「ion deposition」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an ion plating apparatus which can form a film having stable film characteristics on a workpiece by suppressing the re-vaporization of a formed film deposit which has been deposited on a hearth by the vaporization of a film material, or suppressing the deposition of a formed film deposit on the hearth, and to provide a film-forming method.例文帳に追加

膜材の気化によりハースに付着した成膜堆積物の再気化を抑制、または成膜堆積物がハースに堆積するのを抑制して、ワークに安定した膜特性を有する被膜を成膜することができるイオンプレーティング装置および成膜方法を提供すること。 - 特許庁

In this slice sample fixing method, deposition by focused ion beam irradiation is applied to a predetermined position of the slice sample placed on the sample base or the fixing base such as a mesh while gas is jetted by means of a gas gun, and consequently, the slice sample is fixed to the fixing base.例文帳に追加

本発明の薄片試料の固定方法は試料台若しくはメッシュなどの固定台上に載置された薄片試料の所定個所に、ガス銃によってガスを噴射しつつ集束イオンビームを照射するデポジションを施し、これによって、前記固定台に薄片試料を固定するようにした。 - 特許庁

Consequently, a ratio of the actual surface area of the piezoelectric/electrostrictive element 14 to the surface area of orthogonal projection of the side end face of the piezoelectric/electrostrictive element 14 is 4 or smaller, so that the moisture deposition on the side end face can be suppressed to such an extent as to substantially prevent electric leakage or ion migration.例文帳に追加

これにより、圧電／電歪素子１４の側端面の正射影の面積に対する同圧電／電歪素子１４の実際の表面積の割合が「４」以下となり、漏電やイオンマイグレーションが実質的に発生しない程度にまで同側端面への水分の付着が抑制され得る。 - 特許庁

The manufacturing method includes: segmenting a comb-like portion 16 from a metal thin plate 15 with a thickness of 30 μm or less using a convergent ion beam processing technique; and mounting and integrating the comb-like portion with the probe supporting part 12 of a mechanism capable of manipulation within a vacuum device, using a gas deposition function.例文帳に追加

その製造方法は、３０μｍ厚み以下の金属薄板１５から櫛形状部位１６を集束イオンビーム加工技術により切り出し、真空装置内でマニピュレート操作できる機構のプローブ支持部１２に、ガスデポジション機能を用いて取り付けて一体化する。 - 特許庁

A bed layer 22 of ZrO_2-Y_2O_3 mixed oxide and an intermediate layer 23 made of film deposited by an ion beam assist deposition method are provided on a metal base material 21, and the oxide superconductor layer is laminated onto them so as to be used for the substrate of the oxide superconductor.例文帳に追加

本発明は、金属基材２１上に、ＺｒＯ_２−Ｙ_２Ｏ_３混合酸化物のベッド層２２とイオンビームアシスト法により成膜された中間層２３とが備えられ、酸化物超電導層が積層されて酸化物超電導導体の基材として利用されることを特徴とする。 - 特許庁

In the method, an oriented thin film exhibiting high anisotropy in electric conductivity that high ion conductivity is shown in a film thickness direction is deposited on the surface of a porous ceramic solid electrolyte layer from a crystalline oxide target depositing a proton conductive film by a pulsed laser ablation deposition method (PLD).例文帳に追加

多孔質のセラミック固体電解質層表面にプロトン導電性膜を形成する結晶性の酸化物のターゲットからパルスレーザアブレーション堆積法（ＰＬＤ）により膜厚方向に高いイオン導電性を示す電気伝導度に高い違法性を示す配向性薄膜を形成する方法。 - 特許庁

To provide an electro-chemical machining apparatus where ions or the like taken into contact members such as ion exchangers are continuously removed while machining a work, the deposition and precipitation of machining products at the insides of electrodes and the contact members are suppressed, and electro-chemical machining can be continuously performed.例文帳に追加

被加工物を加工しながら連続的にイオン交換体などの接触部材に取り込まれたイオン等を除去し、電極および接触部材の内部における加工生成物の堆積や析出を抑制して連続的に電解加工を行うことができる電解加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a photomask deficiency defect by which an FIB (focused ion beam) correction device can be used as a tool to correct a minute edge deficiency defect portion in a circuit pattern part, the deficiency defect region of the circuit pattern part is subjected to vapor deposition with high accuracy, and the photomask having excellent cleaning durability can be obtained.例文帳に追加

回路パターン部の微小なエッジ欠損欠陥部を修正するツールとしてＦＩＢ修正装置を用いることができ、精度良く回路パターン部の欠損欠陥領域に蒸着するとともに、フォトマスクの耐洗浄性に優れたフォトマスク欠損欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

The negative electrode includes: a strip-shaped negative electrode collector; a strip-shaped negative electrode active material layer comprising a plurality of columnar bodies of an alloy-based active material supported on the surface of the negative electrode collector; and a strip-shaped lithium ion conductive resin film formed on the surface of negative electrode active material layer by deposition.例文帳に追加

負極は、帯状の負極集電体と、負極集電体表面に支持された複数の合金系活物質の柱状体からなる帯状の負極活物質層と、負極活物質層表面に被着形成された帯状のリチウムイオン伝導性樹脂膜とを備える。 - 特許庁

Preferably, the liquid-impermeable catalyst layer is formed through at least one process chosen from electroplating, vapor deposition, sputtering and ion plating, has a thickness of 0.5-30 μm and has a platinum group metal deposited inside or on its surface through electroless plating.例文帳に追加

前記液不透過性触媒層が電気めっき、蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティングのいずれかの１つ以上の方法により形成され、その厚さが０．５μｍから３０μｍであること、前記隔膜の表面或いはまた内部に、無電解めっきによる白金族金属を担持していることが好ましい。 - 特許庁

On an electrode with SiO_x (0.2<x<1.4) formed on a collector, lithium is reacted with an irreversible capacity equivalent quantity of metal having a redox potential more electropositive than that of lithium and producing silicate by a deposition, spattering or ion plating method or electrochemically.例文帳に追加

ＳｉＯ_ｘ（０．２＜ｘ＜１．４）を集電体上に形成した電極上に、リチウムと、それよりも酸化還元電位が貴であって、且つケイ酸塩を生成する金属を蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング法あるいは電気化学的に不可逆容量相当量を反応させる。 - 特許庁

At evenly scraping the surface of a silicon substrate comprising a horizontal surface and a slope an anisotropic dry-etching method, the etching condition of a reactive ion etching cycle comprising deposition and etching is set to a following condition: E1<D1, D2<E2, and D3<E3.例文帳に追加

水平面及び傾斜面を有するシリコン基板の表面を異方性ドライエッチング法により一様に削り取るに際し、デポジションとエッチングとからなる反応性イオンエッチングのサイクルのエッチング条件を下記で示される条件に設定することを特徴とするシリコンウエハ構造体の製造方法。 - 特許庁

In an ion plating apparatus 10, the center O2 of a substrate W is determined at a position deviated from the position immediately above the center O1 of a hearth 3a which has a vapor deposition material 6 filled in a through hole TH by a distance D which is one half of the length of one side of the substrate W.例文帳に追加

イオンプレーティング装置１０は、蒸着材料６を貫通孔ＴＨに装填したハース３ａの中心点Ｏ１の直上の位置から基板Ｗの１辺の半分の長さ分の距離Ｄだけずれた位置に基板Ｗの中心点Ｏ２が定められる。 - 特許庁

To provide a method for treating waste liquid from regenerated ion exchange resin which can remove colloidal- or scum-precipitates generated by neutralization of ions in a high concentration state in a compact device, and which solves problems such as plugging-up and deposition of floating scum in a sump pit and a drainage trench.例文帳に追加

イオンの高濃度状態で中和処理して生成したコロイド状乃至スカム状の沈殿物の除去をコンパクトな設備で行なうことができ、排水ピットや排水溝でのスカムの浮遊詰りや沈積等も解消することができるイオン交換樹脂再生廃液の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique of a liquid supplying-pipe put-in type vortex-flow based atomization nozzle which can easily and cheaply correspond to such various problems as deposition of a solid matter generated inside a liquid passage, abrasion, fouling, elution of a metal ion and corrosion of the liquid passage.例文帳に追加

液体通路の内部で発生する固形物の堆積、磨耗、汚れ、微粒化する液体中への金属イオンの溶出、液体通路の腐蝕等の諸問題に対し、容易かつ安価に対応できる液体送給菅嵌入型渦流式微粒化ノズルの技術を提供する。 - 特許庁

A method of producing a base material for superconductive thin film comprises: a first step of depositing a bed layer on a metal base plate; a second step of forming an orientation layer on the bed layer by an ion beam assisted deposition; and a third step of forming a cap layer comprising CeO_2 on the orientation layer by a sputtering.例文帳に追加

超電導薄膜用基材の製造方法において、金属基板上にベッド層を成膜し（第１工程）、ベッド層上にイオンビームアシスト蒸着法により配向層を形成し（第２工程）、配向層上にスパッタ法によりＣｅＯ_２からなるキャップ層を形成する（第３工程）。 - 特許庁

The conductive layers include conductive materials, such as metals, metal oxides or carbon, formed on the film by a technique, such as vapor deposition or ion sputtering and the conductive resins, such as resins containing the conductive materials and conductive high polymers, formed as multilayers.例文帳に追加

また導電層としては、金属や金属酸化物あるいはカーボンなどの導電性材料を蒸着、イオンスパッタリングなどの手法によりフィルム上に形成したもの、導電性材料を含有する樹脂、導電性高分子などの導電性樹脂を多層化したものなどが挙げられる。 - 特許庁

When the catalyst component is dispersed and deposited on the surface of the oxide, a solution containing the catalyst component or the precursor of the catalyst component is brought into contact with the oxide or the catalyst component is brought into contact with the oxide by any one method of sputtering, ion plating, and vacuum deposition.例文帳に追加

酸化物の表面に触媒成分を分散担持させるに際しては、触媒成分または触媒成分の前駆体を含む溶液を酸化物と接触させ、または、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着のいずれかにより触媒成分を酸化物と接触させている。 - 特許庁

To provide a working method which is capable of realizing sharp working of not producing bluntness in corner parts and bent parts in as-designed pattern boundary regions when the corner parts and end bent parts are subjected to deposition processing or etching processing of prescribed patterns by using a convergent ion beam device and a device therefor.例文帳に追加

本発明の目的課題は、集束イオンビーム装置を用いて所定パターンのデポジション加工またはエッチング加工を施す場合に、設計どおりのパターン境界領域であって、角部・曲部に鈍りが出ないシャープな加工を実現出来る加工方法並びにその装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an insulative wiring board, by which the deposition or the formation of bridges on the outside of a pattern can be suppressed by inactivating an adsorbed chelating agent and at the same time, inhibiting trapping of Au ion and formed Au-nuclei in a substitution or reduction plating method.例文帳に追加

本発明は、吸着したキレート剤を不活性化するとともに、置換及び還元めっき法のＡｕイオン及び生成したＡｕ核を捕捉しないようにし、パターン外の析出やブリッジ発生がない、絶縁性配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In forming the metal coating film 4, the golf ball activated by ion bombardment is held by a needlelike body 8 of a first implement 71 and, after the deposition of the metal coating film 4, it is replaced onto a second implement 72, forming the metal coating film 4 and a protective layers 5, 6 on the surface.例文帳に追加

また、この金属被膜４を形成する場合、イオンボンバード処理によって活性化処理されたゴルフボールを第一の治具７１の針状体８で保持し、金属被膜４を形成した後、第二の治具７２に移し替えて表面に金属被膜４や保護層５、６を形成する。 - 特許庁

The method of a manufacturing method of an ion conductive polymer film for a fuel cell includes a process in which at least two identical or different polymerizable monomers, each including at least one polymerizable group and at least one precursor group of an ion conductive functional group selected from groups formed by phosphonyl ester, acyl ester, sulfonyl ester, halogenated carbonyl or halogenated thionyl, undergo a plasma chemical deposition.例文帳に追加

それぞれが、少なくとも１つの重合可能な基と、ホスホニルエステル、アシルエステル、スルホニルエステル、ハロゲン化カルボニル、またはハロゲン化チオニルによって形成される基から選択されるイオン伝導性官能基の少なくとも１つの前駆体基とを含む少なくとも２つの同一または異なる重合可能なモノマーをプラズマ化学蒸着させることによって燃料電池のイオン伝導性高分子膜を製造する。 - 特許庁

The protective film for PDP is formed by the electron beam vapor deposition method, the ion irradiation vapor deposition method or the sputtering method using the single crystal MgO sintered compact as the target material.例文帳に追加

粒径２００μm以上の粒子を含有するとともに、Ｘ線回折法により測定した（２００）面のＸ線強度及び（１１１）面のＸ線強度を、それぞれａカウント毎秒及びｂカウント毎秒としたとき、２０＜ａ／ｂ＜３００であることを特徴とする単結晶ＭｇＯ焼結体、及び、この単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したＰＤＰ用保護膜である。 - 特許庁

While inorganic white pigment is effectively concentrated in a 1st electrolytic layer 4A to improve the contrast by whitening of the electrolytic layer, the electrolytic layer is decreased in amount of the inorganic pigment on the whole, and a 2nd electrolytic layer 4B is increased in content of electrolytic and ion conductive media to increase ion conductivity, thereby improving reaction characteristics of electrochemical deposition and erasure by metal ions etc.例文帳に追加

第１の電解質層４Ａには、無機白色顔料を効果的に集中させることにより、電解質層の白色化によるコントラストの向上を実現しながら、電解質層全体としては無機顔料を減量すると共に、第２の電解質層４Ｂは、電解質及びイオン伝導媒質の含有量を高め、イオン伝導性を増し、金属イオンなどによる電気化学的な析出及び消去の反応特性を向上させる。 - 特許庁

An aluminum oxide vapor deposition layer of aluminum oxide expressed by the general formula of AlOx (X is 1.5-1.7) is formed on a plasma-pretreated layer formed by applying pretreatment by reactive ion etching (RIE) using plasma on at least one surface of a substrate of a plastic material.例文帳に追加

プラスチック材料からなる基材の少なくとも一方の面にプラズマを利用したリアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）による前処理によって設けられているプラズマ前処理層上に、一般式ＡｌＯｘで表され、Ｘが１．５〜１．７の範囲である酸化アルミニウムからなる酸化アルミニウム蒸着層を設ける。 - 特許庁

An arc ion plating apparatus comprises a vacuum chamber 1, a rotary table 2 for moving a substrate within the vacuum chamber vertically relative to its height direction, an arc evaporation source 9A for bombardment for cleaning the surface of the substrate with metal ions, and a plurality of evaporation sources 7A for deposition for depositing metal ions on the surface of the substrate.例文帳に追加

真空チャンバー１と、基材を真空チャンバー内でその高さ方向に対して垂直方向に移動させる回転テーブル２と、前記基材の表面を金属イオンでクリーニングするボンバード用蒸発源９Ａと、金属イオンを前記基材の表面に成膜する複数の成膜用蒸発源７Ａを備える。 - 特許庁

A high-hardness hydrophobic porous complex with carbon fine particles uniformly dispersed is obtained by condensing dispersed liquid of FEP resin and the carbon fine particles by an electrophoretic deposition method or a phase separation method using a colloidal state of non-ion interface activator and heating it up to a temperature higher than a melting point of the FEP resin.例文帳に追加

フッ素樹脂及び炭素微粒子の分散液を、電気泳動電着法又は非イオン界面活性剤のコロイド化を利用した相分離法で濃縮し、これをフッ素樹脂の融点以上の温度に加熱することにより、炭素微粒子が均一に分散されかつ硬度の高い疎水性多孔質複合体を得る。 - 特許庁

In the method of manufacturing a tape base material for superconducting wire rod 2 in which an orientation layer 21 is formed on a metal substrate 10 by an ion beam assisted vapor deposition method and a buffer layer 22 is formed on the orientation layer, lattice distortion of the orientation layer is alleviated by giving a prescribed thermal history to the orientation layer.例文帳に追加

金属基板上１０にイオンビームアシスト蒸着法により配向層２１を形成し、この配向層の上に緩衝層２２を形成する超電導線材用テープ基材２の製造方法において、配向層に所定の熱履歴を与えることにより配向層の格子歪みを緩和する。 - 特許庁

The resultant bamboo extract is divided into two parts and precipitate of iron chlorophylline component is obtained by deposition using an acid from either one extract and the precipitate is mixed with the other extract to dissolve the precipitate and the solution is neutralized with an ion exchange resin (II) and the deposited silica is filtered to provide the objective bamboo extract enhanced in iron chlorophylline component concentration.例文帳に追加

２．得られたササ抽出液を２分割し、一方の抽出液から酸析で鉄クロロフィリン成分の沈殿物を得、該沈殿物を他方の抽出液に混合溶解せしめ、該溶解液をイオン交換樹脂（Ｈ）で中和して析出シリカを濾去し、鉄クロロフィリン成分濃度を高めたササ抽出液を得る。 - 特許庁

Thickness of the coating layer formed by the μm-level deposition in the form of the vapor phase or the ion such as sputter or evaporation is several μm, so that adhesion and denseness shut off impurities floating from the inside of the alumina base material, and the deformation of the alumina container by thermal expansion difference thereof can be avoided.例文帳に追加

スパッター又は蒸着などの気相、イオンの形態でμｍレベルの堆積により形成されるコーティング層は数μｍの厚さであって、密着性と緻密性によりアルミナ基材内から浮上する不純物を遮断すると共にその熱膨張差などによるアルミナ容器の変形を回避できる。 - 特許庁

A first coating by first treatment selected from the group consisting of electroplating treatment, electroless plating treatment and heat treatment is applied to the surface of a base material, and a second coating by second treatment selected from the group consisting of vapor deposition treatment and ion beam treatment is applied to the surface of the first coating.例文帳に追加

電解メッキ処理、無電解メッキ処理、および熱処理からなるグループから選択される第１の処理による第１のコーティングを基材の表面に施し、前記第１のコーティングの上に、蒸着処理およびイオンビーム処理からなるグループから選択される第２の処理による第２のコーティングを施す。 - 特許庁

To provide a plating method and a plating device capable of increasing limiting current to improve the deposition rate of metallic ion and particularly suitable for infilling the inside of deep holes or grooves formed on the surface of a substrate to be plated with a metal plating film without causing a void inside which is formed by the clogging of an inlet.例文帳に追加

限界電流を増加させ金属イオンの析出速度を向上させることができ、特に被めっき基板の表面に形成された深い穴や溝に対して、入り口の閉塞により内部に空隙が生じさせないで、内部を金属めっき膜で埋めるのに好適なめっき方法及びめっき装置を提供する。 - 特許庁

In the method for synthesizing carbon nanotubes 4 by catalytic vapor deposition of carbon from a vapor phase on a catalyst layer 3 formed on a support member 1, in order to alter the physical, chemical and/or electrically conductive properties of carbon nanotubes, ion beams 2 are used before, during and/or after formation of the carbon nanotubes 4.例文帳に追加

カーボンナノチューブの物理的、化学的及び／又は導電性特性を変更するために、イオンビーム２をカーボンナノチューブ４形成の前、間及び／又は後に用いる、気相からのカーボンの触媒蒸着により、支持体部材１上に形成された触媒層３にカーボンナノチューブ４を合成する方法とする。 - 特許庁

Pretreatment using plasma of a reactive ion etching (RIE) mode is applied to at least one surface of a polyethylene naphthalate (PEN)/polyethylene terephthalate (PET) co-extrusion film and a vapor deposition layer consisting of a metal or an inorganic compound of 5-100nm thickness is provided on the treated surface of the co-extrusion film to constitute the high performance barrier film.例文帳に追加

ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）／ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）共押し出しフィルムの少なくとも一方の面に、リアクティブイオンエッチング（ＲＩＥ）モードのプラズマを利用した前処理を施し、その上に厚さ５〜１００ｎｍの金属もしくは無機化合物からなる蒸着層を設けることを特徴とする高性能バリアフィルムである。 - 特許庁

A porous insulation layer having a thickness of not thinner than 0.3 μm and not thicker than 3 μm is deposited on an activator layer of either a positive electrode plate having a positive electrode activator layer or a negative electrode plate having a negative electrode activator layer containing negative electrode activator particles, by a sputtering method, an ion plating method, or a CDV method (chemical vapor deposition method).例文帳に追加

正極活物質層を備えた正極板、または負極活物質粒子を含む負極活物質層を備えた負極板のうち、少なくともいずれかの活物質層上に厚みが０．３μｍ以上３μｍ以下の多孔質絶縁層をスパッタリング法、イオンプレーティグ法、ＣＶＤ法で堆積させる。 - 特許庁

Firstly, a silicon film having the suitable thickness, is formed on the surface of the steel material in the general film forming method, such as vapor-deposition, spattering, ion-plating and the silicon is diffused into the inner part of the steel material by heating and holding this in the vacuum or in the inert gas atmosphere to form the silicon permeated layer on the surface layer of the steel material.例文帳に追加

先ず、鋼材の表面上に蒸着、スパッタリング、及びイオンプレーティング等の一般的な成膜方法で適切な厚さの珪素皮膜を形成し、これを真空中又は不活性ガス雰囲気中で加熱保持して珪素を鋼材内部へ拡散させ、鋼材の表層部に珪素浸透層を形成する。 - 特許庁

To provide an efficient processing method and its device that realize uniform processing without bluntness of the pattern border area and can perform plural pattern processing at the same time in implementing deposition processing or etching processing of prescribed patterns using the focusing ion beam device.例文帳に追加

本発明の目的課題は、集束イオンビーム装置を用いて所定パターンのデポジション加工またはエッチング加工を施す場合に、パターン境界領域の鈍りが出ない均一な加工を実現し、複数のパターン加工を同時に実行出来る効率的な加工方法並びにその装置を提供することである。 - 特許庁

A magnetic layer 2 having a ferromagnetic metal thin film having film thickness of 100 nm or less is formed at a main plane of a non-magnetic supporter of long-length, a protective layer 3 containing carbon formed by the chemical vapor deposition utilizing an ion source including the hollow cathode is formed on its upper layer.例文帳に追加

長尺状の非磁性支持体１の一主面に、１００ｎｍ以下の膜厚を有する強磁性金属薄膜を有する磁性層２が形成され、その上層に、ホローカソードを含むイオン源を利用する化学気相成長法により形成された炭素を含有する保護層３が形成された構成の磁気記録媒体とする。 - 特許庁

The thin ferroelectric films having uniaxial preferential orientability are manufactured by forming ≥2 kinds of the thin ferroelectric films having a plurality of kinds of the preferential orientability on a polycrystalline Pt film formed on a substrate of any among a single crystal, polycrystals, or amorphous material by using an a chemical solution deposition process and an arc discharge reactive ion plating process.例文帳に追加

化学溶液堆積法とアーク放電反応性イオンプレーティング法を用いて、単結晶、多結晶、非晶質の何れかの基体上に形成された多結晶のＰｔ膜上に、２種類以上の複数種の優先的な結晶配向性の強誘電体酸化物薄膜を形成し、１軸優先配向性の強誘電体薄膜を作製する。 - 特許庁

The production method for the carbon composition material for the reducing atmosphere furnace is carried out by using metal Ta as a target material and the reactive gas containing C and forming the tantalum carbide coating film on the graphite substrate having the above thermal expansion coefficient as the characteristic value by an arc ion plating (AIP) type reactive vapor deposition method.例文帳に追加

また、本発明の還元性雰囲気炉用炭素複合材料の製造方法は、ターゲット材としての金属Ｔａ及びＣを含む反応ガスを使用してアークイオンプレーティング（ＡＩＰ）式反応性蒸着法により上記の熱膨張係数を特性値として有する黒鉛基材の表面に炭化タンタルの皮膜を形成する。 - 特許庁

In a collector for lithium ion battery comprising a film base material composed of a resin composition and a collection layer composed of a thin layer that is formed by vapor deposition of copper or aluminium on a single side or both sides of the film base material, the portion constituting the electrode extraction side is formed thicker than other thin film portions.例文帳に追加

樹脂組成物からなるフィルム基材と、前記フィルム基材の片面或いは両面に銅或いはアルミニウムの蒸着により形成された薄膜からなる集電層とを有するリチウムイオン電池用集電体において、リチウムイオン電池形成時に電極引出し側となる部分が他の薄膜部分よりも厚く膜形成されている。 - 特許庁

To provide a corona discharge type static eliminator capable of reducing the frequency of replacing and cleaning a static eliminating needle, by uniforming damage phenomenon and particle deposition at the tip of each static eliminating needle of positive polarity and negative polarity to keep ion balance.例文帳に追加

除電針の損傷やパーティクルの堆積に起因するイオンバランスの崩れに対処するものであり、正極性及び負極性の各除電針先端の損傷現象及びパーティクル堆積を均一とすることにより、イオンバランスの保持を図り、除電針の交換と清掃の頻度を減少させることができるコロナ放電式除電装置を明らかにする。 - 特許庁

Almost of the film deposition particles produced by making Ar ion in the plasma incident to the sputtering target 52 are ionized by the plasma in the space over the sputtering target 52 to be made incident to the surface of a work W and then a highly oriented film free from damage is deposited on the work W by controlling the potential of the surface of the work W.例文帳に追加

このようなプラズマ中のＡｒイオンがスパッタ・ターゲット５２に入射することによって生じた成膜粒子は、スパッタ・ターゲット５２上空のプラズマによってそのほとんどがイオン化されてワークＷ表面に入射するので、ワークＷ表面の電位を調節することにより、ワークＷ上にダメージない高配向膜を形成することができる。 - 特許庁

By this constitution, even if an ion particle 118 collides against the surface of the support 10, particularly an end surface 74, at film deposition treatment and resultingly particles 124 and 126 of a film 90 are sputtered from the end surface 74, the sputtered particles 124 and 126 do not redeposit on the surface of the object 20 to be treated.例文帳に追加

この構成によれば、成膜処理時に、イオン粒子１１８が支持具１０の表面、特に先端面７４、に衝突することによって当該先端面７４から被膜９０の粒子１２４および１２６が叩き出されたとしても、この叩き出された粒子１２４および１２６が被処理物２０の表面に再付着することはない。 - 特許庁

The monolayer film and the multilayer film include a layer made of at least zirconium oxide, and the layer made of zirconium oxide is formed on the substrate according to an ion-assist deposition while introducing nitrogen gas, argon gas or a mixed gas thereof.例文帳に追加

基板の上に薄層を形成してなる耐擦傷性物品の製造方法であって、前記薄層は単層膜または多層膜からなり、前記単層膜および多層膜は、少なくとも酸化ジルコニウムからなる層を含み、前記酸化ジルコニウムからなる層を、窒素ガス、アルゴンガス、またはこれらの混合ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着により前記基板上に形成する。 - 特許庁