文帳に追加

樹脂ペーストを利用してシールド層を形成しながら、シールド層でのボイドの残存を効果的に抑制できる、電子部品の製造方法の提供を図る。 - 特許庁

To provide a coating device for hole transport layer formation capable of forming a hole transport layer of a polymer organic EL element in a uniform film thickness at low cost.例文帳に追加

高分子有機ＥＬ素子の正孔輸送層を均一な膜厚に低コストで形成することができる正孔輸送層形成用塗布装置を提供する。 - 特許庁

The vacuum insulating layer formation body 10 includes: an inner side shell 11; and an outer side shell 12 for forming the vacuum insulating layer in the space with the inner side shell 11.例文帳に追加

真空断熱層形成体１０は、内側シェル１１と、内側シェル１１との間で真空断熱層を形成する外側シェル１２とを有している。 - 特許庁

To prevent the formation of a water film on the surface of a formed water adjusting layer (a water repellent layer) in a fuel cell and stabilize the output of the fuel cell.例文帳に追加

燃料電池において生成水調整層（撥水層）の表面に水膜が形成されることを防止し、燃料電池の出力を安定させる。 - 特許庁

To prevent crack occurrence in a circuit formation region in dicing while preventing oxidation and corrosion of a seal ring including a copper layer in the uppermost layer.例文帳に追加

最上層に銅の層を有するシールリングの酸化および腐食を防止しつつ、ダイシングの際の回路形成領域におけるクラック発生を防止する。 - 特許庁

To suppress the formation of a conductive layer at an interface with a substrate in a state that heat generated at a resistor layer is easily conducted to the substrate side.例文帳に追加

抵抗層で発生する熱が基板の側に伝導しやすい状態で、基板との界面への導電層の形成が抑制できるようにする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor optical element, which allows the formation of an active layer including an Al-based III-V compound semiconductor layer with small damage.例文帳に追加

Ａｌ系III−Ｖ化合物半導体層を含む活性層を低いダメージで形成することを可能な、半導体光素子を製造する方法を提供する。 - 特許庁

Also, in forming the anti-ferromagnetic layer 6 of Rh/Mn alloy, the second magnetic layer 5 is formed at a film formation rate which is 0.181 nm/s or less.例文帳に追加

また、反強磁性層６をＲｈ−Ｍｎ合金によって形成する場合には、第２の磁性層５を０．１８１ｎｍ／ｓ以下の成膜レートで形成する。 - 特許庁

The dielectric layer 3 is formed in a region on the outer peripheral surface of the anode body 1 different from the formation region of the anode lead-out layer 2.例文帳に追加

誘電体層３は、陽極体１の外周面の内、陽極引出し層２の形成領域とは異なる領域上に形成されている。 - 特許庁

In forming the anti-ferromagnetic layer 6 of Ir/Mn alloy, the second magnetic layer 5 is formed at a film formation rate which is 0.078 nm/s or less.例文帳に追加

反強磁性層６をＩｒ−Ｍｎ合金によって形成する場合には、第２の磁性層５を０．０７８ｎｍ／ｓ以下の成膜レートで形成する。 - 特許庁

The ceramic layer 16 for capacitance formation is made of titanate system ceramic, and the ceramic layer 17 for level difference absorption is made up of CaZrO_3 system ceramic.例文帳に追加

容量形成用セラミック層１６はチタン酸塩系セラミックからなり、段差吸収用セラミック層１７はＣａＺｒＯ_３系セラミックからなる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a Mach-Zehnder modulator, which is capable of avoiding formation of a false mask and exposure of a clad layer from a contact layer.例文帳に追加

偽マスクの形成をさせると共にクラッド層がコンタクト層から露出することを回避可能にする、マッハツェンダー変調器を作製する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nitride-based semiconductor laser device which can suppress formation of a modified layer on an electrode layer caused by a manufacturing process.例文帳に追加

製造プロセスに起因して電極層の表面に変質層が形成されるのを抑制することが可能な窒化物系半導体レーザ素子を提供する。 - 特許庁

A lower electrode Ir layer 36, a ferroelectric film [SrBi_2Ta_2O_9 (SBT)] 38 and an Ir layer 40a for upper electrode formation are formed on a foundation one by one.例文帳に追加

下地上に、下部電極Ｉｒ層３６と強誘電体（ＳＢＴ）膜３８と上部電極形成用のＩｒ層４０ａを順次形成する。 - 特許庁

A substrate 10 having an element formation layer 11 and a peeling layer 12 formed thereon and a film 30 are put through a gap between a pressing roller 33 and a pressing roller 34.例文帳に追加

加圧用ローラ３３と加圧用ローラ３４の隙間に、素子形成層１１および剥離層１２が形成された基板１０およびフィルム３０を通す。 - 特許庁

The liquid 15 disperses electric charges generated on surfaces of the element formation layer 11 and the release layer 12, and thus, discharge due to peeling electrification is eliminated.例文帳に追加

液体１５により素子形成層１１および剥離層１２の表面に発生した電荷が拡散され、剥離帯電による放電をなくすことができる。 - 特許庁

On the resin insulating layer in the area in the frame portion 29, a plurality of non-formation areas 61 where a frame portion-side conductor layer 54 is absent are arranged.例文帳に追加

枠部２９内の領域における樹脂絶縁層上には、枠部側導体層５４が存在しない複数の非形成領域６１が配置される。 - 特許庁

An i-layer formation chamber 13 has a sealing gate 14 by stacking one layer of amorphous silicon i-type thin film on a piece-like stacking object 99.例文帳に追加

ｉ層生成チャンバー１３は、片状の積層対象物９９に一層のアモルファスシリコンｉ型薄膜を積層し、密封口１４を有する。 - 特許庁

After an Si_3N_4 film and a second SiO_2 film are formed on an intrinsic base layer, a surronding region of the intristic base layer is etched to form an external base formation region.例文帳に追加

真性ベース層上にＳｉ_3Ｎ_4膜と第２のＳｉＯ_2膜を形成後、真性ベース層の周辺領域をエッチングして外部ベース形成領域を形成する。 - 特許庁

To provide a formation method of an impurity layer capable of forming a deep impurity layer from a surface to an internal direction in a short time.例文帳に追加

表面から内部方向に向かって深い不純物層を短時間で形成することができる不純物層の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To simplify a formation process of a retardation layer, in a liquid crystal display panel which constitutes a semi-transmissive liquid crystal display, with a built-in the retardation layer.例文帳に追加

位相差層を内蔵した半透過型液晶表示装置を構成する液晶表示パネルにおける該位相差層の形成プロセスを簡略化する。 - 特許庁

Thus, when transferring an ink layer and a clear layer to the part 20 to be transferred, formation of a gap between the matching part 24 and the part 20 to be transferred is suppressed.例文帳に追加

このため、被転写部２０にインク層とクリア層とを転写する際に、合わせ部２４と被転写部２０との間に隙間ができることが抑制される。 - 特許庁

The liquid 15 disperses electric charges generated on the surfaces of the element formation layer 11 and the release layer 12, and thus, discharge due to peeling electrification is eliminated.例文帳に追加

液体１５により素子形成層１１および剥離層１２の表面に発生した電荷が拡散され、剥離帯電による放電をなくすことができる。 - 特許庁

To provide a transfer material allowing simultaneous formation of an electromagnetic wave shield layer and a decorative layer, and to provide a method for producing a molded article using the same.例文帳に追加

電磁波シールド層と加飾層とを同時に形成できる転写材およびこの転写材を用いた成型品の製造方法を提供する。 - 特許庁

Next, the vibration portion formation layer 104 and the strained layer 103 are removed selectively, and a thin line structure 105 is formed on the substrate 101.例文帳に追加

次に、振動部形成層１０４および歪み印加層１０３を選択的に除去し、基板１０１の上に細線構造１０５が形成された状態とする。 - 特許庁

The device formation layer 18 is protected by the first resist layer 62, and flip-chip connection is allowed by forming the penetration electrodes 56 to achieve miniaturization.例文帳に追加

第１レジスト層６２によりデバイス形成層１８を保護すると共に、貫通電極５６を設けてフリップチップ接続を可能にして小型化を図る。 - 特許庁

Conductive slurry is applied to a surface of a metal plate in an application process, and the applied conductive slurry is dried to form an application layer in an application layer formation process.例文帳に追加

塗布工程で、金属板表面に導電性スラリーを塗布し、塗布層形成工程で塗布された導電性スラリーを乾燥させて塗布層を形成する。 - 特許庁

1) An ion implantation method, 2) a clad method, 3) coating by an immersion method, 4) accumulation of the coating layer, and 5) electroplating or the like may be used for the formation of the composite layer.例文帳に追加

複合層の形成には１）イオン注入法、２）クラッド法、３）浸漬法による被覆、４）被覆層の堆積、５）電気メッキ法等を使用すると良い。 - 特許庁

One mount 3 keeps the adhesive layer 9 releasably bonded to a non-formation face 3B of the adhesive layer 9 of the other mount 3 to form a laminate.例文帳に追加

そして、一の台紙３は粘着剤層９を他の台紙３の粘着剤層９の非形成面３Ｂと剥離可能に粘着されて積層されている。 - 特許庁